用于蒸镀的掩膜板及其制作方法

文档序号:8248245阅读:840来源:国知局
用于蒸镀的掩膜板及其制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及OLED技术领域,特别是涉及一种用于蒸镀的掩膜板及其制作方法。
【背景技术】
[0002]OLED是下一代新型显示技术和照明技术,应用前景巨大。目前AMOLED量产技术方案采用蒸镀RGB三原色形成彩色的方式。蒸镀用的精细金属掩膜板(Fine Metal Mask,FMM)通常采用双面对称湿法刻蚀具有超低膨胀系数的金属膜的方法而成。由于湿法刻蚀工艺极限的限制,FMM开孔有一个最小值。目前FMM分辨率极限可以达到320ppi左右。由于工艺本身的限制,进一步增加分辨率具有很大的难度。

【发明内容】

[0003]基于此,有必要提供一种可减小开孔孔径的掩膜板的制作方法。
[0004]还提供一种掩膜板。
[0005]一种用于蒸镀的掩膜板的制作方法,包括如下步骤:
[0006]在金属膜的第一表面涂覆光刻胶;
[0007]利用具有开孔图案的光刻版对所述光刻胶进行曝光并显影、去除开孔处的光刻胶;
[0008]以剩下的光刻胶为掩膜采用蚀刻液对金属膜进行刻蚀,获得第一盲孔;
[0009]在金属膜的第二表面涂覆光刻胶;
[0010]利用具有开孔图案的光刻版对第二表面的光刻胶进行曝光并显影、去除开孔处的光刻胶;
[0011]以第二表面剩下的光刻胶为掩膜采用蚀刻液对金属膜进行刻蚀,获得第二盲孔;
[0012]所述第一盲孔和第二盲孔错位重叠,所述第一盲孔和第二盲孔重合形成像素蒸镀孔贯通该掩膜板;
[0013]所述金属膜的厚度为10?60微米。
[0014]在其中一个实施例中,所述第一盲孔的开孔深度小于第二盲孔的开孔深度。
[0015]一种用于蒸镀的掩膜板的制作方法,包括如下步骤:
[0016]在第一金属膜的表面涂覆光刻胶;
[0017]利用具有开孔图案的光刻版对所述光刻胶进行曝光并显影、去除开孔处的光刻胶;
[0018]以剩下的光刻胶为掩膜采用蚀刻液对第一金属膜进行刻蚀,获得第一通孔;
[0019]在第二金属膜的表面涂覆光刻胶;
[0020]利用具有开孔图案的光刻版对第二金属膜表面的光刻胶进行曝光并显影、去除开孔处的光刻胶;
[0021]以剩下的光刻胶为掩膜采用蚀刻液对第二金属膜进行刻蚀,获得第二通孔;
[0022]将所述第一金属膜与第二金属膜粘合,并使所述第一通孔和第二通孔错位重叠形成像素蒸镀孔贯通该掩膜板;
[0023]所述第一金属膜的厚度为10?40微米;
[0024]所述第二金属膜的厚度为I?20微米。
[0025]一种用于蒸镀的掩膜板的制作方法,包括如下步骤:
[0026]在金属膜的第一表面涂覆光刻胶;
[0027]利用具有开孔图案的光刻版对所述光刻胶进行曝光并显影、去除狭缝处的光刻胶;
[0028]以剩下的光刻胶为掩膜采用蚀刻液对金属膜进行刻蚀,获得第一通孔;
[0029]采用光刻胶填充所述第一通孔;
[0030]通过电铸法在所述金属膜上形成具有第二通孔的金属层;
[0031]去除第一通孔中的光刻胶;
[0032]其中,所述第一通孔和第二通孔错位重叠;所述第一通孔和第二通孔重合形成像素蒸镀孔贯通该掩膜板;
[0033]所述金属膜的厚度为10?50微米;
[0034]所述具有第二通孔的金属层的厚度为I?20微米。
[0035]在其中一个实施例中,所述第二通孔的孔径比第一通孔的孔径小。
[0036]一种用于蒸镀的掩膜板,所述掩膜板的金属膜第一表面设有第一盲孔、第二表面设有第二盲孔,所述第一盲孔和第二盲孔错位重叠,所述第一盲孔和第二盲孔重合形成像素蒸镀孔贯通该掩膜板。
[0037]在其中一个实施例中,所述像素蒸镀孔的孔径小于第一盲孔和第二盲孔的孔径。
[0038]在其中一个实施例中,所述金属膜的厚度为10?60微米,所述掩膜板由表面涂覆有光刻胶的第一金属膜和第二金属膜贴合而成,其中,该第一金属膜的厚度为10?40微米;该第二金属膜的厚度为I?20微米。
[0039]在其中一个实施例中,所述第一盲孔穿透第一金属膜,第二盲孔穿透第二金属膜。
[0040]在其中一个实施例中,所述第一盲孔和第二盲孔为任意形状。
[0041]上述掩膜板及其制作方法,采用双面湿法刻蚀、双层金属粘合或电铸法在金属层上形成另一层金属的方式使开孔错位重叠,能够有效地将开孔的孔径缩小。
【附图说明】
[0042]图1为一个实施例的掩膜板的制作方法流程图;
[0043]图2(a)为采用图1方法形成的掩膜板的剖视图;
[0044]图2(b)为图2(a)的第一盲孔102被部分填平的不意图;
[0045]图3 (a)是形成第二盲孔104后的掩膜板的俯视图;
[0046]图3 (b)是第一盲孔102和第二盲孔104贯通后的掩膜板的俯视图;
[0047]图4为另一实施例的掩膜板的制作方法流程图;
[0048]图5(a)是第一金属膜210形成第一盲孔202后的掩膜板的剖视图;
[0049]图5 (b)是第二金属膜220形成第二盲孔204后的掩膜板的剖视图;
[0050]图5(c)是第一金属膜210与第二金属膜220叠合后的掩膜板的剖视图;
