1.一种氧化铝陶瓷烧结体,其特征在于,所述氧化铝陶瓷烧结体包含质量分数为85.6~95.2%的氧化铝、含铈化合物(以氧化铈形式计算)和含铌化合物(以氧化铌形式计算),所述含铈化合物(以氧化铈形式计算)的质量分数高于含铌化合物(以氧化铌形式计算)的质量分数。
2.如权利要求1所述的氧化铝陶瓷烧结体,其特征在于,所述含铈化合物(以氧化铈形式计算)的质量分数和含铌化合物(以氧化铌形式计算)的质量分数的比值为(1.4~2.2):1。
3.如权利要求1所述的氧化铝陶瓷烧结体,其特征在于,所述含铌化合物(以氧化铌形式计算)的质量分数为2~6%,所述含铈化合物(以氧化铈形式计算)的质量分数为2.8~8.4%。
4.如权利要求1所述的氧化铝陶瓷烧结体,其特征在于,以质量分数计算,所述氧化铝陶瓷烧结体由85.6~95.2%的氧化铝、2~6%的含铌化合物(以氧化铌形式计算)和2.8~8.4%的含铈化合物(以氧化铈形式计算)组成;优先地,以质量分数计算,所述氧化铝陶瓷烧结体由89%的氧化铝、4%的含铌化合物(以氧化铌形式计算)和7%的含铈化合物(以氧化铈形式计算)组成。
5.如权利要求1所述的氧化铝陶瓷烧结体,其特征在于,所述氧化铝陶瓷烧结体中含有铈铌晶体,所述铈铌晶体为cenbo4,所述氧化铝陶瓷烧结体中还含有氧化铝和氧化铈结合形成的晶粒相ceal11o18。
6.如权利要求5所述的氧化铝陶瓷烧结体,其特征在于,所述cenbo4的平均粒径为3~4um,其d90和d10的差值为6.5~7.5um;所述ceal11o18的平均粒径为3.5~4.5um,其d90和d10的差值为7~8um。
7.如权利要求5所述的氧化铝陶瓷烧结体,其特征在于,所述氧化铝陶瓷烧结体中,单位面积内cenbo4的颗粒面积占比为3~6%,单位面积内ceal11o18的颗粒面积占比为2~3%。
8.一种氧化铝陶瓷基板,其特征在于,所述氧化铝陶瓷基板包含权利要求1~7任一项所述的氧化铝陶瓷烧结体。
9.一种覆金属层的氧化铝陶瓷基板,其特征在于,所述覆金属层的氧化铝陶瓷基板包含权利要求1~7任一项所述的氧化铝陶瓷烧结体。
10.如权利要求8所述的氧化铝陶瓷基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)按配比称取原料,将含铈化合物(以氧化铈形式计算)和含铌化合物(以氧化铌形式计算)充分混合均匀,然后与氧化铝混合,随后经湿法球磨、干燥得混合粉体;
(2)将步骤(1)所得的混合粉体装入模具内等静压成型得到生坯,将生坯进行高温烧结即得所述的氧化铝陶瓷基板;其中,所述高温烧结过程中,其温度为1450~1550℃,保温时间为0.5~3h。