被配设在微动台2上，包括吸附并保持基板的吸附区域2B。吸附区域2B被构造为通过多个隔壁(partit1n wall)(边界)将吸附区域2B分割为多个吸附区域，并且能够针对各吸附区域进行压力调整。具体而言，隔壁2D被配设在基板保持部2A的最外圆周区域中，隔壁2D包围的吸附区域能够保持直径450mm(第二外径)的基板(第二基板)。此外，在隔壁2D的内部还配设有隔壁2E，并且隔壁2E包围的吸附区域能够保持直径300mm(第一外径)的基板(第一基板)。实际上，在图3中例示了吸附并保持两种不同直径的基板的状态。图3A例示了基板保持部2A保持直径300mm的基板IA的状态。此外，图3B例示了基板保持部2A保持直径450mm的基板IB的状态。如上所述，基板保持部2A能够吸附并保持两种不同直径的基板。此外，尽管这里描述了与两种直径450mm和300mm相对应的基板保持部作为示例，但是基板保持部可兼容的基板直径及基板数量不限于此。例如，第一外径可以被指定为200mm，第二直径可以被指定为300mm，并且还可以配设包围与第一和第二直径的基板相对应的吸附区域的第三外径的吸附区域。
[0027]在本实施例中，基板保持部2A的吸附区域2B被进一步分割为多个区域。如图2A所示，隔壁2F至2J是在预定方向上布置的平行直线(直线边界线)，隔壁2F和2J与由隔壁2E包围的区域外接(在一个点相交)，并与隔壁2D连接。此外，隔壁2G至21连接到隔壁2D和2E(在两个点相交)。因此，吸附并保持直径300mm的基板的吸附区域被分割为由隔壁2E与在预定方向上布置的三个平行隔壁2G至21限定的四个吸附区域区I至区4。此外，吸附并保持直径450mm的基板的吸附区域被分割为由隔壁2E与在预定方向上布置的五个平行隔壁2F至2J限定的六个吸附区域区I至区6。此外，如图2A所示，与直径450mm的基板相对应的吸附区域区I指示包括针对直径300mm的基板配设的区I以及针对直径450mm的基板配设的两个位置的区I的总计三个位置的所有区域。根据该结构，能够与压印处理中的处理同步地局部调整用于吸附基板I的力。此外，能够提供方便处理并且以高精度控制平整度的基板保持部。
[0028]此外，在本实施例中，考虑到隔壁2E包围的吸附区域的面积比，布置上述隔壁2G至21。具体而言，当在基板I的外径是直径300_(这里，考虑到基板I的外径公差，实际上减少0.1mm到0.5mm来形成基板)的状态下，各吸附区域被等面积分割时，吸附区域区I和区4的宽度尺寸(间隔)变为89.4_。这里，吸附区域区I和区4的宽度尺寸是从隔壁2G和21到隔壁2E的最大距离。此外，吸附区域区2和区3的宽度尺寸(从隔壁2G和21到隔壁2H的距离)变为60.6mm。
[0029]接下来，将描述针对基板保持部2A的吸附区域生成吸附力(利用负压)的结构。图2B是图2A的X轴方向的截面图。如图2B所示，基板保持部2A包括用于针对各吸附区域生成吸附力的真空管2C。真空管2C与各吸附区域连接。如图2A所示，隔壁2D至2J形成隔壁在平面内是封闭的形状，并且在基板I覆盖时形成独立的密闭空间(吸附区域)。压力调整装置(未示出)经由真空管2C与这些密闭空间的各个连接。该压力调整装置连接到真空栗和压缩机(未示出)，使得能够连续切换各密闭空间内的气压。控制装置(未示出)能够与压印操作中的处理同步地指示压力调整装置调整密闭空间内的压力，并局部地调整用于吸附基板I的力。图2C是例示局部调整用于吸附基板I的力的状态的图，并且是图2A的Y轴方向的截面图。在本实施例中，由于如上所述能够单独地调整基板保持部2A的各吸附区域的压力，因此紧接在基板I上进入剥离步骤之前，能够与剥离位置相对应的位置相关联地局部减弱针对基板I的吸附力。因此，如图2C所示，在剥离方向上局部提起基板1，并且针对剥离方向的力处于模具5侧和基板侧的平衡状态。此时，由于基板I和模具5在因树脂而处于接触状态的部分的外周互相以凸形状变形，因此在接触部的外周倾向于发生剥离。相应地，尽管当一次剥离接触部的整个表面时需要大的剥离力，但是通过制造倾向于从外周发生剥离的状态，能够以1/2至1/10的小剥离力逐步进行剥离。
