一种PEG修饰原花青素脂质体的制备方法与流程

文档序号:12333368阅读:399来源:国知局
一种PEG修饰原花青素脂质体的制备方法与流程

本发明属于化妆品技术领域,涉及一种PEG修饰原花青素脂质体的制备方法。



背景技术:

原花青素(proanthocyanidins,简称PC)是一种具有特殊的分子结构的生物类黄酮,根据不同数量的儿茶素或表儿茶素缩合能够形成二、三直至十聚体,其中二聚体为最简单的原花青素(OPC),结构为儿茶素、表儿茶素通过C4,C6或C4,C8键合的低聚物。原花青素存在于许多植物中,葡萄糖和皮成为原花青素的主要来源。

原花青素是清除人体自由基最有效的天然抗氧化剂,其抗自由基氧化能力是维生素E的50倍,维生素C的20倍,还具有保护心血管、抗辐射、抗肿瘤、抗炎、抗过敏、护肤及美容作用。原花青素广泛地应用于药物、食品添加剂、化妆品等邻域,但在应用过程中受外界条件的影响,易氧化,对光热值敏感,这使其应用受到限制,故寻求理想的载体来运输和储存具有重要的意义。

脂质体是一类能够把药物包封于类脂质双分子层内而形成的微型泡囊体。脂质体可以根据形态分为小单室脂质体、大单室脂质体和多层脂质体,脂膜主要由磷脂和胆固醇构成。脂质体具有靶向和淋巴定向性、缓蚀作用、降低药物毒性和提高药物稳定性等优点,其作为药物或者功能性物质的载体在医药、食品和化妆品领域具有巨大的应用前景。

脂质体的稳定性是限制脂质体工业化的最大原因,包括制备过程中粒径分布不均引起的团聚,脂膜不稳定性引起药物泄露,与其他表面活性剂复配能力差等。对脂质体进行表面修饰是提高脂质体稳定性的一种有效方法,其中PEG具有不挥发性、水溶性、生理惰性、保湿性、廉价易得且能够进行工业化生产的优点,是提高脂质体稳定性的优良表面修饰剂。PEG修饰的原花青素脂质体可提高药物的缓释性能、保湿性能、药物的稳定性。因此PEG修饰的原花青素脂质体在化妆品邻域必将称为研究热点。



技术实现要素:

本发明的目的在于提出一种PEG修饰原花青素脂质体的制备方法。

本发明所采用的技术方案:一种PEG修饰原花青素脂质体的制备方法,包括如下步骤:

S1:将0.0048~0.0359g的原花青素和2~20ml的PEG磷酸盐缓冲液进行混合得到混合液;

S2:将0.0096~0.1678g的氢化卵磷脂和0.0352~0.1289g的胆固醇混合后,加入10~100ml无水乙醇和无水乙醚混合液,在45~55℃下超声振荡至完全溶解得到混合液;

S3:将S1中得到的混合液在40~50℃加入S2中的混合液中超声一段时间形成单向体系;

S4:将S3中的单向体系在35~45℃下减压旋蒸至凝胶状,并补充一定量的磷酸盐缓冲液旋蒸一段时间使水化完全,超声时间5~15min后,置于-20℃冷冻8~15h,取出后待其融化超声5~15min,得到原花青素脂质体乳浊液;

S5:将S4得到原花青素脂质体乳浊液与一定浓度的PEG磷酸盐缓冲溶液等体积混合,保存温度为4℃放置40~70min,得到PEG表面修饰的原花青素脂质体。

优选的,S1中加入0.0050g原花青素和6ml的磷酸盐缓冲液。

优选的,S1中加入0.030g原花青素和10ml的磷酸盐缓冲液。

优选的,S2中将0.1000g的氢化卵磷脂和0.0330g的胆固醇混合。

优选的,S2中将0.1523g的氢化卵磷脂和0.1000g的胆固醇混合。

优选的,S2中加入无水乙醚和无水乙醇的15~50ml混合液。

优选的,S2中加入无水乙醚和无水乙醇的20ml混合液。

优选的,S2中乙醚与无水乙醇的混合液中乙醚和无水乙醇的体积比为1:3~1:2。

优选的,采用逆向蒸发—冻融法制备原花青素脂质体,包封率高达54.9%。

优选的,选用氢化卵磷脂和胆固醇为脂膜壁材制备原花青素脂质体,选用2%PEG1500来表面修饰原花青素脂质体。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:(1)本发明脂质体作为原花青素的理想载体,可以增加易挥发、热敏性、易氧化物料的稳定性;(2)本发明选用2%PEG1500来表面修饰原花青素脂质体,原花青素脂质体的存放稳定性和体外缓释性能明显提高,包封率高达83.95%,并且体现出优异的保湿性能;(3)本发明选用氢化卵磷脂和胆固醇为脂膜壁材,原花青素为包覆物,选用逆向蒸发—冻融法制备原花青素脂质体;(4)本发明原花青素脂质体包封率、贮存稳定性明显提高,为脂质体的工业化生产提供了研究基础。

附图说明

图1为体外保湿率曲线图。

图2表面修饰前后脂质体的体外释放率曲线图。

具体实施方式

下面结合具体实施例进一步说明本发明的技术方案。

一种PEG修饰原花青素脂质体的制备方法,包括如下步骤:

