聚酰亚胺膜涂布设备的制作方法

文档序号:2678663阅读:337来源:国知局
专利名称:聚酰亚胺膜涂布设备的制作方法
技术领域
本实用新型涉及液晶显示面板制造领域,尤其涉及一种聚酰亚胺膜涂布设备。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display,简称为IXD)面板的生产过程中,为了使液晶分子能够正确取向,需要在薄膜晶体管阵列基板(TFT Array substrate)和彩膜基板 (Color Filter,简称为CF)的表面上涂上一层PI (聚酰亚胺)膜,再对干燥后的PI膜进行RiAbing(摩擦)取向工艺,以分别在TFT阵列基板和CF上形成取向膜。现有的PI膜涂布设备,如图1所示,主要包括涂膜装置101、机台102及支撑并带动机台102运行的设备框架111。其中,涂膜装置101包括滚轮103、滚轮104、滚轮105 及APR(液状紫外线硬化型树脂凸版)106。滚轮103及滚轮104用于在旋转的过程中将PI 液107均勻涂抹在APR106上的多个小坑108内,多个小坑108网状排布在APR106表面,而滚轮105用于带动APR106旋转。机台102用于放置待涂膜的基板109。机台102带动基板 109从A位置水平运动至B位置的过程中,基板109位于涂膜装置101下方时,由涂膜装置 101上APR106将其小坑108内的PI液涂覆在基板109上,形成PI膜110。在使用上述PI膜涂布设备的过程中,至少存在如下问题如果机台上面有异物 (如玻璃碎削或干的PI液点)存在,就会在涂布PI膜的时候造成玻璃材质的基板破碎或产生裂纹,甚至会划伤APR,导致生产出来的液晶显示器的画面品质受到影响。由于破碎的基板以及划伤的APR不能继续使用,因此造成了严重的材料浪费。

实用新型内容本实用新型的实施例提供一种聚酰亚胺膜涂布设备,可防止在该设备使用过程中由于机台上存在异物,使得基板和APR受损。为达到上述目的,本实用新型的实施例采用如下技术方案—种聚酰亚胺膜涂布设备,包括涂布装置、机台及支撑并带动所述机台运行的设备框架。该设备还包括毛刷装置及支撑所述毛刷装置于所述设备框架上的可升降支撑框架;所述毛刷装置在所述设备框架上方具有空闲位置和用于清扫所述机台上异物的清扫位置。本实用新型实施例提供的聚酰亚胺膜涂布设备相对于现有的聚酰亚胺膜涂布设备,增设了可升降支撑框架及毛刷装置,毛刷装置通过可升降支撑框架的升降运动,在空闲位置和清扫位置间移动。当机台上的基板卸载后,可升降支撑框架可带动毛刷装置下降至清扫位置,在机台运行到毛刷装置下方时,处于清扫位置的毛刷装置通过与机台的接触在机台运行的过程中,将机台上的异物扫除,可防止在机台上装载下一张基板时,由于机台上存在异物,导致涂膜操作中基板和APR受到损坏。

