应于陶瓷底面涂层的要求。本发明的优选实施方式为DE 10 2012 103507 Al中所述的混合层。
[0122]附图标记列表
[0123]玻璃陶瓷件I
[0124]玻璃陶瓷2
[0125]用于制造结构化涂层的装置3
[0126]I 的侧面10，11
[0127]涂层5
[0128]激光器7
[0129]聚焦光学镜9
[0130]控制装置13
[0131]检流计扫描仪15
[0132]X-Y 工作台16
[0133]2的经光学改性的区域20
[0134]20 的轮廓21
[0135]2的与20相邻的区域22
[0136]20中的光散射缺陷23
[0137]消光24
[0138]玻璃陶瓷灶台30
[0139]电子板31
[0140]发光二极管32
[0141]加热设备34
[0142]颜色层51
[0143]密封层52
[0144]结构部件53
[0145]窗口54
[0146]53 的轮廓55
[0147]激光射束71
[0148]透射度曲线120，122，171，172，
[0149]173
【主权项】
1.一种用于制造具有结构化涂层的玻璃陶瓷件的方法，所述方法具有下述步骤: -提供一种玻璃陶瓷件(I)，其具有在可见光谱范围内至少局部阻挡光线、优选不透明的涂层， -通过脉冲式的激光射束照射所述玻璃陶瓷件(I)，从而通过消融而去除所述涂层(5)，其中 -在照射过程中，将所述激光射束在所述玻璃陶瓷件(I)的表面上移动，从而去除所述涂层(5)的一个区域，以及 -在去除所述涂层(5)之后，通过同一个激光器(7)在去除了所述涂层(5)的区域中这样照射所述玻璃陶瓷，即，在经照射的区域中对所述玻璃陶瓷光学改性。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过脉冲式的激光射束在所述玻璃陶瓷件(1)的设有所述涂层(5)的侧面上对玻璃陶瓷件(I)进行照射，优选地，使用波长小于SOOnm的激光福射。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，使用脉冲持续时间小于lOOOps、优选小于200ps、特别优选小于20ps的脉冲式的激光福射。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，通过所述激光器(7)的所述照射降低所述玻璃陶瓷的透光度来对所述玻璃陶瓷进行光学改性，优选地，在照射所述玻璃陶瓷(2)的过程中使激光强度保持在所述玻璃陶瓷(2)的消融界限以下。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在降低所述玻璃陶瓷(2)的所述透光度的过程中，所述激光器(7)的焦平面到所述玻璃陶瓷件(I)的表面的相对距离在2至1mm范围内、优选在4至8_范围内，和/或所述焦平面位于提供的所述玻璃陶瓷件(I)的表面上方或下方。6.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，使用由着色的金属离子整体着色的玻璃陶瓷，并且在去除了所述涂层(5)之后，通过所述激光器(7)在去除了所述涂层(5)的区域中以此方式照射所述玻璃陶瓷，使得在照射的区域中通过降低吸收系数对所述玻璃陶瓷光学改性。7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，激光的功率密度选择为，局部加热所述玻璃陶瓷板的经照射的区域，其中 -至少加热至，在经加热区域的体积中在380纳米和780纳米光波长之间的可见光谱范围内的至少一个光谱范围中提高玻璃陶瓷材料的透射度，并且 -在加热之后，终止激光照射并且对经照射的区域进行冷却。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，在去除了所述涂层(5)的一个区域之后，使所述激光射束(71)聚焦在所述玻璃陶瓷(2)的内部并且通过在所述玻璃陶瓷(2)中生成点状的光散射缺陷(23)而在经照射的区域中对所述玻璃陶瓷(2)光学改性，其中优选在所述玻璃陶瓷(2)的内部的脉冲强度超过消融界限，而所述玻璃陶瓷表面上的脉冲强度保持在所述消融界限以下。9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，在去除了所述涂层(5)之后，消融所述玻璃陶瓷(2)的表面。10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，通过消融在所述玻璃陶瓷件(I)的有结节的侧面上去除所述涂层(5)。11.