一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置。

背景技术：

液晶显示面板部分主要是由阵列基板、彩膜基板以及两者间成盒的液晶组成，彩膜基板除了提供彩色滤光作用的色阻层之外，还设有柱状隔垫物，用以支撑液晶盒厚。为了使成盒后的膜面均匀，降低低温气泡(bubble)和重力mura的风险，柱状隔垫物往往设置成两段式(主隔垫物(main)/辅隔垫物(sub))或三段式(main/sub1/sub2)。现有技术中，柱状隔垫物的掩膜版设计主要分为常规型和半透膜型。常规型柱状隔垫物的主隔垫物和辅隔垫物均是采用全透光图形，一般是通过控制全透光图形的开口大小来调控段差。而半透膜型柱状隔垫物一般主隔垫物采用全透光图形，辅隔垫物采用半透光图形，半透光图形的透过率一般固定，根据段差需求来给定半透光图形的透过率。

采用半透型掩膜版制作柱状隔垫物时，当掩膜版的半透光图形超过一定开口值之后，半透光图形中心位置的光强与其他位置的光强相比会有所下降，有可能在辅隔垫物的顶部形成类似火山口状的凹陷情况(请参考图1)，从而引发液晶显示面板触压相关不良的风险。图1中，10为彩膜基板，11为主隔垫物，12为辅隔垫物。

技术实现要素：

有鉴于此，本发明提供一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置，用于提高辅隔垫物顶部表面的平坦度，避免液晶显示面板触压相关不良。

为解决上述技术问题，第一方面，本发明实施例提供一种掩膜版，用于制作显示基板上的预设膜层图形，所述掩膜版包括：多个环状的半透光图形，所述半透光图形的形状和尺寸与需要形成在所述显示基板上的辅隔垫物顶部表面的预设外环区域的形状和尺寸匹配。

第二方面，本发明实施例还提供一种显示基板的制作方法，包括：

形成预设膜层；

采用上述第一方面提供的掩膜版对所述预设膜层进行构图，形成预设膜层图形，所述预设膜层图形包括对应所述半透光图形的环形凹槽。

优选地，所述显示基板为彩膜基板，所述预设膜层图形为黑矩阵图形，所述掩膜版还包括：多个全透光图形和不透光图形；

所述显示基板的制作方法包括：

形成遮光材料膜层，所述遮光材料膜层为所述预设膜层；

在所述遮光材料膜层上形成光刻胶层；

采用所述掩膜版对所述光刻胶层进行曝光并显影，形成对应所述不透光图形的光刻胶全保留区，对应所述半透光图形的光刻胶半保留区和对应所述全透光图形的光刻胶全去除区；

对所述光刻胶全去除区的遮光材料膜层进行刻蚀；

对所述光刻胶半保留区的光刻胶层进行灰化；

对所述光刻胶半保留区的遮光材料膜层进行刻蚀，形成包括环形凹槽的黑矩阵图形；

剥离所述光刻胶全保留区的光刻胶层，露出所述黑矩阵图形。

优选地，所述形成预设膜层图形之后，还包括：

形成绝缘材料膜层；

采用半透膜型掩膜版对所述绝缘材料膜层进行构图，形成隔垫物，所述隔垫物包括主隔垫物和辅隔垫物，所述辅隔垫物顶部表面的预设外环区域在所述预设膜层图形上的正投影与所述环形凹槽重合。

第三方面，本发明实施例还提供一种掩膜版，用于制作显示基板上的预设膜层图形，所述掩膜版包括：多个不透光图形和半透光图形，所述不透光图形的形状和尺寸与需要形成在所述显示基板上的辅隔垫物顶部表面的预设中部区域的形状和尺寸匹配。

