1.一种半导体机台附属产物循环冷凝处理装置，包括底座(1)、冷凝器(2)和阀门(6)，其特征在于：所述底座(1)的右侧顶端固定安装有冷凝器(2)，且冷凝器(2)的顶端左侧固定安装有第一通管(3)，所述底座(1)的内部开设有收集槽(4)，所述底座(1)的左侧固定安装有出液管(5)，且出液管(5)的左端外壁固定安装有阀门(6)，所述底座(1)的左侧顶端固定安装有支撑管(7)，且支撑管(7)的顶端固定安装有冷凝罐(8)，所述冷凝罐(8)的内部顶端固定安装有支撑杆(9)，且支撑杆(9)的底端固定安装有挡块(10)，所述支撑杆(9)的底端外壁套接有轴套(11)，所述轴套(11)的外壁固定安装有扇叶(12)，所述冷凝罐(8)的左侧固定安装有进气管(13)，且进气管(13)的外壁插设有套筒(14)，所述套筒(14)的顶端插设有转杆(16)，且转杆(16)的顶端固定安装有安装块(15)，所述转杆(16)的底端固定安装有挤压板(17)，所述套筒(14)的内部中间位置处固定安装有集灰槽(18)，且集灰槽(18)的两侧皆开设有通孔(19)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体机台附属产物循环冷凝处理装置，其特征在于：所述第一通管(3)为倾斜设置，且第一通管(3)插设在冷凝罐(8)的内部。
3.根据权利要求1所述的一种半导体机台附属产物循环冷凝处理装置，其特征在于：所述收集槽(4)的底端靠近出液管(5)的一端为倾斜设置，所述收集槽(4)与出液管(5)相连通。
4.根据权利要求1所述的一种半导体机台附属产物循环冷凝处理装置，其特征在于：所述轴套(11)的内壁直径与支撑杆(9)的外壁直径大小相等，所述轴套(11)与挡块(10)组成转动式结构。
5.根据权利要求1所述的一种半导体机台附属产物循环冷凝处理装置，其特征在于：所述转杆(16)的外壁设置有外螺纹，所述套筒(14)的内壁设置有内螺纹，所述转杆(16)与套筒(14)螺纹连接。
6.根据权利要求1所述的一种半导体机台附属产物循环冷凝处理装置，其特征在于：所述通孔(19)的靠近集灰槽(18)一端的内壁直径逐渐减小，两组所述通孔(19)关于集灰槽(18)呈对称关系。