1.一种多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，其是由二氧化硅系微粒构成的多孔二氧化硅系粒子，其平均粒径(d1)为0.5～25μm，利用BET法求得的比表面积为5～60m2/cm3，微孔容积为0.35～2.0ml/g。
2.根据权利要求1所述的多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，所述多孔二氧化硅系粒子的微孔径分布(X轴：微孔径、Y轴：以微孔径对微孔容积进行微分得到的值)中的最频微孔径(Dm)为100＜Dm＜4000[nm]。
3.根据权利要求1或2所述的多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，所述多孔二氧化硅系粒子的微孔径分布(X轴：微孔径、Y轴：以微孔径对微孔容积进行微分得到的值)中的最小微孔径(D0)为25～500nm的范围，最大微孔径(D100)为300～8000nm的范围，最大微孔径(D100)与最小微孔径(D0)之比(D100/D0)为4～320的范围。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，所述多孔二氧化硅系粒子以10～50重量％的范围含有无机氧化物微粒，所述无机氧化物微粒包含氧化钛、氧化铁及氧化锌中的至少一者。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，所述多孔二氧化硅系粒子包含有机系微粒。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，所述二氧化硅系微粒的球度为0.85～1.00的范围。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，所述二氧化硅系微粒的平均粒径(d2)相对于所述多孔二氧化硅系粒子的平均粒径(d1)为0.01～0.30的范围。
8.一种多孔二氧化硅系粒子的制造方法，其特征在于，其具备：
使平均粒径超过100nm且为1000nm以下、固体成分浓度为10～30重量％的二氧化硅溶胶中分散固体成分浓度为1～40重量％的硅酸粘合剂而得到浆料的工序；和
在气流中喷雾包含所述浆料的喷雾液而得到多孔二氧化硅系粒子的工序。
9.根据权利要求8所述的多孔二氧化硅系粒子的制造方法，其特征在于，所述硅酸粘合剂包含硅酸液、碱金属硅酸盐、有机碱的硅酸盐及有机硅化合物的部分水解物中的至少一者，所述硅酸粘合剂在浆料中的固体成分浓度为1.5～10.0重量％。
10.一种化妆料，其特征在于，其配合有权利要求1～7中任一项所述的多孔二氧化硅系粒子或者利用权利要求8或9所述的制造方法制作的多孔二氧化硅系粒子。
11.根据权利要求10所述的化妆料，其特征在于，所述化妆料为彩妆化妆料、护肤化妆料或防晒化妆料。