使用图案形成装置形貌引入的相位的方法和设备与流程

技术特征：

技术总结
一种方法包括：测量光刻图案形成装置的图案的特征的三维形貌；和根据测量结果计算由图案的三维形貌所导致的波前相位信息。

技术研发人员：J·M·芬德尔斯
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2015.11.25
技术公布日：2017.08.29