一种掩膜板及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板及其制备方法。
【背景技术】
[0002]现有技术先在掩模板上形成蒸镀孔，再将所述掩模板通过张网机焊接到掩膜板框架上。为了避免掩膜板由于重力作用而产生的下垂形变，在张网过程中需要提高拉力，所述蒸镀孔由于拉力而发生拉力形变，使得所述蒸镀孔偏离原来的设计尺寸和形状，造成形状和尺寸误差。由于OLED显示面板的制造工艺对蒸镀孔的精度要求非常高，这种误差显然会对蒸镀效果产生负面影响，降低蒸镀效果，使得生产出来的OLED显示面板存在较大的缺陷。
【发明内容】
[0003]为解决上述问题，本发明提供一种掩膜板及其制备方法，用于解决现有技术中掩膜板由于张网拉力而产生的拉力形变的问题。
[0004]为此，本发明提供一种掩膜板，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括图形区域和空白区域，所述空白区域设置在所述图形区域的外围，所述图形区域设置有蒸镀孔，所述空白区域设置有至少一个缓冲孔，所述缓冲孔与所述蒸镀孔对应设置。
[0005]可选的，所述蒸镀孔横向设置为至少一行，每行蒸镀孔的左右两边分别设置有至少一个缓冲孔。
[0006]可选的，所述缓冲孔的形状包括矩形、椭圆形、圆形和半圆形中至少一种。
[0007]可选的，所述椭圆形的离心率的范围包括0.2至0.8。
[0008]可选的，所述缓冲孔为通孔和/或盲孔。
[0009]可选的，所述盲孔的深度与所述掩膜板的深度的比值范围包括20%至80%。
[0010]可选的，所述缓冲孔的宽度与所述蒸镀孔的宽度相同。
[0011]可选的，所述缓冲孔距离所述图形区域的边缘的距离不小于1mm，所述缓冲孔距离所述掩膜板的边缘的距离不小于1mm。
[0012]本发明还提供一种掩膜板的制备方法，包括:
[0013]在掩膜板本体的图形区域形成蒸镀孔；
[0014]在所述掩膜板本体的空白区域形成至少一个缓冲孔，所述缓冲孔与所述蒸镀孔对应设置，所述空白区域位于所述图形区域的外围。
[0015]可选的，所述在掩膜板本体的图形区域形成蒸镀孔的步骤包括:
[0016]在所述图形区域横向形成至少一行蒸镀孔；
[0017]所述在所述掩膜板本体的空白区域形成至少一个缓冲孔的步骤包括:
[0018]在每行蒸镀孔的左右两边分别形成至少一个缓冲孔。
[0019]可选的，所述在掩膜板本体的图形区域形成蒸镀孔的步骤包括:
[0020]通过化学刻蚀工艺或者激光刻蚀工艺形成蒸镀孔；
[0021]所述在所述掩膜板本体的空白区域形成至少一个缓冲孔的步骤包括:
[0022]通过化学刻蚀工艺或者激光刻蚀工艺形成缓冲孔。
[0023]可选的，所述掩膜板本体的构成材料为因瓦合金。
[0024]本发明具有下述有益效果:
[0025]本发明提供的掩膜板及其制备方法中，所述掩膜板包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括图形区域和空白区域，所述空白区域设置在所述图形区域的外围，所述图形区域设置有蒸镀孔，所述空白区域设置有至少一个缓冲孔，所述缓冲孔与所述蒸镀孔对应设置。本发明提供的技术方案消除或减少掩膜板由于张网拉力而产生的拉力形变，提高蒸镀效果，对后续蒸镀工艺的精准性提供有力保障。
【附图说明】
[0026]图1为本发明实施例一提供的一种掩膜板的结构示意图；
[0027]图2为本发明实施例二提供的一种掩膜板的结构示意图；
[0028]图3为本发明实施例三提供的一种掩膜板的制备方法的流程图。
【具体实施方式】
