专利名称：感光性导电薄膜、导电膜的形成方法和导电图案的形成方法
技术领域：
本发明涉及一种感光性导电薄膜、导电膜的形成方法和导电图案的形成方法，特别是涉及一种形成在液晶显示元件等的平板显示器、触摸屏、太阳能电池、有机EL等装置中设置的电极布线等的导电图案的方法。
背景技术：
在个人电脑、电视等大型电子设备、汽车导航、手机、电子词典等小型电子设备、OA · FA设备等显示设备中，具有液晶显示元件、触摸屏的产品正在普及。液晶显示元件、触摸屏中，在透明电极等要求透明性的地方利用了透明的导电膜。太阳能电池等也同样。作为能形成透明的导电膜的材料，已知ITO (氧化铟锡、Indium-Tin-Oxide)、氧化铟、氧化锡等。这些材料对可见光显示高透过率，作为形成液晶显示元件用基板等的透明电极的材料已成为主流。 在液晶显示装置中，有时用透明导电膜来形成布线、像素电极、端子等的一部分。此时，必须将透明导电膜制成一定的形状。作为透明导电膜的图案形成方法，可使用在形成透明导电膜后，在其上通过光刻法形成抗蚀图案，并通过湿蚀刻对导电膜进行图案形成的方法。作为蚀刻液，对于ITO膜、氧化铟膜，常使用盐酸和氯化铁这2液构成的混合液。另一方面，研究了使用ITO以外的材料来形成透明的导电膜。例如在下述专利文献I中公开了通过在基材表面上涂布含有聚噻吩、聚苯胺等有机导电性聚合物的放射线固化型导电性组合物并固化，从而形成具有导电性且透明的固化覆膜的方法。另外，下述专利文献2中公开了在支撑体上涂布重氮锍系等的抗蚀剂材料，进而在其上涂布噻吩系有机导电材料，然后通过曝光和显影形成导电性图案的方法。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开2005 - 170996号公报专利文献2 日本特表2004 - 504693号公报
发明内容
发明要解决的课题可是，ITO膜、氧化锡膜一般是通过溅射法形成的，但根据溅射方式的不同、溅射功率、气压、基板温度、氛围气体种类等，膜的性质容易发生改变。因溅射条件的变动而引起的透明导电膜的膜质的不同会成为对膜进行湿蚀刻时蚀刻速度偏差的原因，容易发生透明导电膜的图案形成不良而导致产品的成品率降低。为此，使用ITO等的方法中，溅射和抗蚀剂形成及蚀刻的工序长，在成本方面也成为大的负担。另外，该方法难以获得图案形成精度的均匀性。另一方面，关于用有机导电材料的导电图案形成，存在如下问题。上述专利文献I中没有公开关于导电图案的形成。考虑通过使用掩膜的蚀刻来形成图案，但是因为没有合适的蚀刻液，因此必须使用等离子蚀刻、激光进行加工。专利文献2中提出了如下方法在支撑体上涂布混合有机导电材料和重氮化合物的感光材料而成的液体来形成图案的方法；在由支撑体与有机导电材料以及感光材料构成的层之间进一步配置感光材料的方法。但是，这些方法中，对于想要在期望的基板上设置导电图案时导电图案与基板的粘接性并未加以考虑，必须进行基板的表面处理等。本发明是鉴于上述现有技术所存在的问题而作出的发明，其目的在于提供一种感光性导电薄膜、以及使用该感光性导电薄膜的导电膜的形成方法和导电图案的形成方法，所述感光性导电薄膜能够在基板上以充分的分辨率简便地形成与基板的粘接性充分、包含有机导电材料的导电图案。解决课题的方法为了解决上述课题，本发明提供一种感光性导电薄膜，其具有将支撑体、含有有机导电材料的导电层和感光性树脂层依次层叠而成的结构。根据本发明的感光性导电薄膜，通过具有上述构成，能够以在基板上按照感光性 树脂层密合的方式粘贴感光性导电薄膜并对其曝光、显影的简便工序容易地形成与基板的粘接性充分、具有充分的透明性的期望的导电图案。另外，根据本发明的感光性导电薄膜，通过在基板上以感光性树脂层密合的方式粘贴感光性导电薄膜，并对其曝光，能够形成兼具充分的透明性和对基材的良好的粘接性的导电膜。