第四方面，本发明实施例还提供一种显示基板的制作方法，包括：

形成预设膜层；

采用上述第三方面提供的掩膜版对所述预设膜层进行构图，形成预设膜层图形，所述预设膜层图形包括对应所述不透光图形的凸起。

优选地，所述显示基板为彩膜基板，所述预设膜层图形为黑矩阵图形，所述掩膜版还包括：多个全透光图形；

所述显示基板的制作方法包括：

形成遮光材料膜层；

在所述遮光材料膜层上形成光刻胶层；

采用所述掩膜版对所述光刻胶层进行曝光并显影，形成对应所述不透光图形的光刻胶全保留区，对应所述半透光图形的光刻胶半保留区和对应所述全透光图形的光刻胶全去除区；

对所述光刻胶全去除区的遮光材料膜层进行刻蚀；

对所述光刻胶半保留区的光刻胶层进行灰化；

对所述光刻胶半保留区的遮光材料膜层进行刻蚀，形成包括凸起的黑矩阵图形；

剥离所述光刻胶全保留区的光刻胶层，露出所述黑矩阵图形。

优选地，所述形成预设膜层图形之后，还包括：

形成绝缘材料膜层；

采用半透膜型掩膜版对所述绝缘材料膜层进行构图，形成隔垫物，所述隔垫物包括主隔垫物和辅隔垫物，所述辅隔垫物顶部表面的预设中部区域在所述预设膜层图形上的正投影与所述凸起重合。

第五方面，本发明实施例还提供一种显示基板，采用上述第二方面提供的方法制作而成，包括：

预设膜层图形，所述预设膜层图形包括环形凹槽，所述环形凹槽的形状和尺寸与需要形成在所述显示基板上的辅隔垫物顶部表面的预设外环区域的形状和尺寸匹配。

第六方面，本发明实施例还提供一种显示基板，采用上述第四方面提供的方法制作而成，包括：

预设膜层图形，所述预设膜层图形包括凸起，所述凸起的形状和尺寸与需要形成在所述显示基板上的辅隔垫物顶部表面的预设中部区域的形状和尺寸匹配。

第七方面，本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述第五方面或第六方面提供的显示基板。

本发明的上述技术方案的有益效果如下：

通过在显示基板的膜层图形上形成与辅隔垫物顶部预设外环区域匹配的环形凹槽，以使得形成在该环形凹槽上的辅隔垫物顶部预设外环区域下陷，或者，在显示基板的膜层图形上形成与辅隔垫物顶部预设中部区域匹配的凸起，以使得形成在该凸起上的辅隔垫物顶部预设中部区域被抬升，使辅隔垫物顶部外环区域和中部区域高度基本持平，避免辅隔垫物顶部出现火山口状，提高辅隔垫物顶部表面的平坦度，从而避免液晶显示面板触压相关不良。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中的具有火山口状顶部的柱状隔垫物的示意图；

图2为大小不同的半透光图形在其开口的各个位置的光强分布图；

图3为不同大小的半透光图形的中心位置对应的光强分布图；

图4为不同曝光间隙(gap)对不同大小的半透光图形的中心位置的光强分布的影响示意图；

图5为本发明的实施例一的掩膜版的结构示意图；

图6-图12为本发明实施例三的显示基板的制作方法的流程示意图；

图13为本发明实施例四的显示基板的制作方法的示意图；

图14为本发明的实施例五的掩膜版的结构示意图；

图15-图19为本发明实施例七的显示基板的制作方法的流程示意图；

图20为本发明实施例八的显示基板的制作方法的示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明的发明人发现，采用半透膜型掩膜版制作柱状隔垫物时，半透光图形中心位置的光强通常大于其他位置的光强，且随着半透光图形的增大，半透光图形中心位置的光强与其他位置的光强差值也会随着而增加，并在一定的开口达到最大值。然而，当掩膜版的半透光图形超过一定开口值之后，半透光图形中心位置的光强与其他位置的光强相比会有所下降。

请参考图2和图3，图2为大小不同的半透光图形在其开口的各个位置的光强分布图(本发明实施例中，半透光图形为圆形，半透光图形开口的大小是指开口直径的大小)。图2中，横坐标为半透光图形上的某一位置与中心位置的相对距离，纵坐标为光强。图3为大小不同的半透光图形的中心位置对应的光强分布图。图3中，横坐标为半透光图形的大小，纵坐标为半透光图形中心位置的光强。

