显示基板及其制作方法以及显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种显示基板、一种显示装置和一种显示基板制作方法。
【背景技术】
[0002]AMOLED (Active-matrix organic light emitting d1de，主动矩阵有机发光二极体)显示屏由于OLED (有机发光二极体)电流驱动的特性，在像素上带有多TFT (Thin FilmTransistor，薄膜晶体管)和多电容的设计，例如图1所示的电路结构，相应的像素排列示意图如图2所示。但是对于显示性能要求的日益提高，使得像素电路在设计上的提升存在巨大挑战。例如图3所述，为了改善OLED中阴极和阳极通过过孔搭接，在过孔中由于金属爬坡所引发的短路风险，现有技术中采用像素界定层来填补原阴极搭接到阳极所用的过孔，如图4所示，会导致开口率降低。
[0003]并且，为了提高单位面积像素数，会存在电容过小的问题，如图5所示。现有技术中通过设置Metal3 (不属于栅金属层和源漏金属层的金属)来提高电容，如图6所示，但是仍会降低开口率。
[0004]也就是说，为了弥补像素结构中的种种缺陷，势必会导致显示面板的开口率降低。
【发明内容】
[0005]本发明所要解决的技术问题是，在显示面板像素中的发光层缺失区域必然失去开口面积的情况下，如何有效利用像素中的发光层缺失区域。
[0006]为此目的，本发明提出了一种显示基板，包括多个像素组，
[0007]其中，每个像素组包括4个彩色子像素和4个白色子像素，每个彩色子像素分别对应一个白色子像素，
[0008]每个彩色子像素包括发光区域和发光层缺失区域，在所述发光层缺失区域中设置有第一驱动晶体管，用于驱动所述彩色子像素，
[0009]在所述第一驱动晶体管之上设置有第二驱动晶体管以及所述彩色子像素对应的白色子像素，所述第二驱动晶体管用于驱动所述白色子像素，其中，所述第一驱动晶体管的厚度等于所述白色子像素的微腔的厚度。
[0010]优选地，所述像素组包括:
[0011]位于左上方的第一彩色子像素，其中，所述第一彩色子像素的发光层缺失区域位于所述第一子像素的左上方，
[0012]位于右上方的第二彩色子像素，其中，所述第二彩色子像素的发光层缺失区域位于所述第二子像素的右上方，
[0013]位于左下方的第三彩色子像素，其中，所述第三彩色子像素的发光层缺失区域位于所述第三子像素的右下方，
[0014]位于右下方的第四彩色子像素，其中，所述第四彩色子像素的发光层缺失区域位于所述第四子像素的左下方，
[0015]所述第一彩色子像素、第二彩色子像素、第三彩色子像素、第四彩色子像素以及白色子像素通过子像素渲染法驱动。
[0016]优选地，在所述第一彩色子像素和第四彩色子像素为绿色子像素时，所述第二彩色子像素和第三彩色子像素中的一个子像素为蓝色子像素，另一个彩色子像素为红色子像素，
[0017]或在所述第二彩色子像素和第三彩色子像素为绿色子像素时，所述第一彩色子像素和第四彩色子像素中的一个彩色子像素为蓝色子像素，另一个彩色子像素为红色子像素。
[0018]优选地，还包括:
[0019]设置在所述第一驱动晶体管之上的平坦层，所述第一晶体管和所述平坦层的厚度之和等于所述白色子像素的微腔的厚度，
[0020]则所述第二驱动晶体管包括:
[0021]设置于所述平坦层之上的栅极；
[0022]设置于所述栅极之上的栅绝缘层；
[0023]设置于所述栅绝缘层之上的有源层；
[0024]设置于所述有源层之上的源极和漏极，
[0025]其中，在所述源极和漏极之上还设置有钝化层，在所述钝化层之上设置有所述白色子像素的阳极，所述白色子像素的阳极通过所述钝化层中的过孔与所述漏极电连接，在所述白色子像素的阳极之上设置有像素界定层。
[0026]优选地，所述第二驱动晶体管的栅极与发光区域中彩色子像素的阳极同层形成。
[0027]优选地，还包括:
[0028]设置在所述发光区域的彩色子像素的阳极之上的彩色有机发光层；
[0029]设置在所述彩色有机发光层之上的彩色子像素的阴极。
[0030]优选地，所述彩色子像素的阴极与所述白色子像素的阳极同层形成。
