祸。优选的，石墨烯的纯度多95%。
[0038]优选的，在薄膜晶体管显示模组的彩色滤光片基板上激光蒸发镀制备石墨烯层时，采用CO2激光蒸发镀。
[0039]请参阅图2，使用的激光蒸发镀膜设备200包括真空反应室201、激光器202、衰减器203、第一透镜204、光圈205、分光器206、第二透镜207、坩祸208、基板架209、探头210、光电池211。
[0040]真空反应室201开设有窗口 2011。激光器202位于真空反应室201外且正对窗口2011。激光器202为CO2连续激光器。激光器202与窗口 2011相隔预定距离。
[0041]衰减器203、第一透镜204、光圈205、分光器206沿激光的光路方向自激光器202靠近窗口 2011的一侧向窗口 2011依次间隔排布。第二透镜207位于真空反应室201内且正对窗口 2011设置。坩祸208收容于真空反应室201且与第二透镜207间隔设置。坩祸208用于盛放待蒸发的材料。基板架209收容于真空反应室201且与坩祸208间隔设置。探头210收容于真空反应室201且位于基板架209靠近坩祸208的一侧。探头210用于感应腔室温度。光电池211位于分光器206的一侧，光电池211用于进行光电转换产生电磁波。优选的，分光器206沿激光光路方向倾斜45°设置。
[0042]使用上述激光蒸发镀膜设备200在薄膜晶体管显示模组的彩色滤光片基板上激光蒸发镀制备石墨烯层时，将石墨烯放置于坩祸208内，将TFT模组放置于基板架209且彩色滤光片基板朝向坩祸208设置。激光器202发射的激光由外而内依次经过衰减器203、第一透镜204、光圈205、分光器206、第二透镜207反射至坩祸208，对坩祸208内的石墨烯进行激光加热蒸发，从而在彩色滤光片基板的表面沉积石墨烯薄膜。
[0043]优选的，薄膜晶体管显示模组的彩色滤光片基板在真空磁控溅射制备石墨烯层之前先进行清洗、干燥处理及静电消散处理。清洗的步骤包括依次进行纯水、碱液、BJ喷淋、DI喷淋及高压喷淋。优选的，碱液为清洗剂，更优选的，碱液中含有氢氧化钾。BJ喷淋指的是二流体喷淋，即采用含空气的水进行喷淋。DI喷淋指的是超纯水喷淋，超纯水指的是电阻率多8兆欧的水。干燥处理包括依次进行冷风干燥和热风干燥。需要说明的是，如果薄膜晶体管显示模组本身是干净的，无脏污及灰尘，则这个步骤可以省略。
[0044]优选的，上述触控显示装置的制备方法还包括步骤:将盖板及偏光板分别层叠于石墨烯层及触摸感应层表面。优选的，盖板及偏光板通过光学胶分别与石墨烯层及薄膜晶体管基板12的表面粘合。
[0045]上述触控显示装置的制备方法，石墨烯层直接形成在彩色滤光片基板表面，无需再使用一层玻璃承载石墨烯层，从而上述触控显示装置较薄；同时石墨烯层直接形成于彩色滤光片基板表面，无需粘合，工艺步骤较为简单；激光蒸镀采用非接触式加热，避免坩祸污染，得到的石墨烯膜纯度较高；激光能量密度高，蒸发速度高，因此效率较高，且不会引起靶材带电。
[0046]以下结合具体实施例进行详细说明。
[0047]实施例1
[0048]实施例1的触控显示装置的石墨烯层的制备包括以下步骤:
[0049](I)使用清洗机对TFT模组的TFT基板进行纯水、碱液、BJ喷淋、DI喷淋、高压喷淋依次清洗，将基板表面脏污及灰尘清洗干净、经冷风、热风干燥、静电消散，检验表面无脏污及灰尘，等待镀膜。
[0050](2)使用0)2激光蒸发镀膜机镀膜，镀膜室的真空度为6.5*10 2Pa,镀膜室的温度为100 °C，氦气流量为30sccm，基距为1150mm，激光束功率密度为104W/cm2?109W/cm2，坩祸为石墨坩祸，蒸发材料为石墨烯。
[0051]采用膜厚仪测试石墨稀层的厚度为26nm。