对于本发明的感光性导电薄膜，从透明性和导电性的观点出发，上述有机导电材料优选为噻吩衍生物的聚合物。另外，为了进一步提高导电膜的图案形成性和对基材的粘接性，上述感光性树脂层优选由含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合引发剂的感光性树脂组合物形成。从防止制造到使用期间的异物附着、损伤的观点考虑，本发明的感光性导电薄膜优选在上述感光性树脂层的与导电层侧相反的一侧进一步层叠有保护薄膜。该保护薄膜可以在使用感光性导电薄膜时除去。本发明还提供一种导电膜的形成方法，其特征在于，将上述本发明的感光性导电薄膜的上述感光性树脂层粘贴在基材上，从而在基材上至少依次层叠感光性树脂层和导电层，并对层叠的上述感光性树脂层曝光。根据本发明的导电膜的形成方法，能够以通过在基材上粘贴本发明的感光性导电薄膜的感光性树脂层而在基材上依次设置感光性树脂层和导电层并对其曝光这样的简便工序容易地在基材上形成由上述导电层构成的导电膜。通过对上述感光性树脂层曝光而进行固化，该导电膜可充分地粘接在基材上。本发明还提供一种导电图案的形成方法，其特征在于，在基材上粘贴上述本发明的感光性导电薄膜的上述感光性树脂层，从而在基材上至少依次层叠感光性树脂层和导电层，并对层叠的感光性树脂层曝光、显影。根据本发明的导电图案的形成方法，能够以通过在基材上粘贴本发明的感光性导电薄膜的感光性树脂层而在基材上依次设置感光性树脂层和导电层并对其曝光、显影这样的简便工序容易地在基材上形成对上述导电层进行图案形成而得的导电图案。通过对上述感光性树脂层曝光而进行固化，该导电图案可充分地粘接在基材上。本发明还提供一种导电膜基板，其具备基板和通过上述本发明的导电膜的形成方法在该基板上形成的导电膜。此外，本发明还提供一种导电膜基板，其具备基板和通过上述本发明的导电图案的形成方法在该基板上形成的导电图案。发明效果
根据本发明，能够提供一种感光性导电薄膜、以及使用其的导电膜的形成方法和导电图案的形成方法，所述感光性导电薄膜能够以充分的分辨率在基板上简便地形成与基板的粘接性充分、含有有机导电材料的导电图案。
图I是表示本发明的感光性导电薄膜的一个实施方式的示意剖面图。图2是用于说明本发明的导电图案的形成方法的一个实施方式的示意剖面图。
具体实施例方式下面，详细地说明本发明的优选实施方式。另外，本说明书中的“(甲基)丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯”和与其对应的“甲基丙烯酸酯”。同样地，“(甲基)丙烯酸”是指“丙烯酸”和与其对应的“甲基丙烯酸”，“(甲基)丙烯酰基”是指“丙烯酰基”和与其对应的“甲基丙烯
酰基”。图I是表示本发明的感光性导电薄膜的优选的一个实施方式的示意剖面图。图I所示的感光性导电薄膜10是将薄膜状的支撑体I、含有有机导电材料的导电层2、感光性树脂层3和保护薄膜4依次层叠而成的。下面，对构成本实施方式的感光性导电薄膜10的薄膜状的支撑体(以下也有时称为“薄膜支撑体”。)、导电层、感光性树脂层和保护薄膜分别进行详细说明。作为薄膜支撑体1，优选为透明的支撑薄膜。这里透明是指对转印到基材上后的曝光工序中的曝光光线具有透过性，本实施方式中优选在紫外线(300 400nm)区域中具有透过性。作为透明的支撑薄膜，例如可列举聚对苯二甲酸乙二酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等具有耐热性和耐溶剂性的聚合物薄膜。其中，从透明性、耐热性的观点考虑，优选使用聚对苯二甲酸乙二酯薄膜。另外，对于这些聚合物薄膜而言，由于在其后对感光性树脂层3显影时、为了使形成的导电膜露出而会被除去，因此不可采用实施了无法除去那样的表面处理的薄膜或材质。