专利名称：防止液体回溅装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及防止液体回溅装置技术领域，尤其涉及一种用于半导体晶片清洗エ艺的防止液体回溅装置。
背景技术：
随着集成电路特征尺寸进入到深亚微米阶段，晶片清洗已经从最初简单的槽式清洗发展到了精度更高的单片清洗。在单晶片清洗过程中，利用高速旋转可将晶片上的液体甩干，使晶片干燥。图I所示为现有技术中晶片清洗设备的结构示意图。如图I所示，晶片I进行清洗时，首先需要将晶片I放置在卡盘2上；然后通过控制旋转电机9带动旋转轴6进行低速旋转，旋转轴6带动卡盘2进行低速旋转，旋转速度为每秒400转；最后通过控制喷淋臂电机8，使液体喷射臂5与待清洗的半导体晶片I以一定高度的距离放置，一般为70mm，当液 体喷射臂5中有清洗液或超纯水喷出吋，喷淋臂电机8带动液体喷射臂5在晶片I表面左右摆动，使得清洗液或超纯水均匀覆盖整个晶片I的表面。晶片I清洗干净后，提高旋转电机9的转速，使卡盘2的转速提高到毎秒1900转，利用旋转电机9的高速旋转甩干晶片I上的液体，使晶片I干燥。清洗设备的エ艺腔室中，环绕卡盘2的周围会设置侧壁3，使从晶片I上甩开的液体碰撞到侧壁3后顺着侧壁3往下流，防止液体飞溅至侧壁3之外，污染清洗设备的其它组件。如图I所示，当卡盘2进行高速旋转时，液体会以高速离开晶片1，当液体碰到侧壁3以后，液滴12会拉伸、反弹，导致一部分液滴12会回溅到晶片I上，造成晶片I的二次污染。
发明内容
(一)要解决的技术问题本发明提供ー种防止液体回溅装置，用以解决晶片清洗エ艺中因高速旋转从晶片上甩开的液体碰撞到侧壁反弹回晶片造成的晶片二次污染问题。(ニ)技术方案本发明提供ー种防止液体回溅装置，包括用于放置物体的卡盘、与所述卡盘固定连接用于旋转所述卡盘的旋转轴以及环设于所述卡盘周围的侧壁，所述卡盘的旋转用于甩干所述物体上的液体，所述侧壁用于防止从所述物体上甩开的液体飞溅至所述侧壁之外，其中，所述侧壁的内侧设置有一层用于防止液体回溅的有机薄膜。如上所述的防止液体回溅装置，优选的是，所述侧壁的内侧粘有一层所述有机薄膜。如上所述的防止液体回溅装置，优选的是，所述侧壁的内侧镀有一层所述有机薄膜。如上所述的防止液体回溅装置，优选的是，所述侧壁的内侧涂有一层所述有机薄膜。
如上所述的防止液体回溅装置，优选的是，所述有机薄膜为多孔透气膜，不溶于水且具有抗腐蚀性。如上所述的防止液体回溅装置，优选的是，所述有机薄膜为聚氨酷薄膜，所述聚氨酷薄膜具有多孔结构，所述孔的孔径为0. 2-10 u Hi0如上所述的防止液体回溅装置，优选的是，所述卡盘和侧壁为抗腐蚀材质。如上所述的防止液体回溅装置，优选的是，所述卡盘和侧壁的材质为聚丙烯、玻璃纸或聚こ烯。(三)有益效果本发明所提供的防止液体回溅装置通过在侧壁的内侧粘接ー层有机薄膜，増加液体撞击侧壁时的抗变形能力，从而防止从物体上甩开的液体由侧壁回溅至物体上，克服了对物体的二次污染。
图I为现有技术中晶片清洗设备的结构示意图；图2为本发明实施例中防止液体回溅装置的结构示意图；图中，I :晶片；2 :卡盘；3 :侧壁；4 :有机薄膜；5 :液体喷射臂；6 :旋转轴；7 :排液管；8 :喷淋臂电机；9 :旋转电机；10 :控制模块；11 :操作终端；12 :液滴。
具体实施例方式下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式
作进ー步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。图2所示为本发明实施例中防止液体回溅装置的结构示意图。如图2所示，本发明实施例中的防止液体回溅装置包括用于放置物体的卡盘2、与卡盘2固定连接用于旋转卡盘2的旋转轴6以及环设于卡盘2周围的侧壁3，并在侧壁3的内侧设置一层有机薄膜4，本实施例中可以通过在侧壁3的内侧粘、镀或涂一层有机薄膜4，优选镀或涂，使得有机薄膜4和侧壁3的内侧更加贴合，延长有机薄膜4的使用周期。其中，本实施例中的物体为晶片1，因为清洗晶片I的清洗液为化学清洗液，所以优选有机薄膜4为多孔透气膜，不溶于水且具有抗腐蚀性，例如聚氨酯薄膜，聚氨酯薄膜具有耐溶剂性，不会被化学清洗液腐蚀，其中，聚氨酯薄膜还具有微细多孔结构，其孔径为