S1:将0.0048~0.0359g的原花青素和2~20ml的PEG磷酸盐缓冲液进行混合得到混合液;

S2:将0.0096~0.1678g的氢化卵磷脂和0.0352~0.1289g的胆固醇混合后,加入10~100ml无水乙醇和无水乙醚混合液,在45~55℃下超声振荡至完全溶解得到混合液;

S3:将S1中得到的混合液在40~50℃加入S2中的混合液中超声一段时间形成单向体系;

S4:将S3中的单向体系在35~45℃下减压旋蒸至凝胶状,并补充一定量的磷酸盐缓冲液旋蒸一段时间使水化完全,超声时间5~15min后,置于-20℃冷冻8~15h,取出后待其融化超声5~15min,得到原花青素脂质体乳浊液;

S5:将S4得到原花青素脂质体乳浊液与一定浓度的PEG磷酸盐缓冲溶液等体积混合,保存温度为4℃放置40~70min,得到PEG表面修饰的原花青素脂质体。

S1中加入0.0050g原花青素和6ml的磷酸盐缓冲液。

S1中加入0.030g原花青素和10ml的磷酸盐缓冲液。

S2中将0.1000g的氢化卵磷脂和0.0330g的胆固醇混合。

S2中将0.1523g的氢化卵磷脂和0.1000g的胆固醇混合。

S2中加入无水乙醚和无水乙醇的15~50ml混合液。

S2中加入无水乙醚和无水乙醇的20ml混合液。

S2中乙醚与无水乙醇的混合液中乙醚和无水乙醇的体积比为1:3~1:2。

采用逆向蒸发—冻融法制备原花青素脂质体,包封率高达54.9%。

选用氢化卵磷脂和胆固醇为脂膜壁材制备原花青素脂质体,选用2%PEG1500来表面修饰原花青素脂质体。

(一)实施例

实施例一:本实施方式一种PEG修饰原花青素脂质体的制备方法按以下步骤实现:一、取0.1000g的氢化卵磷脂和0.0330g的胆固醇,用乙醚和无水乙醇混合液20ml溶于100ml烧杯中,在50℃下超声振荡至完全溶解,制成脂质溶液。二、向脂质溶液中加入5g/L的原花青素和6mLPBS超声5min,形成单向体系。三、将单相体系在40℃下减压质凝胶状,并补充PBS至20mL,旋蒸一段时间使水化完全,超声5~15min后,放于-20℃冷冻8~15h,取出后待其融化,超声5~15min,制得脂质体粗品。四、粗品经过处理,制得原花青素脂质体。五、将制得的原花青素脂质体与2%PEG磷酸盐缓冲溶液等体积混合与4℃下放置50~80min,得到PEG表面修饰的原花青素脂质体。

实施例二:本实施方式具体实施方式一不同是步骤一中将0.1523g氢化卵磷脂和0.1000g胆固醇置于烧杯中,其他步骤与具体实施方式一相同。

实施例三:本实施方式具体实施方式一不同是步骤一中将0.1478g氢化卵磷脂和0.0985g胆固醇置于烧杯中,其他步骤与具体实施方式一相同。

实施例四:本实施方式具体实施方式一不同是步骤二中将30g/L原花青素和10mLPBS加入脂质溶液中。

实施例五:本实施方式具体实施方式一不同是步骤二中将10g/L原花青素和8mLPBS加入脂质溶液中。

(二)脂质体的保湿性能研究

在相对湿度在40~45%和75~80%下,对脂质体的保湿性能测试。

实验结果如下表1所示

表1脂质体的保湿性能(相对湿度40~45%,75~80%)

Table 1 The moisture retention of liposomes(RH=40~45%,75~80%)

表1脂质体的保湿性能

图1为体外保湿率

(a)RH=75~80%脂质体,(b)RH=75~80%水,

(c)RH=40~45%脂质体,(d)RH=40~45%水

Fig.4-9The in vitro moisture rate of liposomes

(a)RH=75~80%Liposomes,(b)RH=75~80%Water,

(c)RH=40~45%Liposomes,(d)RH=40~45%Water

在两个不同相对湿度的环境中,加入脂质体的样品保湿率均高于未加入脂质体的样品,显示出脂质体在保湿锁水作用中具有优异性能。

PEG表面修饰后的原花青素脂质体体外缓释性研究

在37℃下,PH为7.2的环境条件下原花青素溶液、原花青素脂质体和2%PEG1500修饰原花青素脂质体的体外释放率测试。

实验结果如下图2所示

实验结果图2表面修饰前后脂质体的体外释放率

(a)原花青素溶液,(b)未经表面修饰原花青素脂质体,

(c)2%PEG1500修饰原花青素脂质体

Fig.4-8The in vitro release medicinal of liposomes

(a)procyanidinssolution,(b)procyanidinsliposomes,

(c)2%PEG1500-modified procyanidinsliposomes

在相同环境中48h后,没有脂质体包覆的原花青素溶液累计体外释放率最高,经过PEG修饰后的原花青素脂质体的累计体外释放率最低。

对于本领域的技术人员来说,可根据以上描述的技术方案以及构思,做出其它各种相应的改变以及变形,而所有的这些改变以及变形都应该属于本发明权利要求的保护范围之内。

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