[0030]下文中，描述与由吸附区域的间隔指定吸附区域的情况相比，如上所述由基板保持部2A的吸附区域的面积比指定吸附区域的优点。当在图2A中考虑在隔壁2E内侧的区域时，当通过等间隔的平行线将圆形吸附区域分割为4个分割时的区1:区2:区3:区4的面积比变为61:96:96:61。窄面积的区域区I和区4比宽面积的区域区2和区3窄36%。例如，当直径300mm的外径的基板的吸附区域被等间隔分割时，所有平行线的间隔都是75mm。此时，吸附区域的面积变为138Cm2、215Cm2、215Cm2以及138cm2。另一方面，当吸附区域被等面积分割时，通过将直径300_的圆的面积4等分，分割区域的面积都变为177cm2。用于将面积4等分的平行线的间隔变为89.41mm、60.59mm、60.59mm以及89.41mm，并且宽度尺寸根据方向上的位置而不同。
[0031]如上所述，在基板I与模具5的剥离步骤中，通过与相应的区域相关联地减弱针对基板I的吸附力，能够顺利地执行剥离。因此，例如，当在图2A的隔壁2E内侧的区域中区2与区3之间的边界部中存在剥离步骤的注射时，基板I被构造为通过放开区域区2和区3的吸附力而仅被区I和区4的吸附力固定。此时，在等间隔的分割中吸附区域变为276cm2，而在等面积分割中变为354cm2。相应地，在等面积分割与等间隔分割中，吸附区域的面积比变为1.3，并且可获得等面积分割的吸附力的1.3倍的强吸附力。此外，即使当在等面积分割的情况下注射跨越的区域是其他组合时，剩余两个区域的总面积也是常量，并且吸附力不会增强或减弱。当如上所述分割吸附区域时，由于注射区域的尺寸(最大为对角线距离)小于各吸附区域的尺寸，因此注射区域不会跨越三个或更多个吸附区域。即，注射区域最多仅跨越两个吸附区域。即，能够在整个基板I的1/2以上的面积中使用强吸附力持续地固定基板I。此外，尽管描述了基板保持部2A的隔壁2E包围的吸附区域被等面积分割的情况，但是本发明不限于吸附区域被等面积分割的情况，并且吸附区域可以被以接近等面积的面积比分割。具体而言，优选地，在基板保持部2A的多个吸附区域当中的两个不同宽度尺寸的吸附区域的面积比P在0.8至1.2的范围内，并且更优选地，面积比P在0.9至1.1的范围内。由于能够根据面积比的范围将整个基板I的1/2以上的面积设置为吸附区域，因此能够有效地阻止基板I从基板保持部2A剥离。
[0032]下文中，将描述针对直径300mm的基板、注射的位置和基板保持部2A的吸附压力的切换。如图4A所示，当对基板保持部2A保持的直径300mm的基板IA的注射IAa进行压印时，注射IAa的外周包括在吸附区域区I中。此时，通过将吸附区域区I的内部压力切换为高于正常吸附时的压力并减弱吸附力，当模具5被释放时，与基板IA的吸附区域区I相对应的部分在模具释放方向上被提起并且具有微小变形。因此，能够提高模具5与基板IA的模具释放特性，并且能够以较小的释放力释放模具。类似地，如图4B所示，当在注射IAb上进行压印时，由于注射IAb的外周也包括在吸附区域区2中，因此仅需要通过将吸附区域区2的内部压力切换为高于正常吸附时的压力，来减弱吸附力。此时，当模具5被释放时，与基板IA的吸附区域区2相对应的部分在模具释放方向上被提起，并且具有微小变形，从而能够提高模具5与基板IA的模具释放特性，并且以较小的释放力来释放