技术总结
本发明有关于一种清洗装置、清洗待清洗工件的方法以及清洗IC衬底传送滚轮的清洗液及方法。所述清洗装置包含第一槽、第二槽、第三槽及第四槽，其中所述第一槽包含第一槽体及至少一个第一超声波震荡器，所述第二槽包含第二槽体及至少一个高压喷洗设备，所述第三槽包含第三槽体及至少一个第三超声波震荡器，所述第四槽包含第四槽体及至少一个第四超声波震荡器。
技术研发人员：钟旻华;杨秉丰;邱咏达;王建仁;李秋雯;魏致高
受保护的技术使用者：日月光半导体制造股份有限公司
文档号码：201510681637
技术研发日：2015.10.20
技术公布日：2017.03.22