用于修正掩模的倾角的设备以及基质处理设备的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种用于修正掩模的倾角的设备。所述设备包含：掩模支撑主体，其经配置以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支撑主体移动单元，其经配置以改变掩模支撑主体的XY平面的倾角；照相机单元，其为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及控制单元，其经配置以控制掩模支撑主体移动单元，由此改变掩模的XY平面的倾角，以使得当激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，激光束穿透图像与参考焦点图像匹配。
【专利说明】用于修正掩模的倾角的设备以及基质处理设备
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种用于修正掩模的倾角的设备，所述掩模用于通过使用激光束使基质图案化，所述用于修正掩模的倾角的设备应用于基质处理设备。
【背景技术】
[0002]根据有机电致发光装置的材料和工艺，有机电致发光显示装置可以分为使用湿法工艺的高分子装置和使用沉积工艺的低分子装置。在使高分子发光层或低分子发光层图案化的方法之中的喷墨印刷方法的情况下，除了发光层之外的有机层在材料上受到限制，并且不便于在基质上形成用于喷墨印刷的结构。而且，当发光层通过沉积工艺得到图案化时，由于金属掩模的使用而难以制造大型装置。
[0003]作为图案化方法的替代技术，使用激光诱导热成像(13861 111(11106(1
1111叫1118，1111)方法。III！方法被定义为这样一种方法，其中从光源产生的激光束被转换成热能，并且随后用于形成图案的材料由于热能而传递到基质上以在基质上形成图案。为此，施体薄膜具有这样一种结构，其中作为受体的基质完全由施体薄膜覆盖，并且施体薄膜和基质被固定到载物台上。施体薄膜和基质通过层压工艺进一步彼此附接，并且随后通过使用激光束传递到基质上以使基质完全图案化。也就是说，当激光被照射到发光层先前形成于其上的施体薄膜或施体基质上时，发光层与施体薄膜或施体基质分离并且随后被传递到受体基质上以形成像素。
[0004]图1是使用激光束的基质处理设备的视图。
[0005]使用激光束的基质处理设备10包含激光源300，所述激光源300用于产生激光束；投影透镜400，所述投影透镜400设置在激光源300的下方；以及掩模1，所述掩模1设置在激光源300与投影透镜400之间并且通过使用激光束I传递图案。然而，当掩模1由新的掩模替换时，激光束在基质上的焦点和位置方面有所变化。当替换掩模时，掩模可以在高度、倾角、位置等等方面有所变化，并且因此激光束也可以在基质上的焦点和位置方面有所变化。由于激光束的焦点和位置因掩模的替换而变化，因此基质处理过程可能无法顺利地执行基质处理过程。
[0006]【现有技术文献】
[0007]【专利文献】
[0008]第2012-0042144号韩国专利公开案
【发明内容】
[0009]本发明提供一种用于修正倾角的设备，以在即使替换掩模的情况下也能防止激光束的焦点和位置发生变化。
[0010]本发明还提供一种基质处理设备，以在即使替换掩模的情况下也能稳定地处理基质。
[0011]根据一个不例性实施例，用于修正掩模的倾角的设备包含:掩模支撑主体，所述掩模支撑主体经配置以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支撑主体移动单元，所述掩模支撑主体移动单元经配置以改变掩模支撑主体的IX平面的倾角；照相机单元，所述照相机单元为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及控制单元，所述控制单元经配置以控制掩模支撑主体移动单元，由此改变掩模的XV平面的倾角，以使得当激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，所述激光束穿透图像与所述参考焦点图像匹配。
[0012]所述掩模支撑主体可以包含:掩模固持器，所述掩模固持器具有中心部分穿透的框架形状，所述掩模固持器具有第一、第二、第三和第四顶点，其中掩模被放置在掩模固持器上，并且掩模固持器的XV平面在倾角方面有所变化；掩模状态，所述掩模状态经配置以支撑其顶部表面上的掩模固持器；以及倾角变化模块，所述倾角变化模块经配置以单独地调节掩模固持器的顶点的2轴高度，从而改变XV平面的倾角。
