专利名称：等离子显示器及其制造方法
技术领域：
本发明涉及等离子显示器及其制造方法。
背景技术：
一般情况下，对于等离子显示器(Plasma Display Panel以下简称“PDP”。)，它是一种对画面进行显示的装置。在由碱石灰(Soda-lime)玻璃构成的前面玻璃和背面玻璃之间形成的间隔壁构成一个单位的单元，然后，将各个单元内的氖(Ne)、氦(He)或者是氦氖(Ne+He)作为周期性放电的气体，并加入少量的氙(Xe)等惰性气体，通过高频电压产生放电。在这种情况下，就会产生真空紫外线(VacuumUltraviolet rays)，从而使在间隔壁之间形成的荧光体发光，这样，就可以进行画面显示了。等离子显示器就是这样一种具有上述结构和特征的画面显示装置。
图1是依据现有技术的等离子显示器的结构示意图。如图所示等离子显示器(PDP)由显示画像的前面玻璃基板10和后面玻璃基板20平行结合而成，前后基板间留有一定的缝隙。
在前面玻璃基板10的下方有维持电极对11，12，该电极对由通过一个像素内的相互放电维持单元发光的维持电极11，12，即由透明的ITO(Indium Thin Oxide氧化铟锡)材料形成的透明电极11a，12a和由金属材料制成的总线电极11b，12b构成。
维持电极对由扫描电极11及维持电极12构成，扫描电极11中主要提供模板注射的注射信号和维持放电的维持信号，维持电极12主要提供维持信号。
维持电极11，12抑制放电电流，上面涂抹有保持电极对间绝缘的电介质层13a，在电介质层13a上涂抹有由氧化镁(MgO)制成的保护层14，保证电子可以顺利释放出来。
在后面玻璃基板20上，为形成一个以上的放电空间，即条状(或井状)的间隔壁21平行排列形成放电单元，在与维持电极11，12交差的部分有多个寻址电极22与间隔壁21平行排列在后面玻璃基板20的上面，寻址电极22可以进行寻址放电，产生真空紫外线。
在上述寻址电极22上面涂抹有下部电介质层13，在下部电介质层13的上面涂抹有释放寻址放电时显示画像所需的可视光线的R，G，B荧光层23。
在前面玻璃基板10和后面玻璃基板20上通过贴涂工序将密封材料玻璃料(Frit Glass)进行可塑化后贴涂抹在基板上后，然后进入排气工序将板内部的不纯物质除去。
排气工序结束后为了提高等离子显示器的放电时的放电效率将氦(He)，氖(Ne)，氙(Xe)等惰性气体注入等离子显示器内部(PDP)。
具有上述结构的现有的等离子显示器的放电过程如下在后面玻璃基板20上的寻址电极22和前面玻璃基板10上的维持电极11，12间发生寻址放电后，再对选定的单元进行连续的显示放电。
在放电时产生的真空紫外线使荧光体放射出可视光线，产生画像。
现有的等离子显示器的制造过程大致由制造玻璃基板的步骤；制造前面板的步骤；制造后面板的步骤及组装步骤构成。等离子显示器的板制造过程如下。
图2是依据现在技术的等离子显示器的制造工序流程图。如图所示，a步骤中在后面玻璃基板的上部20形成具有一定宽度和高度的寻址电极22；b步骤中在寻址电极22上部形成电介质层13b。
c步骤中，在电介质层13b的上部形成白色间隔壁12a；d步骤中在白间隔壁12a的上部形成黑间隔壁21b；e步骤中黑间隔壁21b的上部涂抹上光致抗蚀剂30；f步骤中将形成特定的模板的光掩膜涂抹在光致抗蚀剂30的上部，经过光的照射使光致抗蚀剂30硬化，这个过程叫曝光过程。
经过曝光过程后，g步骤中通过显影过程将没有硬化的光致抗蚀剂洗涤去后；在h步骤中经过蚀刻过程形成白间隔壁21a和黑间隔壁21b。
然后进行干燥，塑形后，形成可以防止各放电单元间的串扰(Crosstalk)的白间隔壁21a和黑间隔壁21b。
然后，i步骤中在白间隔壁21a和黑间隔壁21b间形成荧光层，然后经过塑形形成后面玻璃基板20。
但是经过上述过程制造出的等离子显示器的黑间隔壁21b结构具有以下缺点。