[0031]本发明还提出了一种显示装置，包括上述任一项所述的显示基板。
[0032]本发明还提出了一种用于制作上述任一项所述显示基板的显示基板制作方法，包括:
[0033]在形成像素组中的每个彩色子像素之后，在所述彩色子像素的第一驱动晶体管之上形成第二驱动晶体管；
[0034]在所述第二驱动晶体管之上形成与所述彩色子像素对应的白色子像素，并通过所述第二驱动晶体管驱动所述白色子像素，其中，所述第一驱动晶体管的厚度等于所述白色子像素的微腔的厚度。
[0035]优选地，形成所述像素组中的每个子像素包括:
[0036]在所述像素组的左上方形成第一彩色子像素，在所述像素组的右上方形成第二彩色子像素，在所述像素组的左下方形成第三彩色子像素，在所述像素组的右下方形成第四彩色子像素，
[0037]其中，所述第一彩色子像素的发光层缺失区域位于所述第一子像素的左上方，所述第二彩色子像素的发光层缺失区域位于所述第二子像素的右上方，所述第三彩色子像素的发光层缺失区域位于所述第三子像素的右下方，所述第四彩色子像素的发光层缺失区域位于所述第四子像素的左下方。
[0038]优选地，在形成所述第二晶体管之前还包括:
[0039]在所述第一驱动晶体管之上的平坦层，所述第一晶体管和所述平坦层的厚度之和等于所述白色子像素的微腔的厚度，
[0040]形成所述第二晶体管包括:
[0041 ] 在所述平坦层之上形成栅极；
[0042]在所述栅极之上形成栅绝缘层；
[0043]在所述栅绝缘层之上形成有源层；
[0044]在所述有源层之上形成源极和漏极，
[0045]在形成所述第二晶体管之后还包括:
[0046]在所述源极和漏极之上形成钝化层；
[0047]在所述钝化层中形成过孔；
[0048]在所述钝化层之上形成所述白色子像素的阳极，使所述白色子像素的阳极通过所述过孔与所述漏极电连接；
[0049]在所述白色子像素的阳极之上形成像素界定层。
[0050]优选地，在形成所述第二驱动晶体管的栅极时，在发光区域形成彩色子像素的阳极。
[0051]优选地，还包括:
[0052]在所述彩色子像素的阳极之上形成彩色有机发光层；
[0053]在所述彩色有机发光层之上形成彩色子像素的阴极。
[0054]优选地，在形成所述白色子像素的阳极时，形成所述彩色子像素的阴极。
[0055]根据上述技术方案，在原有彩色子像素的驱动晶体管(即第一驱动晶体管)之上形成白色子像素以及白色子像素的驱动晶体管(即第二驱动晶体管)，可以实现白光OLED (即WOLED)显示，利用了彩色子像素厚度维度上的空间，无需占用显示面板平面维度上的空间，使得彩色子像素中的发光层缺失区域得到了充分利用。
【附图说明】
[0056]通过参考附图会更加清楚的理解本发明的特征和优点，附图是示意性的而不应理解为对本发明进行任何限制，在附图中:
[0057]图1至图6示出了现有技术中像素结构中开口率降低的原因；
[0058]图7示出了根据本发明一个实施例的显示基板的俯视结构示意图；
[0059]图8示出了根据本发明一个实施例的显示基板的截面结构示意图；
[0060]图9示出了根据本发明一个实施例的像素排布示意图；
[0061]图10示出了根据本发明一个实施例的显示基板的具体结构示意图；
[0062]图11示出了根据本发明一个实施例的显示基板制作方法的示意流程图；
[0063]图12至图18示出了根据本发明一个实施例的形成第二驱动晶体管以及相应结构的具体示意图。
[0064]附图标号说明:
[0065]1-第一驱动晶体管；
[0066]11-彩色子像素的阳极；
[0067]12-彩色有机发光层；
[0068]13-彩色子像素的阴极；
[0069]2-第二驱动晶体管；
[0070]21-栅极；
[0071]22-栅绝缘层；
[0072]23-有源层；
[0073]24-源极；
[0074]25-漏极；
[0075]26-钝化层；
[0076]27-白色子像素的阳极；
[0077]3-像素界定层；
[0078]100-像素组；
[0079]101-第一彩色子像素；
[0080]1010-第一彩色子像素中的白色子像素；
[0081]102-第二彩色子像素；
[0082]1020-第二彩色子像素中的白色子像素；
[0083]103-第三彩色子像素；