从图2和图3中可以看出，随着半透光图形的增大，半透光图形中心位置的光强与其他位置的光强差值也会随着而增加，并在一定的开口(本发明实施例中，为20um)达到最大值。然而，当掩膜版的半透光图形超过一定开口值之后，半透光图形中心位置的光强与其他位置的光强相比会有所下降。

请同时参考图4，图4为不同曝光间隙(gap)对不同大小的半透光图形的中心位置的光强分布的影响示意图，其中曝光间隙是指掩膜版与待曝光显示基板之间的间隙。从图4中可以看出，曝光间隙越小，半透光图形的中心位置的光强达到最大值所对应的半透光图形的开口值越小。另外，从图4也可以看出，不管曝光间隙多大，半透光图形中心位置的光强的分布仍然遵循上述变化规律：随着半透光图形的增大，半透光图形中心位置的光强与其他位置的光强差值也会随着而增加，并在一定的开口达到最大值。然而，当掩膜版的半透光图形超过一定开口值之后，半透光图形中心位置的光强与其他位置的光强相比会有所下降。

当半透光图形中心位置的光强与半透光图形的其他位置相比下降时，有可能在辅隔垫物的顶部形成类似火山口状的凹陷情况(请参考图1)，引发液晶显示面板触压相关不良的风险。

为解决上述问题，本发明实施例提供及一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置，通过在显示基板的膜层图形上形成与辅隔垫物顶部预设外环区域匹配的环形凹槽，以使得形成在该环形凹槽上的辅隔垫物顶部预设外环区域下陷，或者，在显示基板的膜层图形上形成与辅隔垫物顶部预设中部区域匹配的凸起，以使得形成在该凸起上的辅隔垫物顶部预设中部区域被抬升，使辅隔垫物顶部外环区域和中部区域高度基本持平，避免辅隔垫物顶部出现火山口状，提高辅隔垫物顶部表面的平坦度，从而避免液晶显示面板触压相关不良。

请参考图5，图5为本发明的实施例一的掩膜版的结构示意图，该掩膜版20，用于制作显示基板上的预设膜层图形，所述掩膜版20包括：多个环状的半透光图形21，所述半透光图形21的形状和尺寸与需要形成在所述显示基板上的辅隔垫物顶部表面的预设外环区域的形状和尺寸匹配。

本发明实施例中，半透光图形21的形状为圆环状，需要形成在显示基板上的辅隔垫物为柱状隔垫物，横截面为圆形。当然，在本发明的其他一些实施例中，柱状隔垫物的横截面也不限于圆形，例如还可以为正方形、椭圆形或长方形等，对应的，半透光图形21的形状也为对应的环状结构。

本发明实施例中，半透光图形21的尺寸可以根据实验值或经验值确定，与对应的具有火山口状顶部的辅隔垫物的火山口的外环的尺寸匹配。

本发明实施例中，半透光图形21的透过率可以根据实验值或经验值确定，与对应的具有火山口状顶部的辅隔垫物的火山口凹陷的深度匹配。

本发明实施例中，半透光图形21的个数与需要形成在显示基板上的辅隔垫物的个数相同，且位置一一对应。当然，在本发明的其他一些实施例中，也不排除其他设置方式，例如半透光图形21的个数少于辅隔垫物的个数，只与部分辅隔垫物一一对应。

所述掩膜版20用于制作显示基板上的预设膜层图形，所述显示基板为需要形成隔垫物的显示基板。本发明实施例中，所述显示基板可以为彩膜基板，所述预设膜层图形可以为黑矩阵图形。当然，在本发明的其他一些实施例中，所述显示基板也可以是阵列基板，所述预设膜层图形为阵列基板上的膜层图形，例如钝化层等。

