技术特征：
技术总结
本发明涉及一种镀膜系统及镀膜方法，镀膜系统包括基板、位于基板下方的镀膜源、第一膜厚监控装置和第二膜厚监控装置，第一膜厚监控装置位于基板与镀膜源之间，第二膜厚监控装置邻近基板。两个膜厚监控装置可协同工作，提升了设备的稳定性和可靠性。第二膜厚监控装置邻近基板，其获取的镀膜速率及膜厚值与基板上的真实值相当接近，即修正因子近似为100％，具有修正误差小的优点，由此可在需要时采用第二膜厚监控装置来检查并校正第一膜厚监控装置；此校正方法虽不能完全代替制备样品测试膜厚进行校正的传统方法，但是可以大大减少采用传统方式进行校准的频率，不但节省了制作样品及测试膜厚的时间，还节省了原材料开支。
技术研发人员：茆胜
受保护的技术使用者：茆胜
技术研发日：2017.05.22
技术公布日：2017.10.24