一种掩膜板检测装置和方法
【专利摘要】本发明的目的是提供一种掩膜板检测装置和方法，其中所述装置包括：设置在检测板表面的多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所述光敏电阻的作用区域对应；检测板用于当平行光通过掩膜板上的透光区域照射到多个光敏电阻上时，检测多个光敏电阻的电阻值，并判断多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值，当所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，反馈与第一光敏电阻的作用区域对应的掩膜板上的第一透光区域的位置信息。本发明能够确定掩膜板表面是否存在微小异物，并确定微小异物所在的区域，防止因微小异物引起显影后形成的图形存在共同缺陷而造成的损失。
【专利说明】一种掩膜板检测装置和方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及液晶显示器制造过程中的掩膜板处理领域，尤其涉及一种掩膜板检测 装置和方法。
【背景技术】
[0002] 薄膜晶体管液晶显示器（TFT-IXD)以其具有高画质、空间利用率高、低消耗功率、 无辐射等众多优点成为市场的主流。在制备TFT-LCD过程中，多次涉及到掩膜刻蚀工艺，例 如彩色滤光片的制造、阵列基板的制造等，都需要使用掩膜板（Mask)进行曝光显影工艺。
[0003] 传统的曝光工艺中，经常会由于掩模板Mask表面存在微小的异物，减小了掩膜板 开口区域光的透过性，使得显影后形成的图形Pattern存在共同缺陷。
[0004] 目前还没有一种简便的方法能够迅速检测出Mask表面是否有微小的异物及异物 存在的位置，因此需要经常清洗Mask，费时费力。有时甚至在清洗Mask后，微小异物依然存 在，如不能及时检出，会对产能及良率有很大的影响。
【发明内容】
[0005] 本发明的目的是提供一种掩膜板检测装置和方法，能够确定掩膜板表面是否存在 微小异物，并确定微小异物所在的区域，防止因微小异物引起显影后形成的图形存在共同 缺陷而造成的损失。
[0006] 为了实现上述目的，本发明实施例提供了 一种掩膜板检测装置，所述装置包括：
[0007] 设置在检测板表面的多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所 述光敏电阻的作用区域对应；
[0008] 所述检测板用于当平行光通过所述掩膜板上的透光区域照射到所述多个光敏电 阻上时，检测所述多个光敏电阻的电阻值，并判断所述多个光敏电阻的电阻值是否超过标 准值，当所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，反馈与所述第一光 敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域的位置信息。
[0009] 上述的掩膜板检测装置，其中，所述光敏电阻的两侧设置有触头，且所述光敏电阻 通过所述触头设置在所述检测板表面。
[0010] 上述的掩膜板检测装置，其中，所述掩膜板上每个透光区域的面积相同时，所述标 准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值。
[0011] 上述的掩膜板检测装置，其中，所述掩膜板上透光区域的面积不同，但具有相同分 布规律时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值，其 中具有最小电阻值的光敏电阻对应的透光区域的面积与所述第一光敏电阻对应的透光区 域的面积相同。
[0012] 上述的掩膜板检测装置，其中，所述检测板的面积不小于所述掩膜板的面积。
[0013] 上述的掩膜板检测装置，其中，所述平行光的照射面积不小于所述掩膜板的面积。
[0014] 上述的掩膜板检测装置，其中，当所述平行光的照射面积小于所述掩膜板的面积 时，采用所述平行光对所述掩膜板进行扫描照射。
[0015] 上述的掩膜板检测装置，其中，所述装置还包括：
[0016] 绝缘板，设置在所述多个光敏电阻与所述检测板之间。
[0017] 为了实现上述目的，本发明实施例还提供了一种掩膜板检测方法，所述方法包 括：
[0018] 在检测板表面设置多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所述 光敏电阻的作用区域对应；
[0019] 当平行光通过所述掩膜板上的透光区域照射到所述多个光敏电阻上时，所述检测 板检测所述多个光敏电阻的电阻值；
[0020] 所述检测板判断所述多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值，获得判断结果；