[0013]所述倾角变化模块可以包含:高度调节部分，所述高度调节部分经配置以使掩模固持器的第一、第二、和第三顶点的2轴高度能够单独地升高或降低；以及支撑主体，所述支撑主体经配置以将掩模固持器的第四顶点连接到掩模载物台上。
[0014]所述高度调节部分可以包含:第一高度调节部分，所述第一高度调节部分经配置以使掩模固持器的第一顶点的2轴高度能够升高或降低；第二高度调节部分，所述第二高度调节部分经配置以使掩模固持器的第二顶点的2轴高度能够升高或降低；以及第三高度调节部分，所述第三高度调节部分经配置以使掩模固持器的第三顶点的2轴高度能够升高或降低。
[0015]根据另一示例性实施例，基质处理设备包含:腔室，所述腔室具有基质在其中图案化的内部空间；基质支撑件，所述基质支撑件设置在所述内部空间中以支撑基质；激光源，所述激光源经配置以产生激光束；掩模支撑主体，所述掩模支撑主体设置在激光源与基质支撑件之间，以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支撑主体移动单元，所述掩模支撑主体移动单元经配置以改变掩模支撑主体的XV平面的倾角；照相机单元，所述照相机单元经配置以为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及控制单元，所述控制单元经配置以控制掩模支撑主体移动单元，由此改变掩模的XV平面的倾角，以使得当激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，所述激光束穿透图像与所述参考焦点图像匹配。
【专利附图】
【附图说明】
[0016]可以从结合附图所作的以下描述中更详细地理解示例性实施例，其中:
[0017]图1是使用激光束的基质处理设备的视图。
[0018]图2是说明根据一个示例性实施例的基质处理设备的构成的视图。
[0019]图3是根据一个示例性实施例的掩模支撑主体的耦合图。
[0020]图4是根据一个示例性实施例的掩模支撑主体的分解图。
[0021]图5是根据一个示例性实施例的说明其中掩模载物台移动部分被实现为线性电动机11101:01-, 11)引导件的实例的视图。
[0022]图6(4、(幻是说明其中高度调节部分在2轴长度上进行调节，以使得掩模固持器的第一顶点能够在2轴方向上升高的状态的视图。
[0023]图7(4、(?)是说明其中高度调节部分在2轴长度上进行调节，以使得掩模固持器的第三顶点能够在2轴方向上升高的状态的视图。
[0024]主要元件标号说明:
[0025]1:导轨
[0026]2:平台
[0027]10:基质处理设备
[0028]100:腔室
[0029]200:基质支撑件
[0030]300:激光源
[0031]350:反射镜
[0032]400:投影透镜
[0033]500:掩模支撑主体
[0034]510:掩模固持器
[0035]510&:边缘
[0036]520:倾角变化模块
[0037]521:支撑主体
[0038]522,5228,52213,5220:高度调节部分
[0039]530:掩模载物台
[0040]600:控制单元
[0041]700:掩模支撑主体移动单元
[0042]800:照相机单元
[0043]1:掩模
[0044]I激光束
[0045]1:基质
【具体实施方式】
[0046]下文中将参考附图详细描述特定实施例。然而，本发明可以以不同的形式来体现，且不应解释为限于本文所陈述的实施例。相反，提供这些实施例是为了使本发明透彻和完整，且将本发明的范围完整地传达给所属领域的技术人员。全文中相同的参考编号指代相同的元件。
[0047]图2是说明根据一个示例性实施例的基质处理设备的构成的视图。
[0048]在基质处理设备10中，从激光源300中产生的激光束穿过掩模1并且被照射到基质评上。此处，形成于基质I上的施体薄膜的发光层被分离且随后基质I经图案化以形成像素。为此，基质处理设备10包含腔室100、基质支撑件200、激光源300、掩模支撑主体500、掩模支撑主体移动单元700、照相机单元800以及控制单元600。
[0049]尽管腔室100具有带有内部空间的矩形盒形状，但是本发明不限于此。举例来说，腔室可以具有多种容器形状。也就是说，腔室100可以具有圆柱体形状或多边形盒形状。设置在内部空间中的基质经图案化以形成像素。用于加载/卸载基质的入口被界定在腔室的一个侧表面和另一侧表面的每一者中。此处，至少一个入口连接到基质传递模块上。
