专利名称：一种平板显示器件用玻璃基板的再生方法
技术领域：
本发明涉及一种玻璃板在制备平板显示器件出现异常时的处理方法，特别涉及一种平板显示器件用玻璃基板的再生方法。
背景技术：
平板显示器件，如液晶显示器件等，从外观上看由两块玻璃基板构成，通常称为前、后基板，或上、下基板，在这两块基板上分别制备有发光或控制单元。在制备这些单元过程中，因种种原因使得制备成的单元未能达到设计要求，如厚度、均勻性、线宽、线距等技术指标不符合设计要求。如不能脱掉(去除)这些不符合设计要求单元，玻璃基板将不能再使用，造成极大的浪费。目前，本领域的常用的方法是直接腐蚀脱膜法，即将欲脱膜的玻璃基板直接置入脱膜液中进行腐蚀，再经过清洗即可。这种方法看似简单，但是，实际上脱膜不干净，再生后的玻璃基板仍达不到使用要求。发明的内容为了克服上述现有技术的不足，本发明的目的是提供一种平板显示器件用玻璃基板的再生方法，具有使玻璃基板曝光充分、脱膜干净、工艺简单的特点。为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案是一种平板显示器件用玻璃基板的再生方法，按以下步骤进行1、曝光曝光量为SO-IOOMj/平方厘米，曝光时，玻璃基板上方无需放置铬板；将玻璃基板放置在曝光机前的放板机中，开启放板机、曝光机、收板机，曝光机自动完成玻璃基板的曝光；2、脱膜脱膜液温度为40_55°C，脱膜时间为110-130cm/分钟；将已曝光过的玻璃基板放置在脱膜机前的放板机中，开启脱膜前放板机、脱膜机及收板机，脱膜机自动完成玻璃基板脱膜；3、清洗脱膜后的玻璃基板经过清洗槽进行清洗，清洗水的温度为40-45°C，清洗时间为 2-4分钟。所述的脱膜液组分的质量比为，二醇胺观-32 %，二甲基砜68-72 %。所述脱膜是玻璃基板经过脱膜槽时，脱膜药液被喷淋到玻璃基板表面的过程。所述清洗水是被喷淋到脱膜后的玻璃基板表面的纯水。由于本发明采用了不在玻璃基板上放置铬板的曝光措施，使再生玻璃基板得到了充分曝光，加之使用了配比合理的脱膜液使得脱膜彻底，工艺简单。
具体实施例方式下面结合发明内容对本发明的工作过程如下做进一步的说明。
实施例1 曝光曝光量设定为SOMj/平方厘米，将玻璃基板放置在曝光机前的放板机中，开启曝光机自动完成欲再生玻璃基板的曝光。脱膜脱膜液温度设定为40°C，速度设定为IlOm/分钟；将已曝光过的玻璃基板放置在脱膜机前的放板机中，开启脱膜前放板机、脱膜机、 及脱膜后收板机，完成玻璃基板脱膜；脱膜液组分与质量比为，二醇胺观，二甲基砜72%。清洗清洗水的温度设定为40°C，传送带通过清洗槽的时间为2分钟，由传送带拖动脱膜后的玻璃基板经过清洗槽，喷淋头自动喷洗玻璃基板。实施例2 曝光曝光量设定为IOOMj/平方厘米，将玻璃基板放置在曝光机前的放板机中，开启曝光机自动完成再生玻璃基板的曝光。脱膜脱膜液温度设定为50°C，速度设定为120cm/分钟；将已曝光过的玻璃基板放置在脱膜机前的放板机中，开启脱膜自动完成玻璃基板脱膜；所述脱膜液组分与质量比为，二醇胺30%，二甲基砜70%。清洗清洗水的温度设定为42°C，传送带通过清洗槽的时间为3分钟，由传送带拖动脱膜后的玻璃基板经过清洗槽，喷淋头自动喷洗玻璃基板。实施例3 曝光曝光量设定为130Mj/平方厘米，将玻璃基板放置在曝光机前的放板机中，开启曝光机后的放板机、曝光机、收板机，自动完成玻璃基板的曝光。脱膜脱膜液温度设定为55°C，速度设定为130cm/分钟；将已曝光过的玻璃基板放置在脱膜机前的放板机中，开启脱膜前放板机、脱膜机、及脱膜后收板机，完成玻璃基板脱膜；脱膜液组分与质量比为，二醇胺32 %，二甲基砜68 %。清洗清洗水的温度设定为45°C，传送带通过清洗槽的时间为4分钟，由传送带拖动脱膜后的玻璃基板经过清洗槽，喷淋头自动喷洗玻璃基板。
权利要求
1.一种平板显示器件用玻璃基板的再生方法，按以下步骤进行a、曝光曝光量为SO-IOOMj/平方厘米，曝光时，玻璃基板上方无需放置铬板；将玻璃基板放置在曝光机前的放板机中，开启放板机、曝光机、收板机，曝光机自动完成玻璃基板的曝光；b、脱膜脱膜液温度为40-55°C，脱膜时间为110-130cm/分钟；将已曝光过的玻璃基板放置在脱膜机前的放板机中，开启脱膜前放板机、脱膜机及收板机，脱膜机自动完成玻璃基板脱膜；C、清洗脱膜后的玻璃基板再经过清洗槽进行清洗，清洗水的温度为40-45°C，清洗时间为2-4分钟。
2.根据权利要求1所述的一种平板显示器件用玻璃基板的再生方法，其特征在于所述的脱膜液组分的质量比为，二醇胺观-32%，二甲基砜68-72%。
3.根据权利要求1所述的一种平板显示器件用玻璃基板的再生方法，其特征在于所述脱膜是玻璃基板经过脱膜槽时，脱膜药液被喷淋到玻璃基板表面的过程。
4.根据权利要求1所述的一种平板显示器件用玻璃基板的再生方法，其特征在于所述清洗水是被喷淋到脱膜后的玻璃基板表面的纯水。
全文摘要
一种平板显示器件用玻璃基板的再生方法，包括曝光、脱膜和清洗三个步骤，曝光机的曝光量为80-100Mj/平方厘米，曝光时玻璃基板上方无需放置铬板；脱膜液组分的质量比为，二醇胺28-32％，二甲基砜68-72％，脱膜液温度为40-55℃，脱膜时间为110-130cm/分钟；清洗液为纯水，其温度为40-45℃，清洗时间为2-4分钟；由于本发明采用了不在玻璃基板上放置铬板的充分曝光措施，以及使用了组分少，配比合理的脱膜液的技术方案，使得再生玻璃基板曝光充分、脱膜干净、工艺简单。
文档编号G03F7/20GK102354645SQ20111018246
公开日2012年2月15日 申请日期2011年6月30日 优先权日2011年6月30日
发明者左筱旄 申请人:彩虹(佛山)平板显示有限公司