心轴和两个阴极20A、20B的中间位置的腔室半径方向。本发明包含各靶材表面24a的法线方向彼此较大地倾斜的情况，但将各靶材24以它们的法线方向实质上平行的方式配置有助于削减配设两个阴极20A、20B所需的空间以及后述的遮门机构50的小型化。
[0026]所述磁场形成部30针对所述第一阴极20A和所述第二阴极20B分别设置，在该阴极的靶材24的表面24a附近分别形成磁控溅射用的磁场。具体而言，该实施方式所涉及的磁场形成部30具有三个永久磁铁、即第一永久磁铁31、第二永久磁铁32以及第三永久磁铁33，这些永久磁铁以位于所述靶材24的背后的方式被组装于所述阴极主体22的内部。
[0027]所述磁控溅射用的磁场以利用洛伦兹力捕捉从所述靶材24的表面24a释放的二次电子的方式被形成。图2中示出了其磁力线。各所述永久磁铁31?33以形成该磁场的方式被排列。具体而言，所述第一永久磁铁31在所述阴极20A、20B的阴极宽度方向(在该实施方式中为与阴极20A、20B排列的方向平行的方向)上配置在中央的位置，以其N极朝向靶材24侧的方式组装于阴极主体22。所述第二永久磁铁32以及所述第三永久磁铁33在所述阴极宽度方向上分别被配置在所述第一永久磁铁31的两外侧的位置，以各自的S极朝向靶材24侧的方式组装于阴极主体22。
[0028]所述成膜用电源40连接于所述第一阴极20A和所述第二阴极20B，对这些阴极20A、20B以特定的周期交替地施加电压，据此，生成用于释放出靶材24的材料进而放出附着于靶材24的污染物质的气体离子原子(封入成膜腔室10内的惰性气体的离子原子)。该成膜用电源40除了图示的交流电源以外也可使用例如使输出电压正负交替反转的双极性脉冲电源。
[0029]所述遮门机构50具有:能够在开闭方向上移动的一对开闭部件、即可动遮板51、52;辅助遮板53;以及将所述可动遮板51、52支撑为能够分别沿开闭方向移动的一对开闭支撑机构54，各所述遮板51?53构成本发明所涉及的遮门。
[0030]所述可动遮板51、52在平行于所述两个阴极20A、20B的靶材24的排列方向的方向上排列，能够在如图1?图3中用实线所示的关闭位置与图1及图2中用两点划线所示的打开位置之间移动的方式，分别通过所述开闭支撑机构54被支撑于所述成膜腔室10。可动遮板51、52在所述关闭位置介于所述第一阴极20A以及所述第二阴极20B的靶材24的表面24a与被设置在所述基材收容区域60的基材的表面之间而将两者之间一并隔离，另一方面，在所述打开位置，开放所述第一阴极20A以及所述第二阴极20B的靶材24的表面24a与所述基材的表面之间而容许利用靶材24对所述基材的表面进行成膜。
[0031]所述可动遮板51 —体地具有分别呈平板状的主体壁部51a和侧壁部51b。主体壁部51a在所述关闭位置以遮断所述第一阴极20A的靶材24的表面24a与基材的表面之间的方式，处于从该靶材表面24a向该基材侧隔开距离并与该靶材表面24a平行的姿势。所述侧壁部51b从侧方覆盖所述关闭位置的所述主体壁部51a的背后的空间(靶材表面24a的正面侧的空间)的方式从该主体壁部51a的外侧缘部向后方(接近第一阴极20A的方向)延伸。
[0032]所述可动遮板52整体呈大致平板状，在所述关闭位置，以遮断所述第二阴极20B的靶材24的表面24a与基材的表面之间的方式，处于从该靶材表面24a向该基材侧隔开距离而与该靶材表面24a平行的姿势。该可动遮板52的内侧缘部52a具有与其它部分相比进一步向内侧凹陷的形状，在所述关闭位置，可与所述可动遮板51的内侧缘部在前后方向(平行于成膜腔室10的半径方向的方向)上重叠。这些内侧缘部互相重叠使得各靶材24的表面24a与基材的表面之间的隔离更可靠。即，能够有效地抑制通过该内侧缘部之间的间隙从靶材24向基材的表面漏出粒子。
[0033]所述辅助遮板53被配置成从侧方覆盖所述关闭位置的所述可动遮板52的背后的空间(靶材表面24a的正面侧的空间)。具体而言，辅助遮板53以从处于所述关闭位置的可动遮板52的外侧缘部向后方(接近第二阴极20B的方向)延伸的姿势以及位置固定于所述成膜腔室10。该辅助遮板53也可与所述可动遮板52—体形成。
[0034]本发明中并不限定遮门的具体的形状。例如所述可动遮板51的侧壁部51b以及辅助遮板53也可根据规格缩短其尺寸或省略。此外，构成遮门的部件也可以并不一定为平板状，也可为弯曲的曲板状。
[0035]各所述开闭支撑机构54被配置在所述成膜装置10内，并且分别支撑各所述可动遮板51、52，以使各所述可动遮板51、52能够在所述关闭位置与所述打开位置之间移动。在该实施方式中，各所述可动遮板51、52的打开位置被设定于在该各可动遮板51、52的排列方向上的、各关闭位置的两外侧的位置，开闭支撑机构54通过将各所述可动遮板51、52支撑为以被设定在所述第一阴极20A以及所述第二阴极20B的后方的上下方向(S卩，垂直于两个靶材24的排列方向的方向)的转动中心轴为中心转动，从而能够使两个可动遮板51、52能够开闭。
[0036]具体而言，所述开闭支撑机构54具有上下一对的转动支轴55和上下一对的转动臂56。各转动支轴55以与各所述可动遮板51、52的转动中心轴一致的方式沿上下方向延伸的姿势被配置，并以能够以自轴为中心转动的方式分别被保持于所述成膜腔室10的顶壁以及底壁。各所述转动臂56在所对应的阴极(对支撑可动遮板51的开闭支撑机构54来讲是第一阴极20A，对支撑可动遮板52的开闭支撑机构54来讲是第二阴极20B)的上方以及下方以跨该阴极的方式被配置，并分别连接所述转动支轴55的内侧端部和所述可动遮板51、52的上下端部。即，上侧的转动臂56的两端部连接于上侧的转动支轴55的下端部和可动遮板51或可动遮板52的上端部，下侧的转动臂56的两端部连接于下侧的转动支轴55的上端部和可动遮板51或可动遮板52的下端部。
[0037]在此，将各所述可动遮板51、52的转动中心轴设定在第一阴极20A以及第二阴极20B的后侧(S卩，隔着该阴极20A、20B而与可动遮板51、52相反的一侧)是为了将该可动遮板51、52的转动半径设定得大并抑制其转动轨迹向基材收容区域60侧鼓出。此种转动中心轴的设定在避免可动遮板51、52进入基材收容区域60的情况下，能够使该可动遮板51、52与该基材收容区域60接近而使装置整体小型化。
[0038]在各所述开闭支撑机构54的其中一方的转动支轴55连接有作为驱动源的未图示的致动器，通过该致动器，各可动遮板51、52通过开闭支撑机构54而沿开闭方向被驱动。该驱动源在本发明中并不是必需的。此外，也可通过利用适当的连杆机构将两个开闭支撑机构54连接，以使两个开闭支撑机构54互相在开闭方向上连动，从而能用一个驱动源使两个可动遮板51、52开闭。
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