[0050]投影透镜400设置在腔室100的顶部表面上，以捕获从激光源300照射的激光束，由此将激光束发射到基质支撑件上的基质上。尽管投影透镜400设置在腔室100的顶部表面上，但是本发明不限于此。举例来说，投影透镜400可以设置在激光束照射通道中，所述激光束照射通道具有穿透腔室100的外部或内部的上部部分。
[0051]基质支撑件200设置在腔室100的内部空间中以支撑基质胃，以使得基质评的像素区域面向上侧。而且，基质支撑件200水平地移动且抬高基质I。基质支撑件200可以连接到作为用于提供抬高力的单元的圆柱体上。基质I放置在基质支撑件200上。此处，施体薄膜被层压在基质的顶部表面(即，待图案化的表面)(下文称为“图案化表面”)上。
[0052]激光源300通过图案化掩模1的开口将激光束照射到基质I的图案表面上。基质处理设备可以进一步包含反射镜350。从激光源300中发射的激光束由反射镜350反射并且随后被照射到掩模1上。激光束可以部分地加热比掩模1的开口区域小的区域。气体激光器，例如氩激光器、氪激光器、准分子激光器等等，即，使用媒介的激光器，其中钕、镱、铬、钛、钦、铒、铥和钽中的至少一者被添加到单晶钇铝石榴石、钒酸钇、硅酸镁石、^103,6^04或多晶(陶瓷)钇铝石榴石、氧化钇、钒酸钇、从103、6(^04中作为掺杂剂，或者玻璃激光器、红宝石激光器、紫翠玉激光器、钛蓝宝石激光器、铜蒸气激光器和金蒸气激光器中的至少一者可以用作激光源300。激光束可以被提供为线形束，所述线形束与具有相对较宽区域的平面形束相比能够容易地得到收集到并且立即被照射到基质的整个表面上。
[0053]掩模1可以是用于选择性地阻挡或反射从激光源300照射的激光束的光控制单元。掩模1具有图案，所述图案具有激光束穿过其中的开口 ；以及用于阻挡或反射激光束的阻挡部分。由于沉积材料并不穿过掩模1的开口，因此与沉积掩模不同，掩模1可以具有相对较厚的厚度。因此，由于掩模1具有相对较厚的厚度，因此所述掩模在不会轻易受到热量影响的情况下可以防止激光束衍射。而且，掩模1可以由能够经受激光束的照射的材料形成，例如，高熔点材料，例如鹤、钽、铬、镍或钥，以上各项的合金；或具有低热膨胀系数的金属材料，所述金属材料不会由于热量而轻易地变形，例如，不锈钢、铬镍铁合金、哈氏合金等等。而且，掩模1可以由具有与用于附接到基质I上的施体薄膜的材料相同的热膨胀系数的材料形成。这是为了防止掩模1和施体薄膜通过以相同热膨胀系数使掩模1和施体薄膜膨胀而彼此不对齐，即使掩模1被加热。
[0054]基质处理设备10包含掩模倾角修正装置，用于在替换掩模1时将掩模1的焦点和位置修正到参考值。用于将掩模1的焦点和位置修正到参考值的掩模倾角修正装置包含掩模支撑主体500、掩模支撑主体移动单元700、照相机单元800和控制单元600。
[0055]掩模支撑主体500设置在激光源300与基质支撑件200之间，以支撑图案化掩模1。掩模支撑主体500可以在X轴、V轴和2轴方向上移动并且通过使用包含倾角变化模块520和掩模载物台移动部分的掩模支撑主体移动单元700而旋转。将参考图3、图4和图5描述掩模支撑主体500和掩模载物台移动部分。
[0056]图3是根据一个示例性实施例的掩模支撑主体的耦合图，图4是根据一个示例性实施例的掩模支撑主体的分解图，以及图5是根据一个示例性实施例的说明其中掩模载物台移动部分被实现为线性电动机11101:01-, 11)引导件的实例的视图。
[0057]掩模支撑主体500包含支撑掩模1的掩模固持器510 ；用于支撑掩模固持器510的掩模载物台530 ；以及倾角变化模块520，所述倾角变化模块520单独地调节掩模固持器的顶点中每一者的2轴高度以改变XV平面的倾角。
[0058]掩模载物台530在X轴和X轴方向上移动并且通过使用掩模载物台移动部分旋转。举例来说，掩模载物台移动部分可以实现掩模载物台530在X轴和X轴方向上的移动以及掩模载物台530的旋转。举例来说，线性电动机11101:01-, 11)引导件可以被实现为掩模载物台移动部分。图5中说明其中⑶引导件被实现为掩模载物台移动部分的一个实例。在11引导件中，I轴传送平台2沿着11导轨1移动，并且掩模载物台530沿着X轴传送平台2在X轴方向上移动。因此，当执行过程时，掩模载物台530通过在X轴和V轴方向上的移动设置在适当位置。此处，X轴和V轴是形成二维平面的轴。而且，掩模载物台530可以包含单独的旋转电动机，以除了 X轴和X轴的移动之外水平地旋转。