上述支撑薄膜的厚度优选为5 300 μ m,更优选为20 300 μ m。支撑薄膜的厚度不到5 μ m的话，机械强度降低，形成导电层时、形成感光性树脂层时或在感光性树脂层的显影前剥离支撑薄膜时，有支撑薄膜容易破裂的倾向，另一方面，超过300 μ m的话，隔着支撑薄膜对感光性树脂层照射活性光线时，有分辨率降低的倾向，而且有价格升高的倾向。作为导电层2中含有的有机导电材料，例如可列举噻吩或噻吩衍生物的聚合物、苯胺或苯胺衍生物的聚合物。具体可使用聚亚乙二氧基噻吩、聚己基噻吩、聚苯胺等。另外，可以使用“CLEVIOS P” (世泰科(H. C. Starck)公司制造，商品名)、“SEPLEGYDA OC —U1”(信越聚合物株式会社制造，商品名)等市售品。导电层2中含有的有机导电材料优选为能通过光照射而形成图案的材料。另外，只要是可获得本发明的效果的范围，有机导电材料也可以与能通过光照射形成图案的材料并用而包含在导电层2中。作为噻吩或噻吩衍生物的聚合物，可列举具有可用下述式(I)表示的重复单元的聚合物。化学式I
⑴式(I)中，R1和R2分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、碳原子数I 20的烷基、碳原子数I 20的卤代烷基、碳原子数I 20的烷氧基、碳原子数6 40的芳基氨基、 取代或未取代的核碳原子数6 40的芳基、或取代或未取代的核碳原子数2 40的杂环基，相邻的取代基也可以彼此互相结合而形成环。另外，作为聚合物的末端基，分别可列举氢原子、或者取代或未取代的一价基团。上述式(I)的R1和R2中，作为卤素原子，例如可列举氟、氯、溴、和碘等。作为碳原子数I 20的烷基，例如可列举甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正i^一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、新戊基、I 一甲基戍基、2 —甲基戍基、I 一戍基己基、I 一丁基戍基、I 一庚基辛基、3 —甲基戍基、环戊基、环己基、环辛基、3，5—四甲基环己基等。其中可优选列举甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正i^一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烧基、新戍基、I 一甲基戍基、I 一戍基己基、I 一丁基戍基、I 一庚基羊基、环己基、环羊基、和3，5 —四甲基环己基。作为碳原子数I 20的卤代烷基，例如可列举氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、和五氟乙基等。其中优选为氟甲基、二氟甲基、三氟甲基。作为碳原子数I 20的烷氧基，例如可列举用一 OY表示、Y与上述的烷基所说明的同样的基团，优选的例子也同样。作为碳原子数6 40的芳基氨基，例如可列举二苯基氨基等；或具有二苯基氨基、氨基作为取代基的苯基、萘基、蒽基、三亚苯基(triphenylenyl)、突蒽基(fIuoranthenyl)、联苯基等。其中,优选为具有二苯基氨基、氨基作为取代基的苯基、萘基。作为核碳原子数6 40的芳基,例如可列举苯基、萘基、联苯基、蒽基、三亚苯基。作为取代基，可列举甲基、乙基、环己基、异丙基、丁基、苯基等。其中优选为取代或未取代的苯基、萘基、联苯基。
