专利名称：新结构蒸发镀膜材料的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种真空光学镀膜机里使用的蒸发镀制各种光学薄膜的蒸发材料的结构。
蒸发镀膜材料作为光学薄膜中的低折射率材料用在真空镀膜机里蒸发各种光学薄膜。如
图1所示，现有技术中的蒸发镀膜材料均为粒状石英，放置在真空光学镀膜机真空室的蒸发坩锅里，在真空室里的电子枪发出电子束照射在粒状石英玻璃上，使之发热，当温度达到石英玻璃的熔点后，石英玻璃迅速熔化蒸发，蒸发的石英微粒子(SiO2)与其它高折射率材料反复蒸发镀制，使之可形成各种光学薄膜。使用上述粒状蒸发镀膜材料有两个缺点1．由于放置在蒸发坩锅里的熔融石英颗粒堆在一起时有很多空隙，密度不够，不能适应长时间蒸发镀制多层光学薄膜。
2．由于熔融石英的蒸发状况呈半升华状态，颗粒受热蒸发状态不一，使之不能很均匀地蒸发，在镀制精度很高的光学薄膜时，会影响薄膜的均匀性。
本实用新型的目的是提供一种新结构蒸发镀膜材料，该材料的密度一致、蒸发时间长、薄膜均匀、成品率高。
本实用新型的技术方案是一种新结构蒸发镀膜材料，该材料是圆环形状的石英玻璃环，密度均匀一致。
本实用新型进一步的技术方案是一种新结构蒸发镀膜材料，该材料是圆环形状的石英玻璃环，密度均匀一致；所述石英玻璃环的截面为矩形。
本实用新型的优点是1．由于熔融石英玻璃环是块状固体，密度均匀一致，蒸发时间要比颗粒状石英来得长，故而能适应长时间地镀制多层光学薄膜。
2．由于熔融石英玻璃环是整体的，故而受电子束加热能较均匀地蒸发，故而在镀制高精度光学薄膜时，能得到均匀性较好的薄膜，使得成品度提高。
以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步的描述
图1为现有技术的使用状态示意图；图2、图3为本实用新型的结构示意图；图4为本实用新型的使用状态示意图；其中1石英玻璃环；2真空室；3电子枪；4电子束；5石英微粒子；6工件架；7玻璃基片；8粒状石英；9蒸发坩锅。
实施例如图2、图3所示，一种新结构蒸发镀膜材料，该材料是圆环形状的石英玻璃环[1]，密度均匀一致；所述石英玻璃环[1]的截面为矩形。
如图4所示，熔融石英玻璃环[1]放置在真空光学镀膜机的真空室[2]里，在真空状况下，设置在真空室[2]里的电子枪[3]发出电子束[4]，照射在石英玻璃环[1]上，使之发热，当温度达到石英玻璃的熔点后，石英玻璃迅速熔化蒸发，蒸发的石英微粒子(SiO2)[5]到达在真空室[2]上部工件架[6]上的玻璃基片[7]上，冷却凝结形成薄膜，在真空室[2]中使用石英玻璃(SiO2)与其它高折射率材料反复蒸发镀制，使之可形成各种光学薄膜。
权利要求1．一种新结构蒸发镀膜材料，其特征在于该材料是圆环形状的石英玻璃环[1]，密度均匀一致。
2．根据权利要求1所述的新结构蒸发镀膜材料，其特征在于所述石英玻璃环[1]的截面为矩形。
专利摘要本实用新型公开了一种新结构蒸发镀膜材料,该材料是圆环形状的石英玻璃环,密度均匀一致;所述石英玻璃环的截面为矩形;由于熔融石英玻璃环是块状固体,密度均匀一致,蒸发时间要比颗粒状石英来得长,故而能适应长时间地镀制多层光学薄膜;由于熔融石英玻璃环是整体的,故而受电子束加热能较均匀地蒸发,故而在镀制高精度光学薄膜时,能得到均匀性较好的薄膜,使得成品度提高。
文档编号C23C14/28GK2461937SQ0024073
公开日2001年11月28日 申请日期2000年10月23日 优先权日2000年10月23日
发明者彭守敏 申请人:彭守敏