[0059]图3和图4中说明的掩模固持器510具有框架形状，所述框架形状的中心部分是穿透的。此处，掩模1的边缘位于掩模固持器510的边缘5103上并且由所述边缘5103支撑。穿过掩模1的激光束可以穿过掩模固持器的区域，所述掩模固持器的中心部分是穿透的。当然，在一些情况下，用于支撑和固定掩模1的单独固定单元可以进一步提供于掩模固持器510中。掩模固持器510可以被实现为具有四个顶点的矩形框架形状，所述四个顶点为第一顶点、第二顶点、第三顶点和第四顶点。或者，掩模固持器510可以被实现为具有三个顶点、五个顶点或六个顶点的框架形状。在下文中，将作为实例描述具有四个顶点的框架形状。然而，可以提供具有少于或多于四个顶点的顶点的数目的掩模固持器。
[0060]在示例性实施例中，掩模固持器510的XV平面的倾角可以发生变化。掩模固持器的顶点的2轴高度可以单独地经调节以改变XV平面的倾角。因此，提供倾角变化模块520以单独地调节顶点中每一者的2轴高度，从而改变XV平面。倾角变化模块520包含高度调节部分522、522^1、52213和522(3，用于使掩模固持器510的第一顶点、第二顶点和第三顶点的2轴高度能够单独地升高或降低；以及支撑主体521，所述支撑主体521将掩模固持器510的第四顶点连接到掩模载物台530上。高度调节部分522中的每一者是电动机，该电动机的高度根据电动机的伸展操作沿着2轴在纵向方向上得到可变的调节。掩模载物台530和掩模固持器510的顶点分别在纵向方向上连接到高度调节部分的两端。长度可调节的高度调节部分522可以通过各种长度调节单元(例如，线性电动机)来实现。
[0061]高度调节部分522包含第一高度调节部分5223，掩模固持器510的第一顶点的高度通过所述第一高度调节部分在2轴方向上升高或降低；第二高度调节部分5226，掩模固持器510的第二顶点的高度通过所述第二高度调节部分5226在2轴方向上升高或降低；以及第三高度调节部分5220，掩模固持器510的第三顶点的2轴高度通过所述第三高度调节部分升高或降低。高度调节部分522中的每一者是在纵向方向上长度可变地可调节的电动机。高度调节部分522中的每一者具有这样一种结构，其中掩模载物台530和掩模固持器510的顶点中的每一者在纵向方向上连接到高度调节部分522中的每一者的两端上。
[0062]支撑主体521设置在第四顶点上，以将掩模固持器510的第四顶点支撑在掩模载物台530上。支撑主体521可以通过具有弹力的弹簧或不具有弹力的金属棒来实现。
[0063]因此，当某一顶点的高度在2轴上升高或降低时，掩模固持器510的XV平面的倾角可以发生变化。举例来说，如图6(4、(幻所示，当设置在第一顶点上的第一高度调节部分5223在2轴长度上延伸，以在2轴方向上提升掩模固持器510的第一顶点时，掩模固持器510的XV平面具有某一倾角，所述第一顶点以该倾角设置在相对高于其他顶点的高度处。此处，设置在第四顶点上的支撑主体521(例如，弹簧)延伸，并且因此设置在第二顶点上的第二高度调节部分5226也可以在与第四顶点的高度相对应的高度上延伸。而且，如图7(3)、(^)所示，当设置在第三顶点上的第三高度调节部分5223在2轴长度上延伸，以在2轴方向上提升掩模固持器510的第三顶点时，掩模固持器510的XV平面具有某一倾角，所述第三顶点以该倾角设置在相对高于其他顶点的高度处。此处，作为设置在第四顶点上的支撑主体521的弹簧可以延伸，并且因此设置在第二顶点上的第二高度调节部分5226也可以在与第四顶点的高度相对应的高度上延伸。
[0064]因此，当替换掩模1之后激光束的焦点变化时，设置在第一、第二和第三顶点上的高度调节部分522可以经控制以调节掩模固持器510的XV平面的倾角，由此将激光束的焦点恢复到其原始状态。由于掩模固持器510的XV平面的倾角变化意味着掩模1的XV平面的变化，因此穿过掩模1的激光束的焦点可以通过掩模1的倾角的变化得到修正。因此，即使替换掩模，掩模也可以被加载到与掩模先前所设置的位置最大程度地接近的位置上。
