1.一种柔性衬底的形成方法，其特征在于，包括：
提供一形成有衬底材料层的基板，于所述衬底材料层上形成具有平滑表面的牺牲材料层，所述牺牲材料层的表面高度的最大差异小于等于0.01um；
依次刻蚀所述牺牲材料层和部分衬底材料层以形成所述柔性衬底，所述牺牲材料层与所述衬底材料层的刻蚀速率的差值不超过10nm/s。
2.如权利要求1所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，所述衬底材料为聚碳酸酯、聚酰亚胺或聚对苯二甲酸乙二酯。
3.如权利要求1所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，于所述基板上形成衬底材料层的步骤包括：
于所述基板上旋涂衬底材料；
对所述衬底材料进行固化以形成衬底材料层。
4.如权利要求3所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，所述衬底材料层的固化温度为大于等于200℃。
5.如权利要求3所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，所述衬底材料层的固化时间为大于等于30min。
6.如权利要求1所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，还包括：对所述衬底材料中的颗粒进行颗粒测试，以确认所述衬底材料中的颗粒尺寸。
7.如权利要求6所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，刻蚀前的所述衬底材料层的厚度值大于等于刻蚀后的所述衬底材料层的厚度值与0.5倍的衬底材料的颗粒尺寸之和。
8.如权利要求6所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，刻蚀去除的衬底材料层的厚度值为大于等于0.5倍的衬底材料的颗粒尺寸。
9.如权利要求6所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，所述牺牲材料层的厚度值为大于等于1.5倍的衬底材料的颗粒尺寸。
10.如权利要求1所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，所述牺牲材料为光刻胶。
11.如权利要求1所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，于所述衬底材料层上形成牺牲材料层的步骤包括：
于所述衬底材料层上旋涂牺牲材料；
对所述牺牲材料进行固化，以形成牺牲材料层。
12.如权利要求11所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，所述牺牲材料层的固化温度为大于等于80℃。
13.如权利要求11所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，所述牺牲材料层的固化时间为大于等于1min。
14.如权利要求1所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，采用等离子体刻蚀所述牺牲材料层及部分衬底材料层。
15.如权利要求14所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，所述等离子体刻蚀的刻蚀气体包括氧气。
16.如权利要求1所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，在对所述牺牲材料层和部分衬底材料层进行刻蚀后，还包括：去除所述基板。
17.如权利要求1所述的柔性衬底的形成方法，其特征在于，所述衬底材料层表面具有凹陷和/或凸起。