一种涂胶头清洗装置的制作方法

本发明涉及涂胶清洗装置技术领域，具体涉及一种涂胶头清洗装置。

背景技术：

黄光制程广泛地用于半导体光刻和显示器面板光刻工艺中，黄光制程的主要过程包括涂胶、曝光、显影三大部分，其中涂胶是个极为重要的环节，涂胶机的状态对产品质量有着较大的影响。

目前，在清洗头装置(Wash Head)对涂胶头(Nozzle)的清洗过程中易产生稀释液(Thinner)外溅的情况，导致气缸轨道的脏污，影响清洗头装置的正常运作。

如图1所示，现有的涂胶头清洗装置的结构为：包括位于所述涂胶头10下方并用于清洗所述涂胶头10的清洗头装置1、设置于气缸轨道2上的气缸3、用于隔离所述清洗头装置1和涂胶滚筒11(Uniformer)的保护壳4，所述清洗头装置1与稀释液供给管道连接，所述保护壳4与气缸3之间的空间为线路储存空间Zl；所述清洗头装置1通过水平连接架5与所述气缸3的顶部固定连接，所述气缸3带动所述清洗头装置1进行往复运动，以清洗所述涂胶头10；在所述水平连接架5的下方设有挡板7，所述挡板7包括弧形段挡板与倾斜段挡板，所述倾斜段挡板连接排液管6。

从上述涂胶头清洗装置的结构可以看出，连接清洗头装置和气缸的水平连接架设于气缸顶部，在气缸带动所述清洗头装置进行往复运动的过程中，从清洗头装置溅出的稀释液易流到气缸轨道及线路储存空间储存的线路上，造成腐蚀或污染，挡板不能对气缸轨道和线路形成有效的保护，减小了涂胶头清洗装置的使用寿命，缩短了设备的维护周期。

技术实现要素：

针对上述现有技术的不足，本发明提供一种涂胶头清洗装置，使得从清洗头装置外溅的稀释液完全溅射在挡板上，并顺着挡板流到排液管，从而有效避免对气缸导轨和线路造成腐蚀或污染，延长了设备的使用寿命及维护周期。

为解决上述问题，本发明提供一种涂胶头清洗装置，包括位于所述涂胶头下方并用于清洗所述涂胶头的清洗头装置、设置于气缸轨道上的气缸、用于保护所述清洗头装置和气缸的保护壳，所述清洗头装置通过连接架与所述气缸的侧面固定连接，在所述连接架的下方设有与排液管连接的倾斜下挡板，在所述连接架的上方设有与所述保护壳连接的倾斜上挡板，所述上挡板通过与所述保护壳连接的支撑架固定。

进一步地，所述气缸带动所述清洗头装置进行往复运动，以清洗所述涂胶头。

进一步地，所述连接架包括水平连接架和设置于所述水平连接架上的倾斜连接架。

更进一步地，所述倾斜连接架的宽度大于所述水平连接架的宽度。

进一步地，所述清洗头装置与稀释液供给管道连接。

进一步地，所述保护壳与气缸之间的空间为线路储存空间。

本发明获得的有益效果是：将连接架设置于气缸的侧面，并且从清洗头装置外溅的稀释液完全溅射在倾斜的上挡板和下挡板上，并顺着挡板流到排液管，从而有效避免对气缸导轨和线路造成腐蚀或污染，延长了设备的使用寿命及维护周期。

附图说明

图1是现有的涂胶头清洗装置的结构示意图；

图2是本发明涂胶头清洗装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明的技术方案进行清楚的描述，附图仅供参考和说明使用，不构成对本发明专利保护范围的限制。

本发明实施例涉及一种涂胶头清洗装置，包括位于所述涂胶头10下方并用于清洗所述涂胶头的清洗头装置1、设置于气缸轨道2上的气缸3、用于隔离所述清洗头装置1和涂胶滚筒11的保护壳4，所述保护壳为金属壳或其他壳体，所述气缸3带动所述清洗头装置1进行往复运动，以清洗所述涂胶头10；所述金属壳4与气缸3之间的空间为线路储存空间Zl；所述清洗头装置1与稀释液供给管道相连；

所述清洗头装置1通过连接架5与所述气缸3的侧面固定连接，在所述连接架5的下方设有与排液管6连接的倾斜下挡板71，在所述连接架5的上方设有与所述金属壳4连接的倾斜上挡板72，所述上挡板72通过与所述金属壳4连接的支撑架8固定，支撑架8对上挡板72形成有效地支撑。

所述连接架5设置于气缸3的侧面，与现有技术中设置于气缸顶面相比，降低了从清洗头装置外溅的稀释液溅射到气缸轨道2和线路储存空间Zl的几率，连接架5的作用是防止稀释液流向气缸3，并且，倾斜的上挡板挡住了从清洗头装置1外溅的稀释液，稀释液顺着下挡板流到排液管，从而对气缸导轨和线路形成有效的保护。

在本实施例中，所述连接架5包括水平连接架51和设置于所述水平连接架51上的倾斜连接架52。所述倾斜连接架52的宽度大于所述水平连接架51的宽度，避免了稀释液沿着水平连接架51流向气缸3，加装宽度更大的倾斜连接架52防止稀释液污染气缸和线路。

如上述实施例为本发明较佳的实施方式，但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制，其他的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本发明的保护范围之内。