[0021] 当所述判断结果指示所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值 时，所述检测板反馈与所述第一光敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域 的位置信息。
[0022] 上述的掩膜板检测方法，其中，所述检测板检测所述多个光敏电阻的电阻值具体 为：
[0023] 所述检测板测量所述光敏电阻两端的电压值；
[0024] 所述检测板测量流过所述光敏电阻的电流值；
[0025] 所述检测板根据所述电压值和所述电流值计算所述光敏电阻的电阻值。
[0026] 上述的掩膜板检测方法，其中，所述掩膜板上每个透光区域的面积相同时，所述标 准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值。
[0027] 上述的掩膜板检测方法，其中，所述掩膜板上透光区域的面积不同，但具有相同分 布规律时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值，其 中具有最小电阻值的光敏电阻对应的透光区域的面积与所述第一光敏电阻对应的透光区 域的面积相同。
[0028] 上述的掩膜板检测方法，其中，所述检测板的面积不小于所述掩膜板的面积。
[0029] 上述的掩膜板检测方法，其中，所述平行光的照射面积不小于所述掩膜板的面积。
[0030] 上述的掩膜板检测方法，其中，当所述平行光的照射面积小于所述掩膜板的面积 时，采用所述平行光对所述掩膜板进行扫描照射。
[0031] 在本发明实施例中，掩膜板上每个透光区域的位置均与所述光敏电阻的作用区域 对应。由于光敏电阻对光的照射反应非常灵敏，一旦有微小异物遮挡住了掩膜板上的透光 区域，那么与该透光区域对应的光敏电阻的电阻值变化较小，电阻值超过了标准值。进一步 地，就可以根据该光敏电阻的作用区域确定掩膜板上存在微小异物的区域。
【专利附图】
【附图说明】
[0032] 图1为本发明实施例提供的一种掩膜板检测装置的结构示意图；
[0033] 图2为本发明实施例提供的掩膜板内部结构示意图；
[0034] 图3为本发明实施例提供的另一种掩膜板检测装置的结构示意图；
[0035] 图4a_4b为本发明实施例提供的光敏电阻设置的俯视图；
[0036] 图5为本发明实施例提供的掩膜板检测方法的流程示意图；
[0037] 图6为本发明实施例提供的检测板的俯视图；
[0038] 其中，主要组件符号说明：
[0039] 1 :光敏电阻、2 :光敏电阻的触头、3 :检测板、：4 :掩膜板、5 :平行光、6 :异物、7 :透 光区域、8 :绝缘板。
【具体实施方式】
[0040] 为使本发明实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附 图及具体实施例进行详细描述。
[0041] 本发明实施例提供了 一种掩膜板检测装置，所述装置如图1所示，包括：
[0042] 设置在检测板3表面的多个光敏电阻1，其中所述掩膜板4上每个透光区域7的位 置与所述光敏电阻1的作用区域对应；
[0043] 所述检测板3用于当平行光5通过所述掩膜板4上的透光区域7照射到所述多个 光敏电阻1上时，检测所述多个光敏电阻1的电阻值，并判断所述多个光敏电阻1的电阻值 是否超过标准值，当所述多个光敏电阻1中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，反馈 与所述第一光敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域的位置信息。
[0044] 其中优选地，所述光敏电阻1的两侧设置有触头2,且所述光敏电阻1通过所述触 头2设置在所述检测板3表面。
[0045] 每个光敏电阻的作用区域与掩膜板上的一个或若干个透光区域对应。
[0046] 由于光敏电阻1对光的照射反应非常灵敏，一旦有微小异物遮挡住了掩膜板4上 的透光区域7 (这里可以为全部遮挡或部分遮挡），那么与该透光区域7对应的光敏电阻的 电阻值变化较小，使得该光敏电阻的电阻值超过了标准值。进一步地，就可以根据该光敏电 阻的作用区域确定掩膜板上存在微小异物的区域。
[0047] 在实际应用中，检测板内部可以设置检测单元、存储单元、比较单元和位置确定单 元，并依次连接，如图2所示。检测单元用于检测每个光敏电阻的电阻值，并将检测出的电 阻值与该光敏电阻作用区域信息之间的对应关系存储在存储单元中，通过比较单元根据存 储单元存储的电阻值确定出标准值后，最后通过位置确定单元确定超过标准值的第一光敏 电阻作用区域的位置信息并输出。这里可以将位置确定单元输出的信号连接到电脑上，在 电脑上已经预先模拟显示了与光敏电阻对应的掩膜板上透光区域的位置信息，当确定了第 一光敏电阻所对应的位置信息后，重点显示与第一光敏电阻作用区域对应的掩膜板的透光 区域的位置信息。
