本实用新型涉及二水石膏制备技术领域，尤其是一种二水石膏结晶装置。
背景技术：
目前，我司采用南碱水采矿区提供的卤水制碱，其硝含量(Na2SO4含量)为60g/L左右，之所以能够用于制碱，是由于有冷冻提硝装置，采用冷冻法去除副产品芒硝。但是近年来，随着纯碱产量的不断增加，南碱水采矿区的卤水供给量日趋紧张，每天还需从中堂盐矿购买大量的卤水来补充，中堂盐矿的卤水中硝含量为25g/L左右，显然，继续采用之前的冷冻提硝法很不经济，由于每生产1吨纯碱，要产生10m3左右的蒸馏废液，蒸馏废液中含CaCl2100g/L左右，含NaCl 50g/L左右，其利用价值不高，目前作为废液排放。如果用蒸氨废液来处理中堂盐矿卤水，即用钙法脱硝工艺处理中堂卤水，则不仅脱硝剂免费，而且回收了废液中的盐，减少了废液的排放；但实际的钙法脱硝流程中，因现有工艺中采用几个反应器混合搅拌反应，再经几个结晶器进行沉降以获得二水石膏，该方法设备多、工艺系统复杂，而且占用面积大，不利于工业化操作控制。
技术实现要素：
基于此，本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种可简化工艺、降低成本和能源消耗的二水石膏结晶装置。
为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：一种二水石膏结晶装置，包括反应容器、卤水进液管、蒸馏废液进液管，所述反应容器的底部设有晶体排出口，所述反应容器内部设有上下贯通的导流筒，所述卤水进液管和蒸馏废液进液管的出液端分别与所述导流筒的上部连通，所述卤水进液管和蒸馏废液进液管的进液端分别伸出所述反应容器，所述导流筒内设有将液体向下推进的搅拌器。
作为上述方案的进一步优化，所述导流筒下端设有拆流挡板，所述导流筒的下端与所述拆流挡板固定连接。由此，拆流挡板可防止混合反应液直接经晶体排出口排出，并分散混合反应液使其充分反应结晶。
作为上述方案的进一步优化，所述导流筒的下端与所述拆流挡板通过筋板固定连接。由此，筋板用于支撑和固定拆流挡板，使得混合反应液充分反应。
作为上述方案的进一步优化，所述拆流挡板为弧形挡板，所述弧形挡板的弧形相对所述导流筒为凹弧形。由此，混合反应液经凹弧形拆流挡板反射作用，向反应容器上方流动，混合反应液可以有更多的时间充分反应，以获得更多二水石膏结晶。
作为上述方案的进一步优化，所述反应容器底部还设有检修孔。由此，可通过检修孔及时清理故障，十分方便。
作为上述方案的进一步优化，所述反应容器侧壁的上部设有溢流口。由此，溢流口可及时排放反应后的清液，以便补充蒸馏废液和卤水。
作为上述方案的进一步优化，所述筋板的个数为3块。
作为上述方案的进一步优化，所述溢流口的个数至少设置为2个，且设置的溢流口的高度相同。由此，溢流口可以及时快速排出清液，提高二水石膏结晶效率；根据需要可增加或减少溢流口的个数。
综上所述，本实用新型的有益效果为：
本实用新型的二水石膏结晶装置结构简单，可高效生产二水石膏，采用本实用新型的二水石膏结晶装置，可使钙法脱硝工艺更简单，设备投资少，能源消耗降低，显著降低成本。
附图说明
图1为本实用新型的实施例一的结构示意图。
其中，1、反应容器，2、溢流口，3、卤水进液管，4、蒸馏废液进液管，5、导流筒，6、搅拌器，7、晶体排出口，8、拆流挡板，9、筋板，10、检修孔，11、变频轴流泵。
具体实施方式
为更好的说明本实用新型的目的、技术方案和优点，下面将结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。
实施例1
如图1所示，一种二水石膏结晶装置，包括反应容器1、卤水进液管3、蒸馏废液进液管4，反应容器1的底部设有晶体排出口7，反应容器1内部设有上下贯通的导流筒5，卤水进液管3和蒸馏废液进液管4的出液端分别与导流筒5的上部连通，卤水进液管3和蒸馏废液进液管4的进液端分别伸出反应容器1，导流筒5内设有将液体向下推进的搅拌器6；
导流筒5下端设有拆流挡板8，导流筒5的下端与拆流挡8板固定连接。导流筒5的下端与拆流挡板8通过筋板9固定连接。拆流挡板8为弧形挡板，弧形挡板的弧形相对导流筒5为凹弧形。反应容器1底部还设有检修孔10。反应容器1侧壁的上部设有2个高度相同的溢流口2。筋板的个数为3块且相互之间均匀分布。
二水石膏(CaSO4·2H2O)结晶装置工作原理为：纯碱生产蒸馏废液(主要成分CaCl2120g/L，NaCl 52g/L)和卤水(主要成分NaCl 305g/L，NaSO4 25g/L)同时进入反应结晶器中心筒5内的混合反应区(A，图中未示出)，经变频轴流泵11连接的搅拌器6向下推送液流；根据晶体结晶情况调节频率，晶体区晶粒偏小，可适当调高变频轴流泵11频率，提高混合反应液流速，使晶体在结晶沉降区停留时间延长，晶粒再成长；蒸馏废液和卤水在中心筒迅速混合反应，混合反应液遇折流挡板8后向上分散流动，在结晶沉降区(B)部分未反应的钙离子和硫酸根离子进一步反应，B区主要是晶体粒径成长和沉降分离的区域，通过自然沉降，晶体比较大的沉降到晶体区(C)，二水石膏晶体浆液从晶体排口7排出，分离干燥后制得石膏产品；而悬浮在反应容器1中较小的晶体进一步成长，然后，含微量晶体的清液经清液溢流区(D)的溢流口12排出，可用于纯碱生产。
最后所应当说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对本实用新型保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。