首先，因为黑间隔壁21b直接暴露在发射可视光的单元内，与白间隔壁相反，黑间隔壁21b吸收可视光，起到了降低发光效率的负作用。
其次，由普通材料制造成的黑间隔壁21b电介质常数高，增加了间隔壁的电容(Capacitance)值，从而造成不必要的电力浪费。
发明内容
本发明正是为解决上述问题而提出的，本发明的目的是提供一种等离子显示器，它的白间隔壁比黑间隔壁要窄，通过减小暴露在产生可视光的单元内的黑间隔壁的大小，减少可视光的吸收，从而最大程度地避免因黑间隔壁引起的发光效率降低现象的出现。
而且由于减少了电介质常数大的黑间隔壁的面积，减小了电介质的常数，从而抑制了电容的增加。这样可以减少驱动时电容充电用变位电流造成的电力损失，提高驱动的效率。
为了实现上述目的，依据本发明的等离子显示器的制造方法由以下步骤构成在电介质层上涂抹上第1间隔壁材料的步骤；在第1间隔壁上涂抹上第2间隔壁材料的步骤；在第2间隔壁上涂抹上光致抗蚀剂的步骤；利用光致抗蚀剂上的掩膜进行曝光的步骤；对曝光后的模板进行显影的步骤，对第2间隔壁进行有选择的蚀刻的第1蚀刻步骤；对第1间隔壁进行有选择的蚀刻的第2蚀刻步骤及对第2间隔壁进行有选择的蚀刻的第3蚀刻步骤。
依据本发明的等离子显示器，其特征在于制造黑间隔壁的材料的反射率在50％以下，不具有导电性。
依据本发明的等离子显示器，其特征在于黑间隔壁利用薄膜法形成，形成过程中使用溅射(Sputter)、电子束(E-beam)、化学气相沉积(CVD)等设备。
依据本发明的等离子显示器，其特征在于在第1，3蚀刻步骤使用种类不同的蚀刻剂(Etchant)。
依据本发明的等离子显示器，其特征在于第1蚀刻步骤可以使用反应性离子蚀刻(Reactive Ion Etching)法。
依据本发明的等离子显示器，其特征在于黑间隔壁上面的宽度比白间隔壁的宽度小10μm。
依据本发明，白间隔壁比黑间隔壁要窄，通过减小暴露在产生可视光的单元内的黑间隔壁的大小，减少可视光的吸收，从而最大程度地避免因黑间隔壁引起的发光效率降低现象的出现。
而且由于减少了电介质常数大的黑间隔壁的面积，减小了电介质的常数，从而抑制了电容的增加。这样可以减少驱动时电容充电用变位电流造成的电力损失，提高驱动的效率。
图1是依据现有技术的等离子显示器的结构示意图；图2是依据现在技术的等离子显示器的制造工序流程图；图3是依据本发明的等离子显示器制造工序流程图。
具体实施例方式
为进一步说明本发明的上述目的、结构特点和效果，以下将结合附图对本发明进行详细的描述。
下面将参照附图对本发明的实施例进行详细说明。
图3是依据本发明的等离子显示器制造工序流程图。如图所示，形成白间隔壁21a和黑间隔壁21b的工序如下。a步骤中在后面玻璃基板的上部20形成具有一定宽度和高度的寻址电极22；b步骤中在寻址电极22上部形成电介质层13b。
c步骤中，在电介质层13b的上部形成白色间隔壁12a；白间隔壁12a的材质要与黑间隔壁21b的材质具有不同的蚀刻率。
d步骤中在白间隔壁21a的上部形成黑间隔壁21b，制造黑间隔壁的材料的反射率在50％以下，并且不具有导电性。
黑间隔壁利用薄膜法形成，形成过程中使用溅射(Sputter)、电子束(E-beam)、化学气相沉积(CVD)等设备。
e步骤中黑间隔壁21b的上部涂抹上光致抗蚀剂30；f步骤中将形成特定模板的光掩膜涂抹在光致抗蚀剂30的上部，经过光的照射使光致抗蚀剂30硬化，这个过程叫曝光过程。经过曝光过程后，g步骤中通过显影过程将没有硬化的光致抗蚀剂洗涤去后；在h步骤中利用蚀刻剂，只对黑间隔壁21b进行蚀刻。
第1蚀刻步骤可以使用反应性离子蚀刻(Reactive Ion Etching)法。
i步骤为第2蚀刻步骤，使用与第1蚀刻步骤不同的蚀刻剂只对白间隔壁21a进行蚀刻。
J步骤为第3蚀刻步骤，为了将黑间隔壁21b的上面宽度制造成比白间隔壁21a上面的宽度小，使用与第1蚀刻步骤中相同的蚀刻剂只对黑间隔壁21b进行蚀刻。
