专利名称：一种纳米磁性液体清洗抛光装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种机械，具体的说是一种纳米磁性液体清洗抛光装置。
背景技术：
目前市场上五金、珠宝、精密仪器、仪表的部件、眼镜架等物的去毛刺、清理、抛光等方面的加工设备基本上是吊轮、振动抛光、离心振动、电解、化学等设备，多数都存在噪音污染、化学污染、灰尘污染等各种不良因素，且清理、抛光不均匀，有死角等各种缺点。同时现有设备的工作效率低，不能全自动化处理，而且设备的通用性差。
发明内容
针对上述存在的问题，本发明提供一种纳米磁性液体清洗抛光装置，结构筒单，用液量小，清理效果好，能全自动处理，效率高，也不会造成环境污染。
为了解决上述问题，本发明釆用以下4支术方案， 一种纳米石兹性液体清洗抛光装置，包括旋转筒、永磁磁铁和储液器亚，所述永石兹石兹铁固装在旋转筒内，所述储液器皿内装有清洗或抛光液。
由于本发明釆用了以上技术方案，其优点为结构简单，用液量小，研磨抛光效果好，能全自动处理，效率高，也不会造成环境污染。
图1为本发明的一个实施例的结构示意2为本发明的一个实施例的结构示意图
1、旋转筒 l-l、外旋转筒 1-2、内旋转筒
2、永磁磁铁 3、储液器皿 4、隔离圈
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进 一 步说明实施例一
如图1所示，本发明一种纳米;兹性液体清洗抛光装置，包括旋转筒l、
永磁磁铁2、储液器皿3,储液器皿3，永磁磁铁2则安装在旋转筒1内K旋转筒为中空，套在储液器皿3外部(不接触)，周边均匀分布2组或2组以上强铁棒孔(工作前装配强磁棒)2。
工作流程如下电机带旋转筒旋转(即产生旋转磁场)一磁场带动清洗液或抛光液旋转一清理、打磨、抛光物体表面一时间到、电机停一耳又出物件一清洗一结束。
目前市场上清理、抛光设备基本上是吊轮、振动抛光、离心振动、电解、化学等设备，多数都存在噪音污染、化学污染、灰尘污染等各种不良因素，且清理、抛光不均匀，有死角等各种缺点。
本设备的特点兼有各种设备的长处，布轮抛光机由布轮旋转，本机的轮子是液体的。振动和离心振动清理的颗粒是很大的磨料颗粒，本机是10-300纳米的细小颗粒。由于是物理性质的液体，不会产生灰尘，气体等有害物质，由于是磁场控制的磁性物质，颗粒分布均匀，力量分布均匀，故而研磨抛光效果也同样均匀。
设备由于是在磁场的控制下运转(磁场属于短程力)，适合与五金、珠宝、精密仪器、仪表的部件、眼镜架等物的去毛刺、清理、抛光等方面的加工。4 - 8分钟可抛光2 - 3副镜架，2 - 4分可加工数十个仪表轴。
实施例二
同实施例一的一种纳米磁性液体清洗抛光装置，其不同之处在于如图2所示，所述旋转筒有两个，分别为内旋转筒1-2和外旋转筒1-1,所述的内旋转筒1-2和外旋转筒1-1内永》兹》兹铁2的组数和位置相对应，内旋转筒1-2和外旋转筒1-1分布于储液器皿3的内圈和外圈，内旋转筒1-2和外旋转筒1-1同步旋转。在实际使用中，单旋转筒内装永^if兹铁组，不管是通过加强永磁石兹铁的磁性还是增加永磁磁铁的组数，都不能达到理想的清洗和抛光效果，尤其是较大的物件的清洗抛光处理。
除上述实施例外，本发明还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本发明要求的保护范围。
权利要求
1、一种纳米磁性液体清洗抛光装置，包括旋转筒、永磁磁铁和储液器皿，所述永磁磁铁固装在旋转筒内，所述储液器皿内装有清洗或抛光液。
2、 根据权利要求1所述的一种纳米磁性液体清洗抛光装置，其特征在 于所述的永》兹磁铁有2组或2组以上。
3、 根据权利要求2所述的一种纳米磁性液体清洗抛光装置，其特征在 于所述旋转筒有两个，分别为内旋转筒和外旋转筒，所述的内旋转筒和外 旋转筒内永^U兹铁的组数和位置相对应，内旋转筒和外旋转筒分布于储液器 皿的内圈和外圏，内旋转筒和外旋转筒同步旋转。
全文摘要
本发明涉及、一种纳米磁性液体清洗抛光装置，包括旋转筒、永磁磁铁和储液器皿，所述永磁磁铁固装在旋转筒内，所述储液器皿内装有清洗或抛光液。由于本发明采用了以上技术方案，其优点为结构简单，用液量小，清理效果好，能全自动处理，效率高，也不会造成环境污染。
文档编号B24B31/00GK101637881SQ20081002276
公开日2010年2月3日 申请日期2008年7月28日 优先权日2008年7月28日
发明者臧福仁 申请人:江苏金目光学有限公司