专利名称：一种用于硅片脱胶清洗机预清洗系统中的专用喷嘴的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及硅片脱胶清洗机预清洗系统中的专用喷嘴设备领域。
背景技术：
用于光伏产业中的太阳能硅片是通过将单晶硅或多晶硅棒体切割成一定规格尺寸的硅片来完成的，由于单晶硅或多晶硅很脆且通过切割制成的太阳能硅片很薄，例如一种常用的成品单晶硅片的厚度只有0. 2mm，为了提高切割成品率而采用的常规做法是采用专用胶水将单晶硅或多晶硅棒体粘接在玻璃板上进行切割，完成切割后将切割制成的硅片与玻璃板脱离。现行的硅片与玻璃脱离方式是采用具备预清洗、脱胶功能的硅片脱胶清洗机，硅片脱胶清洗机上安装的专用喷嘴喷出具有一定温度的圆锥形水柱，喷淋位置为硅片与玻璃粘接的整个侧面，水柱对硅片切割后残留硅片表面的硅、二氧化硅、三氧化二铁、碳化硅、聚乙二醇、氧化铁、以及生产过程中钾、钠、铁、铝和有机物等杂质离子进行预清洗，为硅片的后续清洗工艺奠定基础。如果硅片的预清洗不能达到理想的效果，则无法达到去除硅片表面有机物等杂质，最终导致硅片表面残留电镀层及氧化层、污染物等质量缺陷，从而在硅片表面形成花斑，且花斑返工成为合格片的概率小于10%，从而影响产品的成品率。
发明内容本实用新型所要解决的是提供一种用于硅片脱胶清洗机预清洗系统中的专用喷嘴，用以解决硅片清洗过程中花斑的产生。经专用喷嘴喷射出的扇形喷淋水柱配合相应的喷淋压力，喷淋位置为硅片与玻璃的粘胶面区域，使得清洗后的水在重力的作用下从上而下流出而在硅片与玻璃粘接部分产生20%-30%的水流重叠，有效降低地球重力引起的边缘效应，提高了硅片清洗的效率及成品率，增强了硅片表面的清洗效果，降低硅片表面形成花斑的概率。本实用新型为解决上述技术问题，采用的技术方案是用于硅片脱胶清洗机预清洗系统中的专用喷嘴主要由螺纹接口、紧固平台、通孔、 喷口构成，专用喷嘴的一端为螺纹接口，另一端开有通槽，通槽中部设有V形坡口，V形坡口上开有喷口，喷口与通孔相通。其中通槽为长条状凹型通槽，通槽宽度一般为喷嘴直径的40%至60%，其中V形坡口的宽度为通槽长度的40%至60%。其中喷口形状为椭圆，椭圆的偏心率e的数值参数范围为0. 6彡e < 0. 8，椭圆的长轴与通槽方向相同，长轴的长度为V形坡口宽度的80 %至90 %。其中喷口的形状为椭圆，椭圆的偏心率e等于0. 7。本实用新型的有效效果硅片脱胶清洗机预清洗系统中的专用喷嘴喷射出的扇形喷淋水柱配合相应的喷淋压力，使得喷淋位置为硅片与玻璃的粘胶面区域，使得喷淋出的水在重力的作用下从上而下流出而在硅片与玻璃粘接部分产生20% -30%的水流重叠，解决了硅片脱胶清洗机上安装的传统喷嘴无法实现中间或两侧区域内的硅片白斑或花斑问题，提高了清洗效率及清洗效果，消除了因花斑导致成品率较低的技术缺陷。与未使用专用喷嘴之前进行对比，花斑片的平均不良率由1. 41%降低为0.沈％，取得良好的经济效益。
图1硅片脱胶清洗机预清洗系统对硅片进行预清洗的工作原理示意图图2硅片脱胶清洗机预清洗系统中的采用传统喷嘴的传统喷淋的工作原理示意图图3附图2中所采用传统喷嘴的喷口形状示意图图4硅片脱胶清洗机预清洗系统中采用专用喷嘴后喷淋的工作原理示意图图5附图4所中采用的专用喷嘴的喷口形状示意图图6专用喷嘴结构主视图图7附图6的俯视图图8附图6的左视图图9传统喷嘴的水流喷射示意图图10专用喷嘴的水流喷射示意图；图中1.喷嘴；2.玻璃板；3.硅棒；4.胶层；5.喷口 ；6.通孔；7.螺纹接口 ；8.紧固平台；9. V形坡口 ；10.通槽；