作为取代或未取代的碳原子数2 40的杂环基，例如可列举I 一吡咯基、2 —吡咯基、3 —吡咯基、吡嗪基、2 —吡啶基、I 一咪唑基、2 —咪唑基、I 一吡唑基、I 一中氮茚基(indolizinyl)、2 —中氮茚基、3 —中氮茚基、5 —中氮茚基、6 —中氮茚基、7 —中氮茚基、8 一中氮却基、2 —咪唑并卩比唳基(imidazopyridinyl)、3-咪唑并卩比唳基、5-咪唑并卩比唳基、6-咪唑并吡啶基、7-咪唑并吡啶基、8-咪唑并吡啶基、3-吡啶基、4-吡啶基、I-吲哚基、2-吲哚基、3-吲哚基、4-吲哚基、5-吲哚基、6-吲哚基、7-吲哚基、I-异吲哚基、2-异吲哚基、3-异吲哚基、4-异吲哚基、5-异吲哚基、6-异吲哚基、7 —异吲哚基、2 —呋喃基、3 —呋喃基、2 —苯并呋喃基、3 —苯并呋喃基、4 一苯并呋喃基、5 —苯并呋喃基、6 —苯并呋喃基、7 一苯并呋喃基、I 一异苯并呋喃基、3 —异苯并呋喃基、4 一异苯并呋喃基、5 —异苯并呋喃基、6 —异苯并呋喃基、7 —异苯并呋喃基、2 —喹啉基、3 —喹啉基、4 一喹啉基、5 —喹啉基、
6一喹啉基、7 —喹啉基、8 —喹啉基、I 一异喹啉基、3 —异喹啉基、4 一异喹啉基、5 —异喹啉基、6 —异喹啉基、7 —异喹啉基、8 —异喹啉基、2 —喹喔啉基、5 —喹喔啉基、6 —喹喔啉基、I 一咔唑基、2 —咔唑基、3 —咔唑基、4 一咔唑基、9 一咔唑基、β —咔啉一 I 一基、β —咔琳一3 —基、β —昨琳一4 —基、β —昨琳一5 —基、β —昨琳一6 —基、β —昨琳一7 —基、β —咔啉一 6 —基、β —咔啉一 9 一基、I 一菲啶基、2 —菲啶基、3 —菲啶基、4 一菲啶基、6 —菲啶基、7 —菲啶基、8 —菲啶基、9 一菲啶基、10 —菲啶基、I 一吖啶基、2 —吖啶基、3 一B丫唳基、4 一B丫唳基、9 一 B丫唳基、I，7 一菲绕琳一 2 —基、1,7 —菲绕琳一 3 —基、1,7 —菲绕啉一 4 一基、1，7 —菲绕啉一 5 —基、1，7 —菲绕啉一 6 —基、1，7 —菲绕啉一 8 —基、
I,7 一菲绕啉一 9 一基、I, 7 一菲绕啉一 10 —基、I, 8 一菲绕啉一 2 —基、I, 8 一菲绕啉一 3 —基、I, 8 一菲绕啉一 4 一基、I, 8 一菲绕啉一 5 —基、I, 8 一菲绕啉一 6 —基、I, 8 一菲绕啉一
7一基、I, 8 一菲绕啉一 9 一基、I, 8 一菲绕啉一 10 —基、I, 9 一菲绕啉一 2 —基、I, 9 一菲绕啉一 3 —基、1，9 一菲绕啉一 4 一基、1，9 一菲绕啉一 5 —基、1，9 一菲绕啉一 6 —基、1，9 一菲绕啉一 7 —基、I, 9 一菲绕啉一 8 —基、I, 9 一菲绕啉一 10 —基、I, 10 一菲绕啉一 2 —基、
1,10 一菲绕啉一 3 —基、I, 10 一菲绕啉一 4 一基、I, 10 一菲绕啉一 5 —基、2，9 一菲绕啉一I —基、2，9 —菲绕啉一3 —基、2，9 —菲绕啉一4 —基、2，9 —菲绕啉一5 —基、2，9 —菲绕琳一6 —基、2，9 —菲绕琳一7 —基、2，9 —菲绕琳一8 —基、2，9 —菲绕琳一10 —基、2，8 —菲绕啉一I —基、2，8 —菲绕啉一3 —基、2，8 —菲绕啉一4 —基、2，8 —菲绕啉一5 —基、
2,8 一菲绕琳一 6 —基、2，8 一菲绕琳一 7 —基、2，8 一菲绕琳一 9-基、2，8-菲绕琳-10-基、2，7-菲绕啉-I-基、2，7-菲绕啉-3-基、2，7-菲绕啉-4-基、2，7-菲绕啉-5-基、2，7-菲绕啉-6-基、2，7-菲绕啉-8-基、2，7-菲绕啉-9-基、2，7-菲绕啉-10-基、I-吩嗪基、2-吩嗪基、I-吩噻嗪基、2-吩噻嗪基、3-吩噻嗪基、4-吩噻嗪基、10-吩噻嗪基、I 一吩噁嗪基、2 -吩噁嗪基、3 —吩噁嗪基、4 一吩噁嗪基、10 —吩噁嗪基、2 —噁唑基、4 一噁唑基、5 —噁唑基、2 —噁二唑基、5 —噁二唑基、3 —呋吖基、2 —噻吩基、3 —噻吩基、2 —甲基吡咯一 I 一基、2 —甲基卩比咯一 3 —基、2 —甲基卩比咯一 4 一基、2 —甲基卩比咯一 5 —基、3 —甲基卩比咯一