[0048] 当然，以上所述仅是检测板内部一种优选的实现方式，其他能够反馈与所述第一 光敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域的位置信息的方法均是本发明 实施例所保护的范围。在确定了异物存在的区域后，就可以有针对性的对掩膜板4进行清 洗，去除微小的异物，防止因微小异物引起显影后形成的图形存在共同缺陷而造成的损失。 [0049] 另外，在本发明实施例中为了增强光敏电阻的敏感度，避免光敏电阻之间互相干 扰，可以在所述多个光敏电阻1与所述检测板3之间设置绝缘板8,如图3所示，光敏电阻1 同样通过触头2穿过绝缘板8插入检测板3。绝缘板的大小优选地，与检测板的大小相同。
[0050] 上述的掩膜板检测装置中，所述掩膜板上每个透光区域的面积相同时，光敏电阻 的作用区域也是相同的。其中，多个作用区域相同的光敏电阻1可以按矩阵形式依次排列 设置在绝缘板8上，如图4a所示，每个光敏电阻的作用区域对应掩膜板上的一个或若干个 透光区域。此时，所述标准值为所述多个光敏电阻1中的最小电阻值。
[0051] 以黑膜BM掩膜板为例，其透光区域的尺寸是相同的，每个光敏电阻的作用面积相 同，按矩阵形式排列如图4a所示，每个光敏电阻的作用区域与掩膜板上的一个或若干个透 光区域对应。当某一透光区域被异物遮挡，则照射到对应的光敏电阻的作用区域上的光线 强度必然低于其他光敏电阻的作用区域。进而导致有异物遮挡的区域对应的光敏电阻的阻 值比其他电阻的阻值高，标准值为所述多个光敏电阻中的最小电阻值，第一光敏电阻的电 阻值超过了该标准值。此时就能够确定与所述第一光敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板 上的第一透光区域的位置信息。
[0052] 当然，以上是以透光区域尺寸相同的掩膜板为例进行的说明，彩膜R、G、B的掩膜 板透光区域尺寸也是相同的。
[0053] 但是还存在一些透光区域尺寸不同的掩膜板，例如PS掩膜板。但是PS掩膜板的 透光区域虽然有大小区分，但其排列却是重复且有规律的，每个光敏电阻的作用区域仍然 与掩膜板上的一个或若干个透光区域对应，按矩阵形式排列如图4b所示，每一列光敏电阻 对应的透光区域的面积相同。此时的标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻 中的最小电阻值，其中具有最小电阻值的光敏电阻对应的透光区域的面积与所述第一光敏 电阻对应的透光区域的面积相同。即每一列的光敏电阻的最小电阻值为该列光敏电阻的标 准值。
[0054] 上述的掩膜板检测装置，其中，所述检测板3的面积不小于所述掩膜板4的面积。
[0055] 同样地，所述平行光5的照射面积不小于所述掩膜板4的面积。当所述平行光5的 照射面积小于所述掩膜板4的面积时，采用所述平行光对所述掩膜板4进行扫描照射。这 里的平行光为紫外线、红外线等。
[0056] 本发明实施例还提供了一种掩膜板检测方法，所述方法如图5所示，包括：
[0057] 步骤51，在检测板表面设置多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位 置与所述光敏电阻的作用区域对应；
[0058] 步骤52,当平行光通过所述掩膜板上的透光区域照射到所述多个光敏电阻上时， 所述检测板检测所述多个光敏电阻的电阻值；
[0059] 步骤53,所述检测板判断所述多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值，获得判断 结果；
[0060] 步骤54,当所述判断结果指示所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过 标准值时，所述检测板反馈与所述第一光敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透 光区域的位置信息。
[0061] 在上述检测方法中，优选地，可以通过测量光敏电阻两端的电压和流过光敏电阻 的电流值计算其电阻值，对应地，检测板3可以设置为如图6所示。
[0062] 上述的掩膜板检测方法，其中，所述掩膜板上每个透光区域的面积相同时，所述标 准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值。
[0063] 上述的掩膜板检测方法，其中，所述掩膜板上透光区域的面积不同，但具有相同分 别规律时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值，其 中具有最小电阻值的光敏电阻对应的透光区域的面积与所述第一光敏电阻对应的透光区 域的面积相同。
[0064] 上述的掩膜板检测方法，其中，所述检测板的面积不小于所述掩膜板的面积。
[0065] 上述的掩膜板检测方法，其中，所述平行光的照射面积不小于所述掩膜板的面积。 [0066] 上述的掩膜板检测方法，其中，当所述平行光的照射面积小于所述掩膜板的面积 时，采用所述平行光对所述掩膜板进行扫描照射。