[0065]如图2所示，照相机单元800提供于示例性实施例中，以便在替换掩模之后检测激光束的焦点的变化。照相机单元800为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像。照相机单元800设置在某一区域中的基质支撑件200中，在所述区域中，激光束经照射以通过使用照相机成像传感器捕获穿过基质的激光束的图像。因此，照相机单元800可以捕获穿过基质I的经照射的激光束的图像，以产生激光束穿透图像。红外线1?照相机、近红外线照相机可以被实现为照相机单元800。此处，10倍透镜、滤光镜等等可以应用于照相机单元800。
[0066]当激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，控制单元600控制掩模支撑主体移动单元700以改变掩模固持器510的XV平面的倾角，以使得激光束穿透图像与参考焦点图像匹配。在替换掩模之前，控制单元600存储集中在存储器中的参考焦点图像。由于激光束以线形照射，因此其中激光束的外形具有良好对比度的状态可以通过参考焦点图像来确定。当在替换掩模固持器510后通过捕获穿过基质的激光束的图像获取的激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，掩模固持器510的XV平面的倾角发生变化以使焦点与参考焦点匹配。参考焦点图像的对比度可以通过多种方法进行比较，例如，比较线的厚度的方法以及比较对比度的方法。比较线的厚度的方法是确定成像的激光束穿透图像的线的厚度和参考焦点图像的线的厚度是否超过临界值的方法。而且，比较对比度的方法是确定成像的激光束穿透图像的线的对比度是否超过参考焦点图像的临界值的方法。
[0067]当确定偏离临界值时，控制单元600可以相对于掩模固持器修正XV平面的倾角。举例来说，在激光束穿透图像和参考焦点图像中(其中每一者具有线形)，当激光束穿透图像具有大于参考焦点图像的厚度时，控制单元600提升掩模固持器510的第一、第二和第三顶点中的至少一者，以改变掩模固持器510的IX平面的倾度。类似地，当激光束穿透图像具有小于参考焦点图像的厚度时，控制单元600使掩模固持器510的第一、第二和第三顶点中的至少一者能够降低，由此改变掩模固持器510的XV平面的倾角。
[0068]当在照相机单元800中成像的激光束穿透图像偏离参考位置时，控制单元600可以在X轴和X轴方向上移动支撑掩模固持器的掩模载物台530，并且使掩模载物台530旋转。也就是说，当激光束穿透图像偏离先前存储的参考位置时，控制单元600控制掩模载物台移动部分，以在X轴和X轴方向上移动掩模载物台530并且使掩模载物台530旋转，以使得激光束穿透图像与参考位置匹配。参考位置表示基于基质支撑件的平面坐标的参考焦点图像的位置信息。当聚焦时，照射到基质上的具有线形的激光束的位置信息被注册为参考位置。随后，当激光束的位置由于掩模固持器的替换而偏离参考位置处的临界值时，控制单元在X轴和X轴方向上移动掩模载物台530并且使掩模载物台530旋转，以调节激光束的位置。
[0069]在示例性实施例中，可以对掩模支撑主体的倾角进行调节，以在即使替换掩模的情况下也能防止激光束的焦点和位置发生变化。
[0070]尽管已参考具体实施例描述了用于修正倾角的设备以及基质处理设备，但是它们不限于此。因此，所属领域的技术人员将容易理解，在不脱离由所附权利要求书界定的本发明的精神和范围的情况下，可以对其做出各种修改和改变。
【权利要求】
1.一种用于修正掩模的倾角的设备，其特征在于，所述设备包括: 掩模支撑主体，所述掩模支撑主体经配置以支撑其上形成有图案的掩模； 掩模支撑主体移动单元，所述掩模支撑主体移动单元经配置以改变所述掩模支撑主体的XY平面的倾角； 照相机单元，所述照相机单元为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及 控制单元，所述控制单元经配置以控制所述掩模支撑主体移动单元，由此改变所述掩模的所述XY平面的所述倾角，以使得当所述激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，所述激光束穿透图像与所述参考焦点图像匹配。
2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述照相机单元设置在所述基质支撑件中。
3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述照相机单元包括红外线照相机和近红外线照相机中的一者。