[0051]图5(d)是图5(c)中第一盲孔202被部分填平的不意图;
[0052]图6 (a)是第一金属膜210形成第一盲孔202后的掩膜板的俯视图;
[0053]图6 (b)是第二金属膜220形成第二盲孔204后的掩膜板的俯视图;
[0054]图6 (C)是第一金属膜210与第二金属膜220叠合后,第一金属膜210—侧的掩膜板的视图;
[0055]图7为又一实施例的掩膜板的制作方法流程图;
[0056]图8 (a)是金属膜310形成第一通孔302后的掩膜板的剖视图;
[0057]图8 (b)是在金属膜310上形成金属层320后的掩膜板的剖视图;
[0058]图8 (C)是去除光刻胶后的掩膜板的剖视图;
[0059]图8(d)是图8(c)中第二通孔304被部分填平的示意图;
[0060]图8 (e)和图8 (f)分别是第二通孔具有较小taper角和较大taper角的掩膜板的剖视图。
【具体实施方式】
[0061]为了能够以传统的湿法蚀刻工艺为基础在精细金属掩膜版上制作孔径更小的蒸镀孔,提供以下实施例的制作方法。
[0062]图1是一个实施例的掩膜板的制作方法流程图。该方法包括如下步骤。
[0063]步骤SlOl:在金属膜的第一表面开第一盲孔。金属膜是invar膜,也可采用NiFe合金或N1、Fe、Co中的一种或多种材料(前提是该材料热膨胀系数很低)。本实施例中,金属膜100的厚度为10?60微米。如图2所示,金属膜100的第一表面110开设多个第一盲孔102。
[0064]步骤S102:在金属膜的第二表面开第二盲孔,并使第二盲孔与第一盲孔错位重叠。如图2所示,金属膜100的第二表面120开设多个第二盲孔104。
[0065]第一盲孔102和第二盲孔104错位重叠、并在重合处贯通金属膜100。第一盲孔102和第二盲孔104重合贯通处对应于所述掩膜板上的一个像素蒸镀孔106。
[0066]第一盲孔102和第二盲孔104均采用湿法刻蚀工艺形成。并且第一盲孔102和第二盲孔104均未贯穿金属膜100,也即第一盲孔102和第二盲孔104的开孔深度均小于金属膜100的厚度。本实施例中,第一盲孔102的开孔深度小于第二盲孔104的开孔深度。例如,第一盲孔102的开孔深度可以取I?20微米,第二盲孔104的开孔深度可以取10?40微米。
[0067]进一步地,第一盲孔102和第二盲孔104的孔型可以为狭槽(slot)型或狭缝(slit)型。也即,可以有四种组合:
[0068]第一盲孔102为狭槽(slot)型、第二盲孔104为狭缝(slit)型;
[0069]第一盲孔102为狭缝(slit)型、第二盲孔104为狭槽(slot)型;
[0070]第一盲孔102为狭槽(slot)型、第二盲孔104为狭槽(slot)型;
[0071]第一盲孔102为狭缝(slit)型、第二盲孔104为狭缝(slit)型。
[0072]以第一盲孔102和第二盲孔104均为狭缝型详细说明掩膜板的制作方法。
[0073]步骤SllO:在金属膜的第一表面涂覆光刻胶。
[0074]步骤S120:利用具有狭缝型图案的光刻版对所述光刻胶进行曝光并显影、去除狭缝处的光刻胶。
[0075]步骤S130:以剩下的光刻胶为掩膜采用蚀刻液对金属膜进行刻蚀,获得第一盲孔。
[0076]步骤S140:在金属膜的第二表面涂覆光刻胶。
[0077]步骤S150:利用具有狭缝型图案的光刻版对第二表面的光刻胶进行曝光并显影、去除狭缝处的光刻胶。
[0078]步骤S160:以第二表面剩下的光刻胶为掩膜采用蚀刻液对金属膜进行刻蚀,获得第二盲孔。
[0079]根据第一盲孔102和第二盲孔104的开孔深度,上述步骤SllO?S130与步骤S140?S160可以先后进行或者同时进行。例如,若第一盲孔102的深度小于第二盲孔104的深度,则步骤S140?S160先进行到一定程度,得到一定深度的第二盲孔104,然后再进行步骤SllO?S130,除了得到第一盲孔102,同时也进一步加深第二盲孔104。
[0080]参考图3 (a),其是形成第二盲孔104后的掩膜板的俯视图。在本实施例中,第二盲孔104的深度比第一盲孔102的深度大,因此先形成第二盲孔104。
[0081]参考图3(b),其是第一盲孔102和第二盲孔104贯通后的掩膜板的俯视图。当第一盲孔102也逐渐形成并与第二盲孔104相互贯通后,即在第一盲孔102和第二盲孔104的重合处得到了像素蒸镀孔106。
[0082]在上述步骤中,所述第一盲孔102和第二盲孔104的形状相似、孔径可以不同或相同。这样在形成第一盲孔102和第二盲孔104的步骤中可以采用相同的光刻版进行曝光。可以理解,第一盲孔102和第二盲孔104的形状、孔径也可以不同,例如第一盲孔102为圆形,第二盲孔104为方形,二者重叠处形成一个直角扇形孔。
[0083]进一步地,参考图2(b),在像素蒸镀孔106形成后,将第一盲孔102未与第二盲孔104重合的部分填平。该填充物108可以是与金属膜100能够较好附着的金属,也可以是光刻胶。其中填充金属可以采用电铸法。
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