当本发明实施例中的显示基板为彩膜基板，所述预设膜层图形为黑矩阵图形时，本发明实施例中，所述掩膜版20还包括：多个全透光图形22和不透光图形23，其中，所述全透光图形22对应所述黑矩阵图形所围的亚像素区域。所述不透光图形23和所述半透光图形21对应所述黑矩阵图形。

本发明的实施例二还提供一种显示基板的制作方法，包括：

形成预设膜层；

采用上述实施例中的掩膜版对所述预设膜层进行构图，形成预设膜层图形，所述预设膜层图形包括对应所述半透光图形的环形凹槽。

本发明实施例中的显示基板为需要形成隔垫物的显示基板，可以是彩膜基板，也可以是阵列基板。

本发明实施例中，通过在显示基板的预设膜层图形上形成与辅隔垫物顶部预设外环区域匹配的环形凹槽，以使得形成在该环形凹槽上的辅隔垫物顶部预设外环区域下陷，从而使得辅隔垫物顶部外环区域和中部区域高度基本持平，避免辅隔垫物顶部出现火山口状，提高辅隔垫物顶部表面的平坦度，避免液晶显示面板触压相关不良。

在本发明的一些实施例中，在形成预设膜层图形之后，所述显示基板的制作方法还包括以下步骤：

形成绝缘材料膜层；

采用半透膜型掩膜版对所述绝缘材料膜层进行构图，形成隔垫物，所述隔垫物包括主隔垫物和辅隔垫物，所述辅隔垫物顶部表面的预设外环区域在所述预设膜层图形上的正投影与所述环形凹槽重合。

请参考图6-图12，图6-图12为本发明实施例三的显示基板的制作方法的流程示意图，该显示基板的制作方法包括：

步骤601：请参考图6，形成遮光材料膜层31’，所述遮光材料膜层为上述预设膜层；

步骤602：请参考图7，在所述遮光材料膜层31’上形成光刻胶层32；

本发明实施例中，光刻胶层32使用的正性光刻胶，经全曝光的正性光刻胶能够溶于显影液，经部分曝光的正性光刻胶能够部分溶于显影液，而未经曝光的正性光刻胶不溶于显影液。

步骤603：请参考图8，采用上述实施例一所述的掩膜版20对所述光刻胶层32进行曝光并显影，形成对应所述不透光图形23的光刻胶全保留区321，对应所述半透光图形21的光刻胶半保留区322和对应所述全透光图形22的光刻胶全去除区323；

步骤604：请参考图9，对所述光刻胶全去除区323的遮光材料膜层31’进行刻蚀；

步骤605：请参考图10，对所述光刻胶半保留区322的光刻胶层32进行灰化；

步骤606：请参考图11，对所述光刻胶半保留区322的遮光材料膜层31’进行刻蚀，形成包括环形凹槽311的黑矩阵图形31；

步骤607：请参考图12，剥离所述光刻胶全保留区321的光刻胶层，露出所述黑矩阵图形31。

本发明实施例中，在显示基板的预设膜层图形上形成与辅隔垫物顶部预设外环区域匹配的环形凹槽，以使得形成在该环形凹槽上的辅隔垫物顶部预设外环区域下陷，从而使得辅隔垫物顶部外环区域和中部区域高度基本持平，避免辅隔垫物顶部出现火山口状，提高辅隔垫物顶部表面的平坦度，避免液晶显示面板触压相关不良。

请参考图13，图13为本发明实施例四的显示基板的制作方法的示意图，该显示基板的制作方法包括：

步骤701：提供一衬底基板30；

步骤702：在衬底基板30上形成黑矩阵图形31，所述黑矩阵图形31包括环形凹槽311；

具体形成黑矩阵图形31的方法请参见图6-图12所示的实施例。

步骤703：在黑矩阵图形31所围的亚像素区域中形成色阻层图形33；

步骤704：在黑矩阵图形31和色阻层图形33上形成平坦层34，所述平坦层44在对应所述环形凹槽311的位置形成有环形凹槽341。

现有技术中，在形成平坦层时，通常是使得平坦层材料在黑矩阵图形31和色阻层图形33上自然流平，然后固化，本发明实施例中，为了避免黑矩阵图形31上的环形凹槽311被平坦层34填平，因而，需要在形成平坦层34的过程中，加快对平坦层材料的固化，避免平坦层材料自然流平，以在平坦层34上形成对应所述环形凹槽311的环形凹槽341。

