发生滑动，从而所述除尘模块14及扫描探测模块15也发生滑动；本实用新型中，所述其中至少一个滑块13由电子驱动而滑动于所述滑轨12。所述两个滑轨12的同一端分别设有凹槽16，所述凹槽16中嵌有挡板17 ;优选地，所述两个滑轨12设有凹槽16的同一端为光罩以及光罩护膜的进出端。优选地，如图2所示，所述除尘模块14的位置较所述扫描探测模块15靠近于所述光罩的进出端。亦即当除尘模块14及扫描探测模块15向凹槽16方向滑动的过程中，利用除尘模块14对所述光罩护膜进行清洁之后，再利用扫描探测模块15对清洁后的区域进行扫描探测，判断是否将颗粒污物清洁干净。
[0049]图3为本实用新型的光罩护膜清洁装置将光罩护膜从凹槽16 口处放入过程的结构示意图。将光罩及光罩护膜10放入所述清洁装置时，需要将所述凹槽16中的挡板17拿下，沿着两个滑轨12之间的区域将光罩和光罩护膜10推入其中；图4为本实用新型的光罩护膜10清洁装置中含有光罩护膜10的结构示意图。当光罩和光罩护膜10放入所述清洁装置中时，再将所述挡板17嵌入所述凹槽16中，以防光罩和光罩护膜10滑出所述装置外发生损坏。
[0050]图5为本实用新型的除尘模块14结构示意图。所述除尘模块14上设有进气口141以及若干出气口 142 ;如图5所示，优选地，所述除尘模块14的形状为条形状，且所述进气口 141位于其上背离光罩护膜10的一侧；所述出气口 142位于其上靠近光罩护膜10的一侧。
[0051]进一步优选地，所述除尘模块14上的若干出气口 142沿其长度方向呈一列排列。所述进气口 141连接有进气管路143 ;优选地，所述进气管路143上安装有流量调节阀144，可以根据流量控制阀来控制进气管路143中的气体的流量和压力，以提供合适的压力去除光罩护膜10上的颗粒污染物。进一步优选地，所述进气管路143中进入的气体包括氮气或去离子气体。
[0052]图6显示为本实用新型的扫描探测模块15的结构示意图。所述扫描探测模块15至少包括:线传感器151、散射光接收透镜152以及激光束153 ;所述扫描探测模块15的探测原理为:1)首先用激光束153照射颗粒污染物，颗粒污染物表面的散射光被所述散射光接收透镜152接收；2)散射光接收透镜152接受到来自颗粒污染物的散射光，将图像形成在线传感器151上；3)线传感器151将接收到的图形信号转化为电子信号来探测。
[0053]本实用新型的所述清洁装置还包括:集气罩；如图7所示，图7为本实用新型的光罩护膜10清洁装置被集气罩密封的结构示意图。所述集气罩18将所述底座11上设有将所述光罩护膜10、滑轨12、滑块13、除尘模块14及扫描探测模块15容纳其中；如图2所示，所述集气罩与所述底座11接触区域设有密封圈19 ;图7中，所述集气罩上表面设有排气孔20。优选地，设于所述集气罩上的排气孔有两个；且分别对应地接近于所述凹槽16。所述光罩护膜10表面的颗粒污染物被进入所述集气罩中的气体出起，然后通过所述集气罩上的排气孔排出。
[0054]综上所述，本实用新型在光罩护膜上方使用一套密封进气和出气的装置，移动于光罩护膜上表面的除尘模块使得光罩护膜与除尘模块在清洁过程中始终保持一定的距离而不会损坏光罩护膜；同时采用扫描探测模块提高了光罩护膜表面的清洁度；提高了产品的良率以及保证了产品的交期。所以，本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
[0055]上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。
【主权项】
1.一种光罩护膜清洁装置，其特征在于，所述装置至少包括: 用于承载光罩护膜的底座；位于该底座及所述光罩护膜两侧的滑轨；与所述每个滑轨匹配的滑块；连接于所述滑块之间且位于所述光罩护膜正上方的除尘模块及扫描探测模块；所述两个滑轨的同一端分别设有凹槽，所述凹槽中嵌有挡板； 所述除尘模块上设有进气口以及若干出气口 ；所述进气口连接有进气管路；所述扫描探测模块至少包括:线传感器、散射光接收透镜以及激光束； 所述底座上设有将所述光罩护膜、滑轨、滑块、除尘模块及扫描探测模块容纳其中的集气罩；所述集气罩与所述底座接触区域设有密封圈；所述集气罩上表面设有排气孔。
2.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于:所述进气管路上安装有流量调节阀。
3.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于:所述光罩护膜由位于光罩表面的支撑结构支撑且位于光罩表面的上方。
4.根据权利要求3所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于:所述两个滑轨设有凹槽的同一端为光罩的进出端。
5.根据权利要求4所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于:所述除尘模块的位置较所述扫描探测模块靠近于所述光罩的进出端。
6.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于:所述其中至少一个滑块由电子驱动而滑动于所述滑轨。
7.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于:所述除尘模块的形状为条形状，且所述进气口位于其上背离光罩护膜的一侧；所述出气口位于其上靠近光罩护膜的一侧。
8.根据权利要求7所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于:所述除尘模块上的若干出气口沿其长度方向呈一列排列。
9.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于:设于所述集气罩上的排气孔有两个；且分别对应地接近于所述凹槽。
10.根据权利要求2所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于:所述进气管路中进入的气体包括氮气或去离子气体。
【专利摘要】本实用新型提供一种光罩护膜清洁装置，该装置至少包括：底座和该底座两侧的滑轨；与每个滑轨匹配的滑块；连接于滑块间的除尘模块及扫描探测模块；两个滑轨的同一端设有凹槽，凹槽中嵌有挡板；除尘模块上设有进气口及若干出气口；进气口连接有进气管路；扫描探测模块包括：线传感器、散射光接收透镜以及激光束；底座上设有集气罩；集气罩与底座接触区域设有密封圈；集气罩上表面设有排气孔。本实用新型在光罩护膜上方使用一套密封进气和出气的装置，移动于光罩护膜上表面的除尘模块使得光罩护膜与除尘模块在清洁过程中始终保持一定距离而不会损坏光罩护膜；同时采用扫描探测模块提高了光罩护膜表面清洁度；提高了产品良率以及保证了产品的交期。
【IPC分类】G03F1-82
【公开号】CN204462637
【申请号】CN201520145480
【发明人】邢滨, 郝静安, 张强
【申请人】中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2015年3月13日