专利名称：一种产氨菌的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种新发现的微生物菌株，具体地说是一种产氨菌。
背景技术：
微生物腐蚀导致的后果相当严重，约占所有腐蚀的20％(A Review ofSome Characteristics of MIC Caused by Sulfate-reducing BacteriaPast，Present and Future，Anti-corrosion Methods and Materials[J]，Bradford，P.173-182)。其中已被人们广泛认识的是硫酸盐还原菌(SRB)引起的腐蚀，国内外对SRB的研究已经比较深入，但是对于其他腐蚀性细菌，却知之甚少。在实验室和现场模拟实验中，以SRB进行相应的腐蚀实验时，却无法重现实际条件下腐蚀的严重性。所以给了解某些腐蚀性微生物的腐蚀机制及研究相关的防护技术带来困难。1989年，Licina研究了氨促进铜合金腐蚀的机理。T.S.RAO研究了硝酸盐还原菌在铜合金腐蚀中的作用。在此之前，尚未发现相关的对铜镍合金强腐蚀的微生物。
发明内容
本发明的目的是提供一种在实验室条件下产氨性能良好稳定的产氨菌，为微生物腐蚀和防护技术的研究提供方便有力的手段。
本发明所提供的产氨菌为浅井氏葡萄杆菌(Gluconobacter asaii)725A，该菌株已于2004年9月1日在中国典型培养物保藏中心(简称CCTCC)登记，保藏号为CCTCC NO.M204062。
本发明的菌株是从发生腐蚀的铜镍合金B30表面培养分离出的。在光学显微镜下(400倍)可以观察到该菌株的细胞为长杆状，有鞭毛，细胞大小为1.2-1.8×2.5-3.2微米；菌落表面颜色为乳白色，基质色素无，革兰氏染色阴性。其生理生化特征如表1所示表1产氨菌的生理生化特征
本发明的应用将产氨菌在产氨培养液中培养24h，向培养液中滴加奈氏试剂，溶液产生黄棕色沉淀，这说明该菌具有良好的产氨性能，将铜镍合金放入其中会产生明显的腐蚀。该菌株的应用将为微生物腐蚀和防护技术的研究提供方便有力的手段。
图1为产氨菌的细胞形态图。
图2为产氨菌的生长曲线。
图3为铜镍合金的极化曲线。
具体实施例方式
实施例1产氨菌的分离本发明的菌株是从发生腐蚀的铜镍合金B30表面培养分离出的。以无菌操作方式从B30试样表面刮取附着物1-2g，用无菌海水制成菌悬液。将此菌悬液吸取5ml放入50ml2216E培养液(酵母膏1g，蛋白胨5g，磷酸铁0.1g，陈海水1000ml，PH＝7.6-7.8)中，置于恒温培养箱中，在30℃下进行富集培养。
用平板法对富集液进行划线分离。挑取单菌落进行液体培养。将红色石蕊试纸夹悬于每个试管的棉花塞下检验，若培养后试纸转变为蓝色，则可断定有产氨，为阳性反映。不变者为阴性。然后再将阳性试管进行划线分离，将所得单个菌落划线至纯菌种。
实施例2产氨菌的培养将浅井氏葡萄杆菌(Gluconobacter asaii)725A CCTCC NO.M204062从斜面上取一环接入2216E液体培养基中，定期取出少量菌液，用分光光度计测其OD600值，以时间为横坐标，OD值为纵坐标，绘图得到该菌的生长曲线，如图2所示。从图1中可以看出该菌在前8h内生长缓慢，后生长迅速，32h后进入稳定期。
实施例3产氨菌对铜镍合金B10腐蚀的影响极化曲线测试采用经典三电极体系，辅助电极为铂电极，以饱和甘汞电极为参比电极，工作电极为铜镍合金B10。恒电位仪为美国M273电化学工作站。扫描速度为0.4mv/s，电解池中液体为产氨液，产氨菌的接种比例为10％。空白对照为无菌的产氨液。从图3中可以看出由于产氨菌的存在，使得开路电位向负方向移动，工作电极局部腐蚀的可能性大大增加。
权利要求
1.一种产氨菌，该菌株为浅井氏葡萄杆菌(Gluconobacter asaii)725ACCTCC NO.M204062。
全文摘要
本发明公开了一种产氨菌，该菌株为浅井氏葡萄杆菌(Gluconobacter asaii)725A CCTCC NO.M 204062，是从在海水中浸泡的B30铜合金表面培养分离出的。该菌有良好的产氨性能，对铜镍合金有很强的腐蚀性能。该菌株的应用将为微生物腐蚀和防护技术的研究提供方便有力的手段。
文档编号C12N1/20GK1702169SQ20051004229
公开日2005年11月30日 申请日期2005年4月8日 优先权日2005年4月8日
发明者刘光洲, 段东霞, 黄国胜, 王军 申请人:中国船舶重工集团公司第七二五研究所