步骤705：在所述平坦层34上形成隔垫物，所述隔垫物包括主隔垫物351和辅隔垫物352，其中，辅隔垫物352对应环形凹槽341设置，辅隔垫物352顶部表面的预设外环区域3521在所述平坦层34上的正投影与所述环形凹槽341重合，当然，同时，辅隔垫物352顶部表面的预设外环区域3521在所述黑矩阵图形31上的正投影与所述环形凹槽311重合，从而使得辅隔垫物352在对应环形凹槽341的位置下陷，避免形成火山口状的顶部。

本发明实施例中，采用半透膜型掩膜版40对用于形成隔垫物的绝缘材料膜层进行构图，形成隔垫物，该半透膜型掩膜版40包括对应主隔垫物351的全透光图形区域41和对应辅隔垫物352的半透光图形42。

本发明实施例中，在显示基板的预设膜层图形上形成与辅隔垫物顶部预设外环区域匹配的环形凹槽，以使得形成在该环形凹槽上的辅隔垫物顶部预设外环区域下陷，从而使得辅隔垫物顶部外环区域和中部区域高度基本持平，避免辅隔垫物顶部出现火山口状，提高辅隔垫物顶部表面的平坦度，避免液晶显示面板触压相关不良。

上述实施例中，是以隔垫物为两段式(主隔垫物(main)/辅隔垫物(sub))隔垫物为例进行说明，在本发明的其他一些实施例中，隔垫物也可以为三段式(main/sub1/sub2)，其中，为三段式隔垫物时，sub1和sub2的高度不同，本发明实施例中的掩膜版分别包括对应sub1和sub2的半透光图形。

请参考图14，图14为本发明的实施例五的掩膜版的结构示意图，该掩膜版50，用于制作显示基板上的预设膜层图形，所述掩膜版50包括：多个不透光图形51和半透光图形52，所述不透光图形51的形状和尺寸与需要形成在所述显示基板上的辅隔垫物顶部表面的预设中部区域的形状和尺寸匹配。

本发明实施例中，不透光图形51的形状为圆形，需要形成在显示基板上的辅隔垫物为柱状隔垫物，横截面为圆形。当然，在本发明的其他一些实施例中，柱状隔垫物的横截面也不限于圆形，例如还可以为正方形、椭圆形或长方形等。

本发明实施例中，不透光图形51的尺寸可以根据实验值或经验值确定，与对应的具有火山口状顶部的辅隔垫物的火山口的凹陷区域的尺寸匹配。

本发明实施例中，不透光图形51的透过率可以根据实验值或经验值确定，与对应的具有火山口状顶部的辅隔垫物的火山口凹陷的深度匹配。

本发明实施例中，不透光图形51的个数与需要形成在显示基板上的辅隔垫物的个数相同，且位置一一对应。当然，在本发明的其他一些实施例中，也不排除其他设置方式，例如不透光图形51的个数少于辅隔垫物的个数，只与部分辅隔垫物一一对应。

所述掩膜版50用于制作显示基板上的预设膜层图形，所述显示基板为需要形成隔垫物的显示基板。本发明实施例中，所述显示基板可以为彩膜基板，所述预设膜层图形可以为黑矩阵图形。当然，在本发明的其他一些实施例中，所述显示基板也可以是阵列基板，所述预设膜层图形为阵列基板上的膜层图形，例如钝化层等。

当本发明实施例中的显示基板为彩膜基板，预设膜层图形为黑矩阵图形时，本发明实施例中，所述掩膜版50还包括：多个全透光图形53，其中，所述全透光图形53对应所述黑矩阵图形所围的亚像素区域。所述不透光图形51和所述半透光图形52对应所述黑矩阵图形。