一种板状设计的、具有两个相对置的侧面(10、11)的玻璃陶瓷件(I)，其中: -至少在其中一个侧面(10、11)上施加有在可见光谱范围内至少部分阻挡光线的、优选不透明的涂层(5)，其中 -去除所述涂层(5)的一个区域，并且其中 -所述玻璃陶瓷件(I)的玻璃陶瓷(2)具有第一区域(20)，在该区域中其光学特性相对于相邻的区域(22)的光学特性进行改性，其中所述第一区域(20)的轮廓(21)至少部分地与去除了所述涂层(5)的区域的轮廓(55)这样重合，S卩，所述第一区域的轮廓(21)的形状在该重合的部分中相对于所述结构部件(53)的轮廓(55)的形状偏差最大20μηι，优选最大5μηι，并且其中所述第一区域(21)和相邻的区域是一体的，从而所述第一区域(20)和相邻的区域(22)在没有接合分界的情况下过渡至彼此。12.根据权利要求11所述的玻璃陶瓷件，其特征在于，所述涂层(5)具有多个层(51、52)，其中通过去除涂层而形成的所述涂层(5)的所述结构部件(53)的所述轮廓(55)包括这些层的经去除区域的重合边缘；以及/或者 所述第一区域(20)的透光度相对于相邻的区域(22)降低，并且优选地， -在可见光谱范围内、优选在400nm至780nm的光谱范围内的波长变化时，透射度差异(T1-T2)Zi(TdT2)相对于所述透射度差异的平均值的波动为最大30%，优选最大20%，其中τ2作为对于特定波长的第一区域(20)的透射度以及T1作为对于该波长的第二区域(22)的透射度，或者 -在400至780nm的波长范围内，差异(Ct1(A)-Q2(A))/(αι(λ)+α2(λ))相对于该差异的平均值的波动最大30%，优选最大20%，其中Ct1(A)为经照射的第一区域(20)的吸收系数以及€(2(λ)为相邻的第二区域(22)的吸收系数。13.根据权利要求12中所述的玻璃陶瓷件，其特征在于，所述玻璃陶瓷件(I)的所述玻璃陶瓷⑵包含至少一种下述元素:?太、锡、铁、1凡、络、铺、钕、铕、猛、钴、镍、锌、砷、铺、铜、银和/或金。14.根据权利要求11-13中任一项所述的玻璃陶瓷件，所述玻璃陶瓷件通过氧化钒整体着色，并且其中在所述第一区域(20)中在可见光谱范围内的透光度求积分相比于相邻的第—■区域(22)而提尚。15.根据权利要求11-14中任一项所述的玻璃陶瓷件，其特征在于，在所述玻璃陶瓷(2)中通过点状光散射的缺陷(23)对所述第一区域(20)进行光学改性。16.根据权利要求11-15中任一项所述的玻璃陶瓷件，其特征在于，所述玻璃陶瓷(2)的其光学特性改性的所述第一区域(20)包括在去除了涂层(5)的区域中玻璃陶瓷(2)表面的消光(24)。17.根据权利要求11-16中任一项所述的玻璃陶瓷件，其特征在于，去除了所述涂层(5)的区域的宽度至少部分地小于450μηι，优选小于300μηι。18.—种玻璃陶瓷灶台(30)，其包括根据权利要求11-17中任一项所述的玻璃陶瓷件(I)，其中所述玻璃陶瓷件(I)构成玻璃陶瓷灶台(30)的玻璃陶瓷-烹饪板，并且在由去除了所述涂层(5)的区域构成的结构部件(53)下方这样设置光源，使得该光源的光线穿过所述结构部件(53)而到达所述玻璃陶瓷烹饪板的使用面并且能够被操作人员看到。19.根据权利要求18所述的玻璃陶瓷灶台，其中，在结构部件(53)的下方设置电子板(31)，其中在所述电子板(31)上装配有至少一个发光二极管(32);或者 在所述玻璃陶瓷件(I)和所述光源之间设有薄膜，其颜色对应于所述涂层(5)的颜色，优选在L.a.b色彩空间中色彩值间距的AL.a.b的值为小于10;或者 在所述玻璃陶瓷件(I)上在去除了涂层的区域中施加半透明的涂层，其颜色对应于所述涂层(5)的颜色，优选在L.a.b色彩空间中色彩值间距的AL.a.b的值为小于10。
【专利摘要】本发明的目的在于改善在玻璃陶瓷载体上的结构化涂层的制造，能够更灵活地进行结构化。为此提供一种用于制造具有结构化涂层的玻璃陶瓷件(1)的方法，该方法包括：-提供一种玻璃陶瓷件(1)，其具有在可见光谱范围内至少局部阻挡光线、优选不透明的涂层，-通过脉冲式的激光射束(71)在设有涂层(5)的表面上照射玻璃陶瓷件(1)，从而通过消融而去除涂层(5)，其中-在照射过程中将激光射束移动至玻璃陶瓷件(1)的表面上，从而去除涂层(5)的一个区域，该区域具有比激光射束直径更大的横向扩张，以及-在去除涂层(5)之后通过激光器(7)在去除了涂层(5)的区域中这样照射玻璃陶瓷，即，在经照射的区域中对玻璃陶瓷光学改性。
【IPC分类】C03C23/00
【公开号】CN105693109
【申请号】CN201510926160
【发明人】F·瓦格纳, H·瓦尔德施米特
【申请人】肖特股份有限公司
【公开日】2016年6月22日
【申请日】2015年12月14日
【公告号】EP3031785A1, US20160169531