[0067] 以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本【技术领域】的普通技术人 员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应 视为本发明的保护范围。
【权利要求】
1. 一种掩膜板检测装置，其特征在于，所述装置包括： 设置在检测板表面的多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所述光 敏电阻的作用区域对应； 所述检测板用于当平行光通过所述掩膜板上的透光区域照射到所述多个光敏电阻上 时，检测所述多个光敏电阻的电阻值，并判断所述多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值， 当所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，反馈与所述第一光敏电阻 的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域的位置信息。
2. 如权利要求1所述的掩膜板检测装置，其特征在于，所述光敏电阻的两侧设置有触 头，且所述光敏电阻通过所述触头设置在所述检测板表面。
3. 如权利要求1所述的掩膜板检测装置，其特征在于，所述掩膜板上每个透光区域的 面积相同时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值。
4. 如权利要求1所述的掩膜板检测装置，其特征在于，所述掩膜板上透光区域的面积 不同，但具有相同分布规律时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻 中的最小电阻值，其中具有最小电阻值的光敏电阻对应的透光区域的面积与所述第一光敏 电阻对应的透光区域的面积相同。
5. 如权利要求1-4任一项所述的掩膜板检测装置，其特征在于，所述检测板的面积不 小于所述掩膜板的面积。
6. 如权利要求5所述的掩膜板检测装置，其特征在于，所述平行光的照射面积不小于 所述掩膜板的面积。
7. 如权利要求5所述的掩膜板检测装置，其特征在于，当所述平行光的照射面积小于 所述掩膜板的面积时，采用所述平行光对所述掩膜板进行扫描照射。
8. 如权利要求1-4任一项所述的掩膜板检测装置，其特征在于，所述装置还包括： 绝缘板，设置在所述多个光敏电阻与所述检测板之间。
9. 一种掩膜板检测方法，其特征在于，所述方法包括： 在检测板表面设置多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所述光敏 电阻的作用区域对应； 当平行光通过所述掩膜板上的透光区域照射到所述多个光敏电阻上时，所述检测板检 测所述多个光敏电阻的电阻值； 所述检测板判断所述多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值，获得判断结果； 当所述判断结果指示所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，所 述检测板反馈与所述第一光敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域的位 置信息。
10. 如权利要求9所述的掩膜板检测方法，其特征在于，所述检测板检测所述多个光敏 电阻的电阻值具体为： 所述检测板测量所述光敏电阻两端的电压值； 所述检测板测量流过所述光敏电阻的电流值； 所述检测板根据所述电压值和所述电流值计算所述光敏电阻的电阻值。
11. 如权利要求9所述的掩膜板检测方法，其特征在于，所述掩膜板上每个透光区域的 面积相同时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值。
12. 如权利要求9所述的掩膜板检测方法，其特征在于，所述掩膜板上透光区域的面积 不同，但具有相同分布规律时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻 中的最小电阻值，其中具有最小电阻值的光敏电阻对应的透光区域的面积与所述第一光敏 电阻对应的透光区域的面积相同。
13. 如权利要求9-12任一项所述的掩膜板检测方法，其特征在于，所述检测板的面积 不小于所述掩膜板的面积。
14. 如权利要求13所述的掩膜板检测方法，其特征在于，所述平行光的照射面积不小 于所述掩膜板的面积。
15. 如权利要求13所述的掩膜板检测方法，其特征在于，当所述平行光的照射面积小 于所述掩膜板的面积时，采用所述平行光对所述掩膜板进行扫描照射。
【文档编号】G03F1/84GK104155845SQ201410370206
【公开日】2014年11月19日 申请日期:2014年7月30日 优先权日:2014年7月30日
【发明者】肖宇, 袁剑峰, 吴洪江, 黎敏, 姜晶晶, 李晓光 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司