本实用新型涉及一种型材的冲孔装置，尤其涉及一种线槽自动冲孔机。
背景技术：
线槽型材的两侧有均匀分布的出线孔，底部为安装孔。而现有的出线孔加工方法以垂直冲压方式加工，每次仅能冲压一个或几个孔，而且是两个侧面的孔分别加工，底部冲孔还要加多一次工序。这样的加工方法，不但效率低，而且由于两侧孔分开加工易导致线槽变形，擦伤线槽表面，难于控制产品的质量，据现有技术，国家知识产权局网站上公开了一种快速线槽自动冲孔机，申请号为201310225971，它包括机架和安装在机架上的冲孔平台、冲孔平台上的模具、冲孔平台下的移动架、设备的传动系统和控制电箱，结构复杂，成本高。
技术实现要素：
本实用新型所要解决的技术问题是：克服以上现有技术的缺陷，提供一种结构简单且成本低的线槽自动冲孔机。
本实用新型所采取的技术方案是：一种线槽自动冲孔机，包括侧孔冲孔平台、底孔冲孔机构、传送平台、线槽和设在侧孔冲孔平台上的侧孔冲孔机构，所述的侧孔冲孔平台、底孔冲孔机构和传送平台横向排列，所述的传送平台分别位于侧孔冲孔平台的两端，所述的底孔冲孔机构位于侧孔冲孔平台上，所述的侧孔冲孔平台上分别设有两个平行排列的支撑架，所述的支撑架与线槽垂直，所述的支撑架之间设有限位板，所述的线槽位于限位板正下方，所述的侧孔冲孔机构分别位于限位板的两侧。
采用以上结构后，本实用新型与现有技术相比具有以下优点：把底孔冲孔机构设在侧孔冲孔平台上，侧孔冲孔机构和底孔冲孔机构集中在一个平台上，结构简单，成本低，同时只利用限位板就能对线槽进行限位，结构简单，成本低，可靠性高。
作为优选，所述的支撑架上表面均设有滑槽，所述的滑槽内分别设有可滑动配合在滑槽内的滑杆，所述的滑杆下端分别与限位板的两端固定连接，可以根据线槽的位置来调节限位板的位置，可靠性高。
作为优选，所述的底孔冲孔机构包括设在侧孔冲孔平台上的支架和设在支架上的第一冲头，所述的侧孔冲孔平台上设有通孔，所述的支架可上下滑动配合在通孔内，所述的线槽位于支架的下方，结构简单，不占空间。
作为优选，所述的侧孔冲孔平台包括设在侧孔冲孔平台上的机架和设在机架上的第二冲头，所述的机架近线槽的侧面设有若干个孔，所述的第二冲头可滑动配合在孔内，结构简单，不占空间。
作为优选，所述的传送平台上设有基座，所述的基座上设有传动轴，所述的线槽位于传动轴下方，方便线槽的传送。
附图说明
图1是本实用新型线槽自动冲孔机的立体图。
其中，1、侧孔冲孔平台，2、滑槽，3、底孔冲孔机构，4、传送平台，5、支撑架，6、限位板，7、滑杆，8、支架，9、通孔，10、机架，11、第二冲头，12、基座，13、传动轴。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步说明。
如图所示，本实用新型提供一种线槽自动冲孔机，包括侧孔冲孔平台1、底孔冲孔机构3、传送平台4、线槽和设在侧孔冲孔平台1上的侧孔冲孔机构，所述的侧孔冲孔平台1、底孔冲孔机构3和传送平台4横向排列，所述的传送平台4分别位于侧孔冲孔平台1的两端，所述的底孔冲孔机构3位于侧孔冲孔平台1上，所述的侧孔冲孔平台1上分别设有两个平行排列的支撑架5，所述的支撑架5与线槽垂直，所述的支撑架5之间设有限位板6，所述的线槽位于限位板6正下方，所述的侧孔冲孔机构分别位于限位板6的两侧，本实用新型的优点是把底孔冲孔机构3设在侧孔冲孔平台1上，侧孔冲孔机构和底孔冲孔机构3集中在一个平台上，结构简单，成本低，同时只利用限位板6就能对线槽进行限位，结构简单，成本低，可靠性高。
所述的支撑架5上表面均设有滑槽2，所述的滑槽2内分别设有可滑动配合在滑槽2内的滑杆7，所述的滑杆7下端分别与限位板6的两端固定连接，可以根据线槽的位置来调节限位板6的位置，可靠性高。
所述的底孔冲孔机构3包括设在侧孔冲孔平台1上的支架8和设在支架8上的第一冲头，所述的侧孔冲孔平台1上设有通孔9，所述的支架8可上下滑动配合在通孔9内，所述的线槽位于支架8的下方，结构简单，不占空间。
所述的侧孔冲孔平台1包括设在侧孔冲孔平台1上的机架10和设在机架10上的第二冲头11，所述的机架10近线槽的侧面设有若干个孔，所述的第二冲头11可滑动配合在孔内，结构简单，不占空间。
所述的传送平台4上设有基座12，所述的基座12上设有传动轴13，所述的线槽位于传动轴13下方，方便线槽的传送。
具体来说，本实用新型的原理是把底孔冲孔机构3设在侧孔冲孔平台1上，侧孔冲孔机构和底孔冲孔机构3集中在一个平台上，结构简单，成本低，同时只利用限位板6就能对线槽进行限位，结构简单，成本低，可靠性高，利用步进电机驱动传动轴转动，传动轴与线槽之间的摩擦力带动线槽运动，利用侧孔冲孔机构对线槽两侧同时进行打孔，底孔冲孔机构对线槽表面进行打孔，效率高。
以上就本实用新型较佳的实施例作了说明，但不能理解为是对权利要求的限制。本实用新型不仅局限于以上实施例，其具体结构允许有变化，凡在本实用新型独立要求的保护范围内所作的各种变化均在本实用新型的保护范围内。