4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述掩模支撑主体包括: 掩模固持器，所述掩模固持器具有中心部分穿透的框架形状，所述掩模固持器具有第一顶点、第二顶点、第三顶点和第四顶点，其中所述掩模放置在所述掩模固持器上，并且所述掩模固持器的所述XY平面的倾角是变化的； 掩模状态，所述掩模状态经配置以支撑其顶部表面上的所述掩模固持器；以及倾角变化模块，所述倾角变化模块经配置以单独地调节所述掩模固持器的所述顶点的Z轴高度，以改变所述XY平面的所述倾角。
5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述倾角变化模块包括: 高度调节部分，所述高度调节部分经配置以使所述掩模固持器的所述第一顶点、所述第二顶点和所述第三顶点的所述Z轴高度能够单独地升高或降低；以及 支撑主体，所述支撑主体经配置以将所述掩模固持器的所述第四顶点连接到掩模载物台上。
6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述高度调节部分是在其纵向方向上长度可变地调节的电动机，并且其纵向方向上的两端分别连接到所述掩模载物台和所述掩模固持器的所述顶点上。
7.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述高度调节部分包括: 第一高度调节部分，所述第一高度调节部分经配置以使所述掩模固持器的所述第一顶点的所述Z轴高度能够升高或降低； 第二高度调节部分，所述第二高度调节部分经配置以使所述掩模固持器的所述第二顶点的所述Z轴高度能够升高或降低；以及 第三高度调节部分，所述第三高度调节部分经配置以使所述掩模固持器的所述第三顶点的所述Z轴高度能够升高或降低。
8.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述掩模支撑主体移动单元进一步包括掩模载物台移动部分，所述掩模载物台移动部分经配置以在X轴和Y轴方向上移动所述掩模载物台并且使所述掩模载物台旋转。
9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，当所述激光束穿透图像偏离参考位置时，所述掩模载物台移动部分经控制以在X轴和Y轴方向上移动所述掩模载物台并且使所述掩模载物台旋转，以使得所述激光束穿透图像与所述参考位置匹配。
10.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述激光束穿透图像和所述参考焦点图像中的每一者具有线形，并且当所述激光束穿透图像具有大于所述参考焦点图像的厚度时，所述控制单元使所述掩模固持器的所述第一顶点、所述第二顶点和所述第三顶点中的至少一者能够升高。
11.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述激光束穿透图像和所述参考焦点图像中的每一者具有线形，并且当所述激光束穿透图像具有小于所述参考焦点图像的厚度时，所述控制单元使所述掩模固持器的所述第一顶点、所述第二顶点和所述第三顶点中的至少一者能够降低。
12.—种基质处理设备，其特征在于，包括: 腔室，所述腔室具有基质在其中图案化的内部空间； 基质支撑件，所述基质支撑件设置在所述内部空间中以支撑所述基质； 激光源，所述激光源经配置以产生激光束； 掩模支撑主体，所述掩模支撑主体设置在所述激光源与所述基质支撑件之间，以支撑其上形成有图案的掩模； 掩模支撑主体移动单元，所述掩模支撑主体移动单元经配置以改变所述掩模支撑主体的XY平面的倾角； 照相机单元，所述照相机单元经配置以为穿过设置在所述基质支撑件上的所述基质的所述激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及 控制单元，所述控制单元经配置以控制所述掩模支撑主体移动单元，由此改变所述掩模的所述XY平面的所述倾角，以使得当所述激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，所述激光束穿透图像与所述参考焦点图像匹配。
13.根据权利要求12所述的基质处理设备，其特征在于，所述掩模支撑主体移动单元在X轴和Y轴方向上移动所述掩模支撑主体并且使掩模支撑件旋转。
【文档编号】G03F1/72GK104423146SQ201410412432
【公开日】2015年3月18日 申请日期:2014年8月20日 优先权日:2013年8月28日
【发明者】梁相熙, 白圣焕, 金戊一, 金镐岩 申请人:Ap系统股份有限公司