1一基、3 —甲基卩比咯一 2 —基、3 —甲基卩比咯一 4 一基、3 —甲基卩比咯一 5 —基、2 —叔丁基批咯一 4 一基、3 — (2 一苯基丙基)卩比咯一 I 一基、2 —甲基一 I 一Π引哚基、4 一甲基一 I 一口引哚基、2 —甲基一 3 — Π引哚基、4 —甲基一 3 — Π引哚基、2 —叔丁基一 I 一Π引哚基、4 一叔丁基一 I 一Π引哚基、2 —叔丁基一 3 — Π引哚基、4 一叔丁基一 3 — Π引哚基、I 一二苯并呋喃基、
2一二苯并呋喃基、3 —二苯并呋喃基、4 一二苯并呋喃基、I 一二苯并噻吩基、2 —二苯并噻吩基、3 —二苯并噻吩基、4 一二苯并噻吩基、I 一硅芴基、2 —硅芴基、3 —硅芴基、4 一硅芴基、I 一锗芴基、2 —锗芴基、3 —锗芴基、和4 一锗芴基等。这些基团中，优选为2 —吡啶基、I 一中氮茚基、2 —中氮茚基、3 —中氮茚基、5 —中氮茚基、6 —中氮茚基、7 —中氮茚基、8 —中氮茚基、2 —咪唑并吡啶基、3 —咪唑并吡啶基、5 —咪唑并吡啶基、6 —咪唑并吡啶基、7 —咪唑并吡啶基、8 —咪唑并吡啶基、3 —吡啶基、4 一吡啶基、I 一吲哚基、2 —吲哚基、3 —吲哚基、4 一吲哚基、5 —吲哚基、6 —吲哚基、7 一吲哚基、I 一异吲哚基、2 —异吲哚基、3 —异吲哚基、4 一异吲哚基、5 —异吲哚基、6 —异吲哚基、7 —异吲哚基、I 一咔唑基、2 —咔唑基、3 —咔唑基、4 一咔唑基、9 一咔唑基、I 一二苯并呋喃基、2 —二苯并呋喃基、3 —二苯并呋喃基、4 一二苯并呋喃基、I 一二苯并噻吩基、2 一二苯并噻吩基、3 —二苯并噻吩基、4 一二苯并噻吩基、I 一硅芴基、2 —硅芴基、3 —硅芴基、4 一硅芴基、I 一锗芴基、2 —锗芴基、3 —锗芴基、4 一锗芴基。另外，作为取代基，例如可列举甲基、乙基、环己基、异丙基、丁基、和苯基等。 R1和R2可以相互结合而形成环。作为环，例如优选二噁烷环、苯环、环己基环、萘基环。式(I)中的Y1和Y2优选各自独立地为氢原子、碳原子数I 20的烷基、取代或未取代的核碳原子数6 40的芳基、或取代或未取代的核碳原子数2 40的杂环基。对于烷基、芳基或杂环基，可列举与Rp R2同样的基团。式(I)表示的聚噻吩或聚噻吩衍生物可以使用市售的产品、或用公知方法合成的产品。就聚噻吩或聚噻吩衍生物的分子量而言，一般使用数均分子量为1，000 100，000范围的产品。分子量小于该范围的话，不能发挥基于H电子共轭体系的充分的导电性，另一方面，分子量过大的话，变得粘稠，薄膜形成变得困难。重复单元与相邻的重复单元以头-尾、头一头或尾一尾的形式结合而形成了聚合物。取代噻吩环的3位的烷基或烷氧基使用太长链的基团的话，有可能分子的立体结构的规则产生紊乱而损害移动性，因此优选碳原子数20以下的基团。导电层2例如可以通过在薄膜支撑体I上涂布对上述有机导电材料加入水和/或有机溶剂、根据需要的表面活性剂等分散稳定剂等而得的导电层形成用分散液后，进行干燥来形成。涂布例如可以用辊涂法、逗号涂布法、凹版涂布法、气刀涂布法、模涂法、棒涂法、喷涂法等公知方法来进行。另外，干燥可以在30 150°C用热风对流式干燥机等进行I 30分钟左右。导电层2的厚度根据使用本发明的感光性导电薄膜而形成的导电膜或导电图案的用途、所要求的导电性而也不同，但是优选为I μ m以下,更优选为O. 01 μ m O. 5 μ m,特别优选为O. 01 μ m O. 3 μ m。导电层2的厚度为Iym以下的话,容易确保光的透过性。