[0009]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有PI膜涂布设备的侧视图;图2为本实用新型实施例中一种PI膜涂布设备的立体示意图;图3为使用本实用新型实施例提供的PI膜涂布设备进行涂膜工艺的平面示意图;图4为本实用新型实施例中一种毛刷装置的侧视图。
具体实施方式
本实用新型实施例提供一种聚酰亚胺膜涂布设备,包括涂布装置、机台及支撑并带动所述机台运行的设备框架。该设备还包括毛刷装置及支撑所述毛刷装置于所述设备框架上的可升降支撑框架;所述毛刷装置在所述设备框架上方具有空闲位置和用于清扫所述机台上异物的清扫位置。本实用新型实施例提供的聚酰亚胺膜涂布设备相对于现有的聚酰亚胺膜涂布设备,增设了可升降支撑框架及毛刷装置,毛刷装置通过可升降支撑框架的升降运动,在空闲位置和清扫位置间移动。当机台上的基板卸载后,可升降支撑框架可带动毛刷装置下降至清扫位置,在机台运行到毛刷装置下方时,处于清扫位置的毛刷装置通过与机台的接触在机台运行的过程中,将机台上的异物扫除,可防止在机台上装载下一张基板时,由于机台上存在异物,导致涂膜操作中基板和APR受到损坏。下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。本实用新型实施例提供一种聚酰亚胺膜涂布设备,如图2所示,该装置包括涂布装置201、机台202及支撑并带动所述机台202运行的设备框架203。该设备还包括毛刷装置204及支撑所述毛刷装置204于所述设备框架上的可升降支撑框架205。所述毛刷装置204在所述设备框架203上方具有空闲位置和用于清扫所述机台上异物的清扫位置。其中,毛刷装置204用于对卸载基板207后的机台202进行清扫。所述毛刷装置204可为图2所示的长条状,该毛刷装置204的长边平行于所述涂布装置201中滚轮的轴线206,且所述毛刷装置204位于所述设备框架203上方,并靠近所述涂布装置201的侧面。当然,毛刷装置204并不限于图2所示的长条状,也可以为本领域技术人员所知的其它能清扫机台的结构。该PI膜涂布设备对机台上的基板进行涂膜操作的工艺如图3所示,在机台的装载工位A,机械手301将待涂膜的基板302放置在设备框架303所支撑的机台304上后,设备框架303带动该承载有基板302的机台304朝涂布装置305运行,当机台304通过涂布装置305下方时,由涂布装置305在基板302上形成PI膜(图3中阴影部分)。机台304承
4载着已涂膜的基板302继续朝远离涂布装置305的方向运行至机台的卸载工位B时,由机械手301将该已涂膜的基板302卸载。在涂膜的过程中,毛刷装置306始终处于空闲位置, 该位置可以为不会与机台304及基板302接触的、机台304上的任意位置。基板302卸载后,该PI膜涂布设备的控制装置(图中未示出)控制可升降支撑框架307下降,使得可升降支撑框架307上支撑的毛刷装置306下降至清扫位置。基板302 卸载后的机台304会由设备框架303带动从卸载工位B朝涂布装置运行,在经过毛刷装置 306下方时,处于清扫位置的毛刷装置306会与机台304接触,在机台304的运行过程中,将机台304上的异物308(如玻璃碎削或干的PI液点)扫除干净。清扫后的机台304经由涂布装置305下方并继续运行至装载工位A,然后进行下一张基板的涂膜操作。下一张基板装载到机台上后,PI膜涂布设备的控制装置控制可升降支撑框架307上升,使得可升降支撑框架上支撑的毛刷装置306上升至空闲位置。本实施例提供的PI膜涂布设备与现有的PI膜涂布设备不同的是增设了可升降支撑框架及毛刷装置,毛刷装置通过可升降支撑框架的升降运动,在空闲位置和清扫位置间移动。当机台上的基板卸载后,控制装置使可升降支撑框架带动毛刷装置下降至清扫位置, 在机台运行到毛刷装置下方时,处于清扫位置的毛刷装置通过与机台的接触在机台运行的过程中,将机台上的异物扫除,可防止在机台上装载下一张基板时,由于机台上存在异物, 导致涂膜操作中基板和APR受到损坏。当然,毛刷装置的设置位置并不限于图3所示的靠近涂布装置的、对应于机台卸载工位的一侧,也可以设置在靠近涂布装置的、对应于机台装载工位的一侧,也可以将两个毛刷装置分别设置在涂布装置两侧,以增强清扫的效果。毛刷装置可以具有图4所示的结构,包括长条状安装架41及多个由尼龙制成的圆盘形毛刷42(disk brush),所述长条状安装架41固定在所述可升降支撑框架(图中未示出)上,所述多个圆盘形毛刷42安装在所述长条状安装架41上。毛刷装置的长度、圆盘形毛刷的个数和间距、刷毛的长度和密度、长条状安装架的尺寸,以及圆盘形毛刷在长条状安装架上的排列方式,都可根据涂膜工艺中具体要求来选择。当然,毛刷装置并不限于图4所示的结构,可以为本领域技术人员所知的其它能对机台进行清扫的结构。本实用新型实施例的PI膜涂布设备还可包括除静电装置,所述除静电装置安装于所述长条状安装架上。该除静电装置可以是离子风枪或离子风棒,可去除机台上所产生的静电,以防止静电放电对基板上电子器件的不良影响。本实用新型实施例主要用于制造液晶显示面板。以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式
,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
权利要求1.一种聚酰亚胺膜涂布设备,包括涂布装置、机台及支撑并带动所述机台运行的设备框架,其特征在于,还包括毛刷装置及支撑所述毛刷装置于所述设备框架上的可升降支撑框架;所述毛刷装置在所述设备框架上方具有空闲位置或用于清扫所述机台上异物的清扫位置。
2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺膜涂布设备,其特征在于,所述毛刷装置为长条状, 所述毛刷装置的长边平行于所述涂布装置中滚轮的轴线。
3.根据权利要求2所述的聚酰亚胺膜涂布设备,其特征在于,所述毛刷装置包括长条状安装架及多个由尼龙制成的圆盘形毛刷,所述长条状安装架固定在所述可升降支撑框架上,所述多个圆盘形毛刷安装在所述长条状安装架上。
4.根据权利要求3所述的聚酰亚胺膜涂布设备,其特征在于,还包括除静电装置,所述除静电装置安装于所述长条状安装架上。
5.根据权利要求4所述的聚酰亚胺膜涂布设备,其特征在于,所述除静电装置为离子风枪或离子风棒。
专利摘要本实用新型公开了一种聚酰亚胺膜涂布设备,涉及液晶显示面板制造领域,解决了现有技术在涂布聚酰亚胺膜的过程中,由于机台上存在异物,导致涂膜操作中基板和液状紫外线硬化型树脂凸版受到损坏的问题。本实用新型通过在现有聚酰亚胺膜涂布设备的基础上增设毛刷装置及支撑该毛刷装置的可升降支撑框架,使得当机台上的基板被卸载后,机台在运行到毛刷装置下方时,可由毛刷装置对机台表面的异物进行清扫。
文档编号G02F1/1337GK202196244SQ20112033683
公开日2012年4月18日 申请日期2011年9月8日 优先权日2011年9月8日
发明者李京鹏, 李辉, 林海云, 赵承潭 申请人:北京京东方光电科技有限公司
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