[0029]为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的掩膜板及其制备方法进行详细描述。
[0030]实施例一
[0031]在制作OLED显示器的过程中需要将有机材料蒸镀到玻璃基板表面，而蒸镀有机材料的过程中需要采用掩模板，以便在玻璃基板上得到所需的图案。图1为本发明实施例一提供的一种掩膜板的结构示意图。如图1所示，所述掩膜板包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括图形区域101和空白区域102，所述空白区域102设置在所述图形区域101的外围，使得所述空白区域102围绕在所述图形区域101的四周。本实施例中，所述掩膜板为条状掩膜板，因此所述空白区域102设置在所述条状掩膜板的两端。所述条状掩膜板的两端还设置有U形固定槽103，通过所述U形固定槽103将所述条状掩膜板固定到掩膜板框架上。
[0032]本实施例中，所述图形区域101设置有蒸镀孔104，所述空白区域102设置有缓冲孔105，所述缓冲孔105与所述蒸镀孔104对应设置，通过缓冲孔105对拉力进行再分配，可以在最大程度上避免掩膜板的整体形变影响到蒸镀孔104的位置和形状。通过实验验证，在100N左右的张网拉力下，尺寸为1865mmX 10mmX0.1mm的普通掩膜板的平均形变为25um，而本实施例提供的掩膜板的形变量最大可减少为11.6um。因此，本实施例提供的掩膜板可以大幅度的减少拉力形变，从而对后续的蒸镀工艺的精准性提供了有力的保障。
[0033]本实施例中，所述掩膜板本体的构成材料为因瓦合金(Invar)。可选的，所述因瓦合金的构成材料为铁镍合金，其中镍金属的含量占所述铁镍合金的35.4%。所述因瓦合金的膨胀系数小、导热系数低低、塑性高以及韧性高，从而能够提高所述掩膜板的蒸镀效果。
[0034]在实际应用中，所述蒸镀孔的个数至少为一个，而且所述蒸镀孔横向设置为至少一行，每行蒸镀孔的左右两边分别设置有至少一个缓冲孔105。参见图1，所述蒸镀孔104的形状为矩形，所述缓冲孔105的形状也为矩形，而且矩形缓冲孔的上边缘与矩形蒸镀孔的上边缘平行设置，矩形缓冲孔的下边缘与矩形蒸镀孔的下边缘平行设置，从而使得所述缓冲孔更好地分散张网拉力，以消除或减少掩膜板由于张网拉力而产生的拉力形变，提高蒸镀效果，对后续蒸镀工艺的精准性提供有力保障。
[0035]为了更均匀地分散上述张网拉力，本实施例的缓冲孔105设置为通孔或者盲孔，而且所述盲孔的深度与所述掩膜板的深度的比值范围包括20%至80%，使得蒸镀孔104所受到的张力尽可能小，以保证蒸镀孔104的形状和尺寸不会发生改变。
[0036]本实施例中，所述缓冲孔105的宽度与所述蒸镀孔104的宽度相同，而且所述缓冲孔105距离所述图形区域101的边缘的距离Hl不小于1mm，所述缓冲孔距离所述掩膜板的边缘的距离H2不小于1mm，可以更均匀地分散上述张网拉力，使得蒸镀孔104的实际尺寸与最初的设计尺寸基本一致，不会因为受到张力而发生变化，从而蒸镀孔104的精度保持效果更加显著，可以生产出高质量的OLED显示屏。
[0037]本实施例提供的掩膜板中，所述掩膜板包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括图形区域和空白区域，所述空白区域设置在所述图形区域的外围，所述图形区域设置有蒸镀孔，所述空白区域设置有至少一个缓冲孔，所述缓冲孔与所述蒸镀孔对应设置。本实施例提供的技术方案消除或减少掩膜板由于张网拉力而产生的拉力形变，提高蒸镀效果，对后续蒸镀工艺的精准性提供有力保障。
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