专利名称：用于捕集挥发性有机污染物的局部排除系统的制作方法
技术领域：
本发明是有关于一种局部排气系统，特别是有关于一种捕集挥发性污染物的局部排气系统。
背景技术：
在半导体或是光电产品的制程中，不可避免的在制程中待处理物件会放置在无尘室中，其中待处理物件可以像是半导体的硅晶片或是三五族的晶片，或是液晶显示器的玻璃基板或塑胶基板。这些基板在制程中无可避免的会产生污染物。如果这些污染物在进行制程之后会附著在基板上，可以使用湿式洁净过程或是干式洁净过程予以洁净。如果这些污染物是挥发性的，也就是会在制程中弥漫在整个反应室中，一般的设计是希望随着无尘室中的气流带走。
然而，在无尘室或是反应室中的气流是无法顺畅的将这些挥发性的污染物带走。渐渐的会在反应室或是无尘室中的墙壁与机台上形成一层污染物。因此，设备机台运作一段时间之后会需要进行定期检查与保养。这样会缩短设备机台操作的时间。
一种解决方式是在设备机台停机进行保养时，使用集气罩将这些特定的挥发性气体予以抽离。但是设备机台在运作的时候无法将这些挥发性气体予以抽离。
另一种解决方式是在反应室或是无尘室中的机台周围放置局部排气系统，其中局部排气系统使用集气罩与排气管。集气罩与排气管段均为工业通风局部排气系统中不可或缺的设备。良好的设计除能完全有效的控制污染源之外，亦能将对使用者及机台的不良影响减至最低。传统的局部排气系统常以增加排气量来提高集气罩开口面的捕集风速，希望藉此捕捉更多的污染物。但是，却忽略了高科技产业机台对于制程气流环境的稳定要求。不均匀的捕集气流除减少污染物捕集效率外，甚著更破坏制程气流环境而造成产品良率的降低。
是以，由以上可知，上述的传统局部排气系统于高科技产业设备的使用上，显然有本质上的缺点，而可待加以改善。
缘是，本创作人有感于上述缺点的可改善，乃特潜心研究，并配合学理的应用，终于提出一种设计合理且可有效改善上述缺点的本发明。
发明内容
鉴于上述的发明背景中，传统的局部排气系统所产生的不足之处，本发明的目的在于提供一种捕集挥发性污染物的局部排气系统，主要是在解决一般集气罩使用于高科技产业机台时，常造成捕集风速不均，破坏稳定制程气流环境，影响产品良率以及污染物控制效率不高的缺点。故设计一局部排气系统使其在不影响稳定制程气流环境下，仍不失捕捉污染物的效能。
本发明是利用无尘室下吹垂直层流环境特性，配合集气罩开口面渐缩面积设计，当正常运作时，受污染的下吹气流可直接由集气罩开口面均匀捕集，并搭配各集气罩后段排气管段流量控制，平衡各集气罩开口面风速，减少对制程气流环境的影响，降低对产品良率的影响。
本发明的目的，是在产品还在制程进行中提供一种可除去上述缺点的局部排气系统，且可以保留原局部排气系统捕集污染物功能。
本发明的另一目的在于集气罩可使用于运转中制程机台，集气罩本身与设备机构的作动并无任何干涉。
本发明的又一目的在于集气罩可有效捕集有机溶剂气体，减少环境中的溢散量，捕集效率90％以上。
本发明的再一目的在于集气罩可维持基板周围气流的一致性，提供稳定的制程品质。
根据以上所述的目的，本发明提供了一种用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，其特征在于，包含复数个集气罩，位于一物件的一侧的周围，其中该物件的相对另一侧有下吹气流将该物件上的挥发性污染物带走以产生受污染的气体，该复数个集气罩是用以接收捕集该受污染的气体；复数个管路，是连接至该复数个集气罩，用以将捕集到的该受污染的气体带离该复数个集气罩；以及复数个流量调节器，位于该复数个管路上，是用以调节该复数个管路的气体流量。
其中上述的复数个集气罩具有一个顶角，使得该复数个集气罩组合后的形状接近该物件之外观形状。
其中上述的复数个集气罩的顶角处具有一个排气孔，是连接至该复数个管路。
其中上述的复数个集气罩的容积是在该排气孔之处最大，向其他方向延伸之后的容积渐渐减少。
其中上述的复数个集气罩之间具有定位器。