0.2—10 u m,只能透过微粒约为0. 4nm的水蒸气分子，而对任何液滴12，因其粒径过大而无法通过，因此聚氨酷薄膜具有很好的透气性和防水性，而且聚氨酯薄膜的回弹性差，能够增加撞击到侧壁3内壁的液滴12的抗变形能力，防止液体回溅。当然，本领域所属技术人员很容易想到，只要有机薄膜4具有耐腐蚀性、回弹性差，并具有微细多孔结构就可以用于本发明实施例中的防止液体回溅装置中，而并不局限于聚氨酷薄膜，其都在本发明的保护范围内。本发明实施例中防止液体回溅装置的组件可以利用现有技术中晶片清洗设备中的组件，只需要在侧壁3上设置ー层有机薄膜4，不需单独生产，节约大量成本，同时有机薄膜4非常干净，不会给设备带来污染。其中，侧壁3的底部还可以具有底盘13，用于收集从晶片I上甩开的液体，底盘13上还可以设置排液管7，用于排出底盘13上收集的液体，防止液体在底盘13上积聚，以便于连续使用。由于清洗晶片I的清洗液为化学清洗液，具有一定的腐蚀性，所以本实施例中优选卡盘2、侧壁3、底盘13和排液管7均为抗腐蚀材质，如聚丙烯、玻璃纸或聚こ烯。本发明实施例中的防止液体回溅装置通过在侧壁的内侧设置一层有机薄膜，増加液体撞击到侧壁内壁时的抗变形能力，在液体与侧壁的内侧表面撞击时，大多数能量都转化为热，不会产生反弹、飞溅，从而防止从晶片上甩开的液体由侧壁回溅至晶片上，克服了对晶片的二次污染。在实际应用时，优选通过设置控制模块10来控制旋转电机9和喷淋臂电机8，可以通过操作终端11输入控制指令并发送给控制模块10来控制旋转电机9和喷淋臂电机8的工作状态，其中，操作終端11为触摸屏或键盘等输入装置，使得整个控制过程更精确。以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人 员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。
权利要求
1.ー种防止液体回溅装置，包括用于放置物体的卡盘、与所述卡盘固定连接用于旋转所述卡盘的旋转轴以及环设于所述卡盘周围的侧壁，所述卡盘的旋转用于甩干所述物体上的液体，所述侧壁用于防止从所述物体上甩开的液体飞溅至所述侧壁之外，其特征在于，所述侧壁的内侧设置有一层用于防止液体回溅的有机薄膜。
2.根据权利要求I所述的防止液体回溅装置，其特征在于，所述侧壁的内侧粘有ー层所述有机薄膜。
3.根据权利要求I所述的防止液体回溅装置，其特征在于，所述侧壁的内侧镀有ー层所述有机薄膜。
4.根据权利要求I所述的防止液体回溅装置，其特征在于，所述侧壁的内侧涂有ー层所述有机薄膜。
5.根据权利要求I所述的防止液体回溅装置，其特征在于，所述有机薄膜为多孔透气膜，不溶于水且具有抗腐蚀性。
6.根据权利要求5所述的防止液体回溅装置，其特征在于，所述有机薄膜为聚氨酷薄膜，所述聚氨酷薄膜具有多孔结构，所述孔的孔径为0. 2 — IOy m。
7.根据权利要求I所述的防止液体回溅装置，其特征在于，所述卡盘和侧壁为抗腐蚀材质。
8.根据权利要求7所述的防止液体回溅装置，其特征在于，所述卡盘和侧壁的材质为聚丙烯、玻璃纸或聚こ烯。
全文摘要
本发明提供一种防止液体回溅装置，包括用于放置物体的卡盘、与所述卡盘固定连接用于旋转所述卡盘的旋转轴以及环设于所述卡盘周围的侧壁，所述卡盘的旋转用于甩干所述物体上的液体，所述侧壁用于防止从所述物体上甩开的液体飞溅至所述侧壁之外，其中，所述侧壁的内侧设置有一层有机薄膜，通过该有机薄膜增加液体的抗变形能力，从而防止从物体上甩开的液体由侧壁回溅至物体上，克服了对物体的二次污染。
文档编号B08B13/00GK102825051SQ20121028320
公开日2012年12月19日 申请日期2012年8月9日 优先权日2012年8月9日
发明者刘伟, 吴仪 申请人:北京七星华创电子股份有限公司