1.一种显示屏的制备方法，其特征在于，包括：
在显示面板表面上制备纳米银膜形成偏光片；
对所述显示面板和偏光片同时进行切割，得到预设尺寸的显示屏。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在显示面板表面上制备纳米银形成偏光片包括：
在显示面板表面上形成预设厚度的纳米银膜；
基于所述纳米银膜，涂抹一层光刻胶；
在所述光刻胶表面上放置掩模版；
提供一束光源，对所述光刻胶进行选择性曝光并显影，获得未曝光的光刻胶与无光刻胶的纳米银膜；
烘烤所述未曝光的光刻胶，并刻蚀所述无光刻胶的纳米银膜，得到所述偏光片。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，还包括：
采用化学还原方法制备所述纳米银膜。
4.根据权利要求1-3任一项所述的方法，其特征在于，所述纳米银膜以柠檬酸三钠与硝酸银为原料。
5.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述预设厚度为10μm。
6.一种显示屏的制备装置，其特征在于，包括：
偏光片形成模块，用于在显示面板表面上制备纳米银膜形成偏光片；
显示屏获取模块，用于对所述显示面板和偏光片同时进行切割，得到预设尺寸的显示屏。
7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述偏光片形成模块具体用于：
在显示面板表面上形成预设厚度的纳米银膜；
基于所述纳米银膜，涂抹一层光刻胶；
在所述光刻胶表面上放置掩模版；
提供一束光源，对所述光刻胶进行选择性曝光并显影，获得未曝光的光刻胶与无光刻胶的纳米银膜；
烘烤所述未曝光的光刻胶，并刻蚀所述无光刻胶的纳米银膜，得到所述偏光片。
8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，还包括：
纳米银膜制备模块，用于采用化学还原方法制备所述纳米银膜。
9.根据权利要求6-8任一项所述的装置，其特征在于，所述纳米银膜以柠檬酸三钠与硝酸银为原料。
10.根据权利要求7或8所述的装置，其特征在于，所述预设厚度为10μm。