本发明一种用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，是用在产生污染源的机台，而该机台是位于一反应室中，其特征在于，该用于捕集挥发性污染物的局部排气系统包含复数个集气罩，位于一物件的一侧的周围，其中该物件的相对另一侧有气流将该物件上的挥发性污染物带走以产生受污染的气体，其中上述的集气罩是由一容器所构成，且该容器的一面为开放式的，是用以补集受污染的气体，该复数个集气罩具有一个顶角，使得该复数个集气罩组合后的形状接近该物件之外观形状，该复数个集气罩的顶角处具有一个排气孔，而该复数个集气罩的容积是在该排气孔之处最大，向其他方向延伸之后的容积渐渐减少；复数个管路，是连接至该复数个集气罩的排气孔上，是用以将捕集到的该受污染的气体带离该复数个集气罩；以及复数个流量调节器，位于该复数个管路上，是用以调节该复数个管路的气体流量。
其中上述的物件为玻璃面板。
其中上述的复数个集气罩位于该矩形顶角处具有一个排气孔，是连接至该复数个管路。
其中上述的复数个集气罩的容积是在该排气孔之处最大，向其他方向延伸之后的容积渐渐减少。
其中上述的复数个管路连接到一抽气装置。
为进一步说明本发明的技术内容，以下结合实施例及附图详细说明如后，其中图1是显示本发明的用于捕集挥发性污染物的局部排气系统的结构示意图；图2是显示本发明的局部排气系统的集气罩应用于液晶显示器面板的玻璃基板制程的结构示意图；图3是显示本发明的局部排气系统的集气罩应用于液晶显示器面板的玻璃基板制程的侧视示意图；图4是显示本发明的局部排气系统的集气罩的俯视示意图；以及图5是显示本发明的局部排气系统的集气罩的结构示意图，其中图5A显示为大尺寸集气罩、图5B显示为小尺寸集气罩。
具体实施例方式
本发明的一些实施例会详细描述如下。然而，除了详细描述外，本发明还可以广泛地在其他的实施例施行，且本发明的范围不受限定，其以之后的专利范围为准。
本发明主要是关于一种用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，主要是用在产生污染源的机台，其中的机台位于一反应室中。本发明的局部排气系统包含复数个集气罩，复数个管路，与复数个流量调节器。
上述的复数个集气罩位于一物件的一侧的周围与前述的反应室中，其中的物件的相对另一侧有气流将其上的挥发性污染物带走以产生受污染的气体，使得复数个集气罩得以接收捕集受污染的气体。上述的每个集气罩是由一容器所构成，且其中一面为开放式的，得以补集受污染的气体，而每个集气罩具有一个顶角，使得前述的复数个集气罩组合后的形状接近该物件之外观形状。在上述的每个集气罩的顶角处分别具有一个排气孔，是连接至前述的复数个管路，而每个集气罩的容积是在排气孔之处最大，随着远离该排气孔容积渐渐减少。上述的每个集气罩之间具有定位器。
上述的物件可以是玻璃面板。因此，上述的复数个集气罩组合后的形状为一矩形，并且复数个集气罩在矩形顶角处分别具有一个排气孔，可连接至前述的复数个管路。另外，上述的物件是由一支撑底座支撑，而支撑底座是位于前述的复数个集气罩之间。
上述的复数个管路连接至前述的复数个集气罩，是用以将捕集到的受污染的气体带离该复数个集气罩。上述的复数个管路为刚性管，而其口径至少大于五公分，是位于前述的反应室外，并连接到一抽气装置。
上述的复数个流量调节器位于前述的复数个管路上，是用以调节其气体流量，其中复数个流量调节器可使用风门。
为使审查委员对本发明的目的、特征、功效有更一进步的了解与认同，配合附图详细说明本发明的较佳实施例如后。如图1所示，本发明的用于捕集挥发性污染物的局部排气系统10是由集气罩12，管路14，与流量调节器16所组成，其中集气罩12经由排气孔分别与下方的管路14相连接。在管路14上分别装设有调整流量的流量调节器16。管路14最后会接合到一个主管路15并且连接到一抽气装置。
集气罩12主要的功能是收集或是捕捉挥发性有机化合物(volatileorganic compound；VOC)气体。这些含有挥发性有机化合物的气体会经由管路14排除。在管路14上的流量调节器16可以各自独立的控制个别管路14的气体流量，也因而影响了集气罩12的吸气效果。管路14采用刚性管以降低管路14中气体流动的阻力，并且口径加宽使得的大量气体可以在管路14中均匀流动。在图示中可以看出，为了配合机台的安排四个管路的长度并不相同，因此当流量调节器16并不作用的时候，每个集气罩12对于受污染的气体的吸收补集的能力并不相同。流量调节器16主要的目的就是调节四个独立管路14的气体流量，使得每个集气罩12对于受污染气体的吸收捕集能力均为相同。