这时使用的是湿式蚀刻，理由是湿式蚀刻在不同的材料同时存在时，可以比较容易选择与蚀刻剂成份和条件相吻合的材料，从而只选择需要蚀刻的材料进行蚀刻。
通过第1、2、3蚀刻步骤，黑间隔壁21b上面的宽度比白间隔壁21a的宽度小10μm。
然后进行干燥，塑形后，形成可以防止各放电单元间的串扰(Crosstalk)的白间隔壁21a和黑间隔壁21b。
依据现有技术制造的等离子显示器具有以下缺点首先，因为黑间隔壁21b直接暴露在发射可视光的单元内，与白间隔壁相反，黑间隔壁21b吸收可视光，起到了降低发光效率的负作用。
其次，由普通材质的黑间隔壁21b电介质常数高，增加了间隔壁的电容值，从而造成不必要的电力浪费。
但是，依据本发明的等离子显示器的白间隔壁比黑间隔壁要窄，通过减小暴露在产生可视光的单元内的黑间隔壁21b的大小，减少可视光的吸收，从而最大程度地避免因黑间隔壁21b引起的发光效率降低现象的出现。
而且由于减少了电介质常数大的黑间隔壁的面积，减小了电介质的常数，从而抑制了电容的增加。这样可以减少驱动时电容充电用变位电流造成的电力损失，提高驱动的效率。
本发明所属技术领域的技术人员完全可以在不偏离本项发明技术思想和必要特点，对本发明的实施例进行其它具体形式的变更。
因此，以上所述的实施例是在所有方面以示例的目的而展开，并没有局限性，比起上述详细说明，本发明的范围更体现在下述的权利要求范围，权利要求范围的思想和范围及其等价概念导出的所有变更或变化的形式应属于本发明的范围。
权利要求
1.一种在后面玻璃基板上涂抹有电介质的等离子显示器的制造方法，包括在电介质层上涂抹上第一间隔壁材料的步骤；在第一间隔壁上涂抹上第二间隔壁材料的步骤；在第二间隔壁上涂抹上光致抗蚀剂的步骤；利用光致抗蚀剂上的掩膜进行曝光的步骤；对曝光后的模板进行显影的步骤，对第二间隔壁进行有选择的蚀刻的第一蚀刻步骤；对第二间隔壁进行有选择的蚀刻的第二蚀刻步骤；对第二间隔壁进行有选择的蚀刻的第三蚀刻步骤。
2.如权利要求1所述的等离子显示器的制造方法，其特征在于第一间隔壁为白间隔壁，第二间隔壁为黑间隔壁。
3.如权利要求2所述的等离子显示器的制造方法，其特征在于所述的黑间隔壁制造材料的反射率低于50％。
4.如权利要求2所述的等离子显示器的制造方法，其特征在于所述的黑间隔壁制造材料不具有导电性。
5.如权利要求2所述的等离子显示器的制造方法，其特征在于所述的黑间隔壁利用薄膜法形成。
6.如权利要求5所述的等离子显示器的制造方法，其特征在于所述的薄膜法包括使用溅射、电子束、化学气相沉积。
7.如权利要求1所述的等离子显示器的制造方法，其特征在于在所述的第一，三蚀刻步骤使用种类不同的蚀刻剂。
8.如权利要求2所述的等离子显示器的制造方法，其特征在于所述的第一蚀刻步骤可以使用反应性离子蚀刻法。
9.如权利要求2所述的等离子显示器的制造方法，其特征在于所述的黑间隔壁上面的宽度比白间隔壁上面的宽度小10μm。
全文摘要
本发明涉及等离子显示器及其制造方法，在其后面玻璃基板上涂抹有电介质。其制造方法，包括步骤在电介质层上涂抹上第一间隔壁材料；在第一间隔壁上涂抹上第二间隔壁材料；在第二间隔壁上涂抹上光致抗蚀剂；利用光致抗蚀剂上的掩膜进行曝光的模板进行显影，对第一、二间隔壁分别进行有选择的蚀刻。依据本发明，白间隔壁比黑间隔壁要窄，通过减小暴露在产生可视光的单元内的黑间隔壁，最大程度地减少可视光的吸收，从而有效地避免因黑间隔壁引起的发光效率降低。而且，由于减少了电介质常数大的黑间隔壁的面积，减小了电介质的常数，抑制了电容的增加。这样可以减少驱动时的电容充电用变位电流造成的电力损失，提高驱动效率。
文档编号H01J17/49GK1979717SQ20051012285
公开日2007年6月13日 申请日期2005年12月6日 优先权日2005年12月6日
发明者李勇翰 申请人:乐金电子(南京)等离子有限公司