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步的详细描述，充分说明本实用新型的具体实施方式
如图1所示，硅棒的一面在切割前是用胶水粘附在玻璃板上进行切割的，切割完成后，硅棒被切割成一片片间距极小的硅片，所有硅片的一边仍整齐粘附在玻璃板上，脱胶清洗机预清洗系统是通过一定数量的喷嘴喷出一定温度的水流对硅片表面进行清洗，以便清洗掉硅片表面的脏污，同时对硅片与玻璃板的粘附面进行冲洗。如附图2、附图3及附图9所示，传统喷嘴的中间为通孔，通孔顶端为喷口，传统喷嘴的喷口形状是圆形的，水流经通孔流入后从喷口喷出，喷出的水柱形状呈圆锥形。如附图4、附图5、附图6、附图7、附图8及附图10所示，本实用新型所采用的专用喷嘴与传统喷嘴不同点在于专用喷嘴的喷口形状是椭圆形，喷口位于V形坡口上，V形坡口位于通槽内，水流经通孔从喷口喷出的水柱形状为扇形，使喷淋水柱到达硅片表面时叠合区域在20% -30%之间(可通过喷淋水柱的位置进行调整)，达到一种新的喷淋方式，然后通过调整喷淋管的水平喷水角度，使得水柱的上部到达硅片两侧的入射位置为硅棒粘接的胶层位置，水柱的下部到达硅片两侧的入射位置为中间位置(上水柱的水压力和流量衰减的位置)。每两个相邻的喷嘴喷出的水柱的边缘是相互重叠的，形成水流的边际重叠效应， 增加水流清洗的强度及清洗效果。根据硅片大小调整喷淋水柱的压力，使喷淋水柱以抛物线的形状从硅片上表面流下，其中上层水柱产生的抛物线最高点相交在硅片的中点位置。其中用板手旋转紧固平台就能通过将专用喷嘴的螺纹接口紧固在预清洗系统的出水口上。
权利要求1.一种用于硅片脱胶清洗机预清洗系统中的专用喷嘴，专用喷嘴主要由螺纹接口、紧固平台、通孔、喷口构成，专用喷嘴的一端为螺纹接口，另一端开有通槽，通槽中部内设有V 形坡口，V形坡口上开有喷口，喷口与通孔相通，其特征在于，喷口的形状为椭圆，椭圆的偏心率e的数值参数范围为0. 6 < e < 0. 8，椭圆的长轴与通槽方向相同，长轴的长度为V形坡口宽度的80%至90%。
2.根据权利要求1所述的用于硅片脱胶清洗机预清洗系统中的专用喷嘴，其特征在于喷口的形状为椭圆，椭圆的偏心率e等于0. 7。
专利摘要本实用新型涉及硅片脱胶清洗机预清洗系统中的专用喷嘴设备领域，用于硅片脱胶清洗机预清洗系统中的专用喷嘴主要由螺纹接口、通孔、喷口构成，专用喷嘴的一端为螺纹接口，另一端开有通槽，通槽内设有V形坡口，V形坡口上开有与通孔相通的椭圆形状的喷口，椭圆的偏心率e的数值参数范围为0.6≤e≤0.8，经专用喷嘴喷射出的扇形喷淋水柱配合相应的喷淋压力，喷淋位置为硅片与玻璃的粘胶面区域，使得清洗后的水在重力的作用下从上而下流出而在硅片与玻璃粘接部分产生20％-30％的水流重叠，有效降低地球重力引起的边缘效应，提高了硅片清洗的效率及成品率，增强了硅片表面的清洗效果，降低硅片表面形成花斑的概率。
文档编号B08B3/02GK202238738SQ201120332988
公开日2012年5月30日 申请日期2011年9月6日 优先权日2011年9月6日
发明者朱文军, 王乃仁, 薛阿兰, 高伟 申请人:西安烽火光伏科技股份有限公司