集气罩12所组成的内部空间会放置一产生污染原物件，例如还在制造中的玻璃面板或是硅晶片，其中的物件会由一支撑底座支撑。在本实施例中的物件是方形的基板，但是也可以应用到圆形的硅晶片或是三五族的晶片。这时集气罩12所组成的空间是符合晶片的圆形外观。集气罩12的个数，在本实施例中是四个，但是并不限定有四个，也可以不到四个，只要能达成所需要的吸收捕集受污染的气体即可。在本实施例中，每个集气罩12之间都有间隔，这是因为本实施例是应用到液晶显示器的玻璃基板制程，其反应室具有支撑底座用以支撑玻璃基板以及定位器用以固定玻璃基板的位置。当本发明应用到其他的半导体制程，光电产业的制程或是有可能应用到本发明的制程，集气罩12的外观形状设计会依赖于所应用到的制程设备。
本发明使用时，先调整流量调节器16使管路14中的流量为某一定比例。除提供集气罩12足够的排气量外，同时兼顾管路14中的气流均匀性。
如图2所示，将集气罩12组装于液晶显示面板的制造机台上的示意图，其中的液晶显示面板的制造机台可以是薄膜沉积的机台，蚀刻机台，光阻涂布机台，或是光学微影的机台，例如TEL的Coater(ER)。在本实施例中，物件20是玻璃基板，而玻璃基板是由支撑底座24所支撑。集气罩12包围住支撑底座24，而在集气罩12之间是由定位器26所固定。本发明的局部排气系统只有集气罩12位在反应室中，而管路14是在反应室之外面。一般的反应室都是无尘室，会有下吹式的洁净气流去除物件20上的污染物。在上述的制程中，玻璃面板上可能残留有前段制程的有机溶剂，或是本制程会产生许多的有机气体污染物，故污染源产生于整块玻璃面板。这些污染源会经由无尘室垂直下吹层流带下，本发明即利用此一无尘室气流特性于玻璃面板20周围外面下方设置集气罩12的开口面，直接捕集受污染气流。
如图3所示，可以更清楚的了解到本发明的运作方式。玻璃面板20由支撑座24支撑。每个集气罩12之间有定位器26，下面连接到管路14。在玻璃面板20上，反应室的下吹式洁净气流21吹向玻璃面板20，所产生的污染气体22会顺着玻璃面板20的周围被集气罩12吸收捕集。然后，经由管路14将这些污染气体22带离反应室中。如果需要提升集气罩12的气体补集效能，集气罩12每个的每个开口位置的气流需要相同，而且每个集气罩12的气体流速也要相同。要控制集气罩12每个的每个开口位置的气流流速相同的方式如下文说明，而控制每个集气罩12的气体流速相同的方式由流量调节器16控制。
图4为集气罩12的俯视图，其中每个集气罩12有个排气孔13，用以连接管路14。集气罩12的的容积在排气孔13处最大，远离排气孔13之处容积渐渐的减小。主要的目的是要达成单一集气罩12捕集风速均匀化。因为，假定集气罩12的容积在每个位置是不变的，远离排气孔13之处气体的流动速度一定较慢，这样就会造成不均匀的抽气气流。所以，远离排气孔13的开口面积渐缩得以提高捕集风速。
如图5所示，显示不同的单一个集气罩12的结构示意图(图5A、图5B)。每个集气罩12的尺寸大小可以不相同，对于吸收捕集受污染的气体之处有个开口，在开口处下方有排气孔。在每个集气罩12之间有个凹下去的地方，主要是配合定位器所做的设计。
本发明可应用于集气罩可使用于运转中制程机台，集气罩本身与设备机构的作动并无任何干涉，而集气罩可有效捕集有机溶剂气体，减少环境中的溢散量。参照表一与表二，与传统的局部补集系统相比捕集效率提升90％以上。
又，集气罩可维持基板周围气流的一致性，提供稳定的制程品质。
本发明的局部排气系统包含集气罩本体及相连接排气管段。利用无尘室垂直下吹层流环境特性，将集气罩开口面设置于污染源下方，直接捕集受污染气流。且为达成捕集风速均匀化要求，不影响产品良率，加入渐缩式集气罩开口面积设计与排气管段上可调整流量的流量调节器。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并非用以限定本发明的申请专利范围；凡其它未脱离本发明所揭示的精神下所完成的等效改变或修饰，均应包含在下述的申请专利范围内。
权利要求
