用于无线保真系统级封装芯片的基板及其形成方法与流程

文档序号:12737222阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于无线保真系统级封装芯片的基板,其特征在于,包括:

芯层;

形成在所述芯层之上的第一至第M金属层,其中,M为正整数;

形成在所述第M金属层之上的顶层阻焊剂层;

形成在所述芯层之下的第M+1至第N金属层,其中,N为大于M的正整数;以及

形成在所述第N金属层之下的底层阻焊剂层。

2.如权利要求1所述的基板,其特征在于,

在所述第M金属层上焊接射频元器件,所述射频元器件水平布线;

在所述第N金属层上焊接电源元器件,所述电源元器件垂直布线。

3.如权利要求1所述的基板,其特征在于,

所述顶层阻焊剂层和所述底层阻焊剂层的厚度相等。

4.如权利要求1所述的基板,其特征在于,

所述第一至第M金属层以及所述第M+1至第N金属层的厚度相等。

5.如权利要求4所述的基板,其特征在于,N为M的两倍。

6.如权利要求1所述的基板,其特征在于,还包括:

形成在任意两个金属层之间的半固化片层。

7.如权利要求1所述的基板,其特征在于,

所述芯层采用的材料是E700GR。

8.如权利要求1所述的基板,其特征在于,所述第一至第N金属层包括铜。

9.一种WIFI装置,其特征在于,包括如权利要求1-8任一项所述的基板。

10.一种家用电器,其特征在于,包括如权利要求9所述的WIFI装置。

11.一种用于无线保真系统级封装芯片的基板的形成方法,其特征在于,包括以下步骤:

提供芯层;

在所述芯层之上形成第一至第M金属层,其中,M为正整数;

在所述第M金属层之上形成顶层阻焊剂层;

在所述芯层之下形成第M+1至第N金属层,其中,N为正整数;

在所述第N金属层之下形成底层阻焊剂层。

12.如权利要求11所述的用于无线保真系统级封装芯片的基板的形成方法,其特征在于,还包括:

将射频元器件以水平布线方式焊接在所述第M金属层上;

将电源元器件以垂直布线方式焊接在所述第N金属层上。

13.如权利要求11所述的用于无线保真系统级封装芯片的基板的形成方法,其特征在于,所述提供芯层具体包括:

提供多个薄板层;

将所述多个薄板层预浸在环氧树脂之中;

进行加热压制以形成所述芯层。

14.如权利要求11所述的用于无线保真系统级封装芯片的基板的形成方法,其特征在于,还包括:

在所述第一至第N金属层的形成过程中,在任意两个金属层之间形成半固化片层。

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