作为感光性树脂层3，优选由含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合弓I发剂的感光性树脂组合物形成。作为粘合剂聚合物，例如可列举丙烯酸系树脂、苯乙烯树脂、环氧树脂、酰胺树脂、酰胺环氧树脂、醇酸树脂、和酚醛树脂等。从碱显影性优良的观点考虑，优选使用丙烯酸系树脂。它们可以单独使用I种或组合2种以上使用。上述的粘合剂聚合物例如可以通过使聚合性单体进行自由基聚合来制造。作为上述聚合性单体，例如可列举苯乙烯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯等的α-位或芳香族环被取代了的可聚合的苯乙烯衍生物、二丙酮丙烯酰胺等丙烯酰胺；丙烯腈、乙烯基-正丁醚等乙烯醇的醚类；(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、2，2，2 一三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2，2，3，3—四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、α —溴代(甲基)丙烯酸、α 一氯代(甲基)丙烯酸、β —呋喃基(甲基)丙烯酸、β —苯乙烯基(甲基)丙烯酸、马来酸、马来酸酐、马来酸单甲酯、马来酸单乙酯、马来酸单异丙酯等马来酸单酯；富马酸、肉桂酸、α 一氰基肉桂酸、衣康酸、巴豆酸和丙炔酸等。作为上述(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可列举下述通式(2)表示的化合物，在这些化合物的烷基上取代有羟基、环氧基、卤素基团等的化合物。化学式权利要求
1.ー种感光性导电薄膜，其具有将支撑体、含有有机导电材料的导电层、和感光性树脂层依次层叠而成的结构。
2.根据权利要求I所述的感光性导电薄膜，所述有机导电材料是噻吩衍生物的聚合物。
3.根据权利要求I或2所述的感光性导电薄膜，所述感光性树脂层由含有粘合剂聚合物、具有こ烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合弓I发剂的感光性树脂组合物形成。
4.根据权利要求I 3中任一项所述的感光性导电薄膜，在所述感光性树脂层的与所述导电层侧相反的一侧进ー步层叠有保护薄膜。
5.—种导电膜的形成方法,其特征在于,在基材上粘贴权利要求I 4中任一项所述的感光性导电薄膜的所述感光性树脂层，从而在该基材上至少依次层叠所述感光性树脂层和所述导电层，并对层叠的所述感光性树脂层进行曝光。
6.一种导电图案的形成方法，其特征在于，在基材上粘贴权利要求I 4中任一项所述的感光性导电薄膜的所述感光性树脂层，从而在该基材上至少依次层叠所述感光性树脂层和所述导电层，并对层叠的所述感光性树脂层进行曝光、显影。
7.一种导电膜基板，其具有基板和通过权利要求5所述的导电膜的形成方法在该基板上形成的导电膜。
8.一种导电膜基板，其具有基板和通过权利要求6所述的导电图案的形成方法在该基板上形成的导电图案。
全文摘要
本发明的感光性导电薄膜(10)具有将薄膜支撑体(1)、含有有机导电材料的导电层(2)、和感光性树脂层(3)依次层叠而成的结构。感光性导电薄膜(10)中，有机导电材料优选为噻吩衍生物的聚合物，感光性树脂层(3)优选由含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合引发剂的感光性树脂组合物形成。
文档编号G03F7/004GK102859612SQ201180018518
公开日2013年1月2日 申请日期2011年5月10日 优先权日2010年5月13日
发明者山崎宏, 五十岚由三 申请人:日立化成工业株式会社