1.一种用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，其特征在于，包含复数个集气罩，位于一物件的一侧的周围，其中该物件的相对另一侧有下吹气流将该物件上的挥发性污染物带走以产生受污染的气体，该复数个集气罩是用以接收捕集该受污染的气体；复数个管路，是连接至该复数个集气罩，用以将捕集到的该受污染的气体带离该复数个集气罩；以及复数个流量调节器，位于该复数个管路上，是用以调节该复数个管路的气体流量。
2.如权利要求1所述的用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，其特征在于，其中上述的复数个集气罩具有一个顶角，使得该复数个集气罩组合后的形状接近该物件之外观形状。
3.如权利要求2所述的用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，其特征在于，其中上述的复数个集气罩的顶角处具有一个排气孔，是连接至该复数个管路。
4.如权利要求3所述的用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，其特征在于，其中上述的复数个集气罩的容积是在该排气孔之处最大，向其他方向延伸之后的容积渐渐减少。
5.如权利要求1所述的用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，其特征在于，其中上述的复数个集气罩之间具有定位器。
6.一种用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，是用在产生污染源的机台，而该机台是位于一反应室中，其特征在于，该用于捕集挥发性污染物的局部排气系统包含复数个集气罩，位于一物件的一侧的周围，其中该物件的相对另一侧有气流将该物件上的挥发性污染物带走以产生受污染的气体，其中上述的集气罩是由一容器所构成，且该容器的一面为开放式的，是用以补集受污染的气体，该复数个集气罩具有一个顶角，使得该复数个集气罩组合后的形状接近该物件之外观形状，该复数个集气罩的顶角处具有一个排气孔，而该复数个集气罩的容积是在该排气孔之处最大，向其他方向延伸之后的容积渐渐减少；复数个管路，是连接至该复数个集气罩的排气孔上，是用以将捕集到的该受污染的气体带离该复数个集气罩；以及复数个流量调节器，位于该复数个管路上，是用以调节该复数个管路的气体流量。
7.如权利要求6所述的用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，其特征在于，其中上述的物件为玻璃面板。
8.如权利要求7所述的用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，其特征在于，其中上述的复数个集气罩位于该矩形顶角处具有一个排气孔，是连接至该复数个管路。
9.如权利要求8所述的用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，其特征在于，其中上述的复数个集气罩的容积是在该排气孔之处最大，向其他方向延伸之后的容积渐渐减少。
10.如权利要求6所述的用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，其特征在于，其中上述的复数个管路连接到一抽气装置。
全文摘要
一种用于捕集挥发性污染物的局部排气系统，包含复数个集气罩，复数个管路，与复数个流量调节器。上述的复数个集气罩位于一物件的一侧的周围，其中的物件的相对另一侧有气流将其上的挥发性污染物带走以产生受污染的气体，使得该复数个集气罩得以接收捕集该受污染的气体。上述的复数个管路连接至前述的复数个集气罩，是用以将捕集到的受污染的气体带离该复数个集气罩。上述的复数个流量调节器位于前述的复数个管路上，是用以调节其气体流量。
文档编号B08B15/00GK1704182SQ200410046430
公开日2005年12月7日 申请日期2004年5月31日 优先权日2004年5月31日
发明者魏明欣, 唐思维, 谢心色 申请人:中华映管股份有限公司