[0052]采用色差计测试石墨稀层的色差:L = 39.3，a = -1.8，b = -4.8，合格。
[0053]采用分光计测试石墨烯层的透光率为96.4%。
[0054]当然，制备触控显示装置还包括盖板、偏光板、引线的制备，采用业内常用方法即可，在此不做限定。
[0055]采用电阻仪测试石墨烯层的电阻为6.9*10sQ/cm2;采用恒温恒湿箱在90°C，60%湿度240小时烘烤实验，石墨烯层的电阻变化率为35% ;酒精浸泡5分钟，石墨烯层的电阻变化率为46% ;烤箱加垫60°C烘烤240小时，电阻率变化为72%。
[0056]以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1.一种触控显示装置，包括薄膜晶体管显示模组，所述薄膜晶体管显示模组包括薄膜晶体管基板及与薄膜晶体管基板间隔设置的彩色滤光片基板，其特征在于，所述触控显示装置还包括触摸感应层及通过引线与所述触摸感应层连接的石墨烯层，所述触摸感应层层叠于所述薄膜晶体管基板表面，所述石墨烯层蒸镀于所述彩色滤光片基板表面。2.根据权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述石墨烯层的厚度为20nm?50nmo3.根据权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述触摸感应层形成于所述薄膜晶体管基板朝向所述彩色滤光片基板的表面，所述石墨烯层形成于所述彩色滤光片基板远离所述薄膜晶体管基板的表面。4.根据权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述触摸感应层的材料为ITO。5.根据权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，还包括层叠于所述石墨烯层表面的盖板。6.根据权利要求3所述的触控显示装置，其特征在于，还包括层叠于所述薄膜晶体管基板远离所述彩色滤光片基板的表面的偏光板。7.如权利要求1?6任一项所述的触控显示装置的制备方法，其特征在于，包括在所述薄膜晶体管显示模组的彩色滤光片基板上激光蒸发镀制备石墨烯层。8.根据权利要求7所述的触控显示装置的制备方法，其特征在于，所述激光蒸发镀制备石墨烯层的工艺条件为:镀膜室的真空度为10 2Pa?10 3Pa,镀膜室的温度为80°C?100°C，氦气流量为28sccm?32sccm，基距为1150mm，激光束功率密度为104W/cm2?109W/2cm ο9.根据权利要求7所述的触控显示装置的制备方法，其特征在于，所述彩色滤光片基板在激光蒸发镀制备石墨烯层之前先进行清洗、干燥处理及静电消散处理，所述清洗的步骤包括依次进行纯水、碱液、二流体喷淋、超纯水喷淋及高压喷淋，所述干燥处理包括依次进行冷风干燥和热风干燥。10.根据权利要求7所述的触控显示装置的制备方法，其特征在于，所述在所述薄膜晶体管显示模组的彩色滤光片基板上激光蒸发镀制备石墨烯层的步骤中，使用的蒸发材料为石墨烯，使用的坩祸为石墨坩祸。
【专利摘要】本发明涉及一种触控显示装置及其制备方法。一种触控显示装置，包括薄膜晶体管显示模组，所述薄膜晶体管显示模组包括薄膜晶体管基板及与薄膜晶体管基板间隔设置的彩色滤光片基板，所述触控显示装置还包括触摸感应层及通过引线与所述触摸感应层连接的石墨烯层，所述触摸感应层层叠于所述薄膜晶体管基板表面，所述石墨烯层蒸镀于所述彩色滤光片基板表面。上述触控显示装置厚度较薄。
【IPC分类】G06F3/041
【公开号】CN105224128
【申请号】CN201510632641
【发明人】张迅, 张伯伦, 易伟华
【申请人】江西沃格光电股份有限公司
【公开日】2016年1月6日
【申请日】2015年9月29日