一种增加磁性粉体在镁合金微弧氧化膜中含量的方法
【专利摘要】本发明涉及一种镁合金表面耐腐蚀及具有功能性防护层的制备方法，具体讲是涉及增加磁性粉体在镁合金微弧氧化膜中含量的方法，其属于属于表面处理【技术领域】；首先将镁合金基体放置在底部设有磁铁的电解槽中，电解槽内的电解液中加有磁性粉体，使其均匀覆盖磁性粉体，再采用微弧氧化的方法在镁合金表面复合的陶瓷膜，可在镁合金表面形成均匀覆盖的磁性粉体复合微弧氧化陶瓷膜，该复合膜层可以减少微弧氧化膜层表面的微孔和裂纹，提高镁合金的耐蚀性；使微弧氧化膜具有磁性功能。通过电解槽外侧底部的磁铁，使得磁性粉体在磁力的作用下，通过微弧氧化熔融放电通道进入氧化膜的内部，增加粉体在微弧氧化膜的复合量，使其更多的体现磁性粉体的电磁波吸收、屏蔽功能，增加其应用领域。
【专利说明】一种增加磁性粉体在镁合金微弧氧化膜中含量的方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种镁合金表面耐腐蚀及具有功能性防护层的制备方法，具体讲是涉及增加磁性粉体在镁合金微弧氧化膜中含量的方法，其属于属于表面处理【技术领域】。
技术背景
[0002]镁合金以其低密度、高的比强度和比刚度、优良的机械加工性能和铸造性、良好的阻尼减震性、高的热导率、高的尺寸稳定性、优良的电磁屏蔽性能以及可回收利用等优良的特性被认为是二十一世纪最具有开发和应用潜力的绿色材料。但镁合金低的耐蚀性限制了其应用。
[0003]微弧氧化是一种直接在Al、Mg、T1、Ta、Nb、Zr等有色金属表面原位生长陶瓷层的新技术。该技术是最近二十年来在阳极氧化基础上发展起来的。目前，微弧氧化膜层主要以增强轻金属耐腐蚀性为目的，氧化膜的表面都存在大量放电微孔，腐蚀介质可以通过这些微孔进入膜层腐蚀基体，为提高其耐腐蚀性能，采用引入添加剂(抑弧剂、纳米粉体、稀土等)进入电解液可提高氧化膜的耐腐蚀性能。现有粉体复合微弧氧化膜的制备，粉体复合量少，作用不明显
【发明内容】
[0004]本发明的目的在于提供一种增加磁性粉体在镁合金微弧氧化膜中含量的方法，该方法是首先将镁合金基体放置在外侧底部设有磁铁的电解槽中，电解槽内的电解液中加有磁性粉体，使其均匀覆盖磁性粉体，再采用微弧氧化的方法在镁合金表面获得更多磁性粉体复合的陶瓷膜，以提高镁合金的耐蚀性并使其具有磁性功能。
[0005]为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案为一种增加磁性粉体在镁合金微弧氧化膜中含量的方法，其特征在于:其包括如下步骤:
[0006](I)镁合金经除油后，表面用去离子水清洗干净并吹干；
[0007](2)将清洗后的镁合金放入外侧底部具有磁铁的电解槽中，电解槽内的电解液内加有磁性粉体搅拌电解液，使磁性粉体均匀的覆盖在镁合金基体的表面；磁性粉体粉体的加入量在3?5g/L ；
[0008](3)将均匀覆盖磁性粉体的镁合金进行微弧氧化处理，处理时间为1530min，微弧氧化电解液为:20g/L硅酸钠，10g/L氟化钠；
[0009](4)清洗:将微弧氧化处理后的镁合金用去离子水清洗；
[0010](5)干燥:将清洗的镁合金吹干，得到磁性粉体含量高的磁性粉体复合微弧氧化陶瓷膜。
[0011]所述磁性粉体为纳米或微米级磁性粉体或非磁性粉体表面包覆磁性金属。
[0012]所述纳米级磁性粉体为铁氧体、金属铁、钴或镍粉。
[0013]所述非磁性粉体表面包覆磁性金属为Ni包覆陶瓷粉体或Ni包覆非磁性金属粉体。
[0014]本发明的优点在于:首先将镁合金基体放置在底部设有磁铁的电解槽中，电解槽内的电解液中加有磁性粉体，使其均匀覆盖磁性粉体，再采用微弧氧化的方法在镁合金表面复合的陶瓷膜，可在镁合金表面形成均匀覆盖的磁性粉体复合微弧氧化陶瓷膜，该复合膜层可以减少微弧氧化膜层表面的微孔和裂纹，提高镁合金的耐蚀性；使微弧氧化膜具有磁性功能。通过电解槽外侧底部的磁铁，使得磁性粉体在磁力的作用下，通过微弧氧化熔融放电通道进入氧化膜的内部，增加粉体在微弧氧化膜的复合量，使其更多的体现磁性粉体的电磁波吸收、屏蔽功能，增加其应用领域。
【具体实施方式】
[0015]以下结合实施例对本发明的技术方案作进一步的描述。
[0016](I)镁合金经除油后，表面用去离子水清洗干净并吹干；
[0017](2)将清洗后的镁合金放入底部加有磁铁的电解槽中，电解槽内的电解液内加有磁性粉体(金属镍粉)，搅拌电解液，使磁性粉体均匀的覆盖在镁合金基体的表面；
[0018](3)将均匀覆盖磁性粉体的镁合金进行微弧氧化处理，处理时间为1530min，微弧氧化电解液为:20g/L硅酸钠，10g/L氟化钠；
[0019](4)清洗:将微弧氧化处理后的镁合金用去离子水清洗；
[0020](5)干燥:将清洗的镁合金吹干，得到磁性粉体含量高的磁性粉体复合微弧氧化陶瓷膜。
【权利要求】
1.一种增加磁性粉体在镁合金微弧氧化膜中含量的方法，其特征在于:其包括如下步骤: (1)镁合金经除油后，表面用去离子水清洗干净并吹干； (2)将清洗后的镁合金放入外侧底部具有磁铁的电解槽中，电解槽内的电解液内加有磁性粉体搅拌电解液，使磁性粉体均匀的覆盖在镁合金基体的表面；磁性粉体粉体的加入量在3?5^/1 ； (3)将均匀覆盖磁性粉体的镁合金进行微弧氧化处理，处理时间为1530111111，微弧氧化电解液为:208/1硅酸钠，10^/1氟化钠； (4)清洗:将微弧氧化处理后的镁合金用去离子水清洗； (5)干燥:将清洗的镁合金吹干，得到磁性粉体含量高的磁性粉体复合微弧氧化陶瓷膜。
2.根据权利要求1所述的增加磁性粉体在镁合金微弧氧化膜中含量的方法，其特征在于:所述磁性粉体为纳米级磁性粉体或非磁性粉体表面包覆磁性金属。
3.根据权利要求2所述的增加磁性粉体在镁合金微弧氧化膜中含量的方法，其特征在于:所述纳米级磁性粉体为铁氧体、金属铁、钴或镍粉。
4.根据权利要求2所述的增加磁性粉体在镁合金微弧氧化膜中含量的方法，其特征在于:所述非磁性粉体表面包覆磁性金属为附包覆陶瓷粉体或附包覆非磁性金属粉体。
【文档编号】C25D15/00GK104313665SQ201410627707
【公开日】2015年1月28日 申请日期:2014年11月10日 优先权日:2014年11月10日
【发明者】邵忠财, 孔冰, 张弘 申请人:沈阳理工大学