本发明的实施例六还提供一种显示基板的制作方法，包括：

形成预设膜层；

采用上述实施例五中的掩膜版对所述预设膜层进行构图，形成预设膜层图形，所述预设膜层图形包括对应所述不透光图形的凸起。

本发明实施例中的显示基板为需要形成隔垫物的显示基板，可以是彩膜基板，也可以是阵列基板。

本发明实施例中，通过在显示基板的预设膜层图形上形成与辅隔垫物顶部预设中部区域匹配的凸起，以使得形成在该凸起上的辅隔垫物顶部预设中部区域被抬升，从而使得辅隔垫物顶部外环区域和中部区域高度基本持平，避免辅隔垫物的顶部出现火山口，提高辅隔垫物顶部表面的平坦度，避免液晶显示面板触压相关不良。

在本发明的一些实施例中，在形成预设膜层图形之后，还包括以下步骤：

形成绝缘材料膜层；

采用半透膜型掩膜版对所述绝缘材料膜层进行构图，形成隔垫物，所述隔垫物包括主隔垫物和辅隔垫物，所述辅隔垫物顶部表面的预设中部区域在所述预设膜层图形上的正投影与所述凸起重合。

请参考图15-图19，图15-图19为本发明实施例七的显示基板的制作方法的流程示意图，该显示基板的制作方法包括：

步骤801：请参考图15，形成遮光材料膜层31’，所述遮光材料膜层为上述预设膜层；

步骤802：请参考图15，在所述遮光材料膜层31’上形成光刻胶层32；

本发明实施例中，光刻胶层32使用的正性光刻胶，经全曝光的正性光刻胶能够溶于显影液，经部分曝光的正性光刻胶能够部分溶于显影液，而未经曝光的正性光刻胶不溶于显影液。

步骤803：请参考图15，采用实施例五所示的掩膜版50对所述光刻胶层32进行曝光并显影，形成对应所述不透光图形51的光刻胶全保留区321，对应所述半透光图形52的光刻胶半保留区322和对应所述全透光图形53的光刻胶全去除区323；

步骤804：请参考图16，对所述光刻胶全去除区323的遮光材料膜层31’进行刻蚀；

步骤805：请参考图17，对所述光刻胶半保留区322的光刻胶层32进行灰化；

步骤806：请参考图18，对所述光刻胶半保留区322的遮光材料膜层31’进行刻蚀，形成包括凸起312的黑矩阵图形31；

步骤807：请参考图19，剥离所述光刻胶全保留区321的光刻胶层，露出所述黑矩阵图形31。

本发明实施例中，通过在显示基板的预设膜层图形上形成与辅隔垫物顶部预设中部区域匹配的凸起，以使得形成在该凸起上的辅隔垫物顶部预设中部区域被抬升，从而使得辅隔垫物顶部外环区域和中部区域高度基本持平，避免辅隔垫物的顶部出现火山口，提高辅隔垫物顶部表面的平坦度，避免液晶显示面板触压相关不良。

请参考图20，图20为本发明实施例八的显示基板的制作方法的示意图，该显示基板的制作方法包括：

步骤901：提供一衬底基板30；

步骤902：在衬底基板30上形成黑矩阵图形31，所述黑矩阵图形31包括凸起312；

具体形成黑矩阵图形31的方法请参见图15-19所示的实施例。

步骤903：在黑矩阵图形31所围的亚像素区域中形成色阻层图形33；

步骤904：在黑矩阵图形31和色阻层图形33上形成平坦层34，所述平坦层44在对应所述凸起312的位置形成有凸起342。

现有技术中，在形成平坦层时，通常是使得平坦层材料在黑矩阵图形31和色阻层图形33上自然流平，然后固化，本发明实施例中，为了避免黑矩阵图形31上的凸起312被平坦层34平坦化，因而，需要在形成平坦层34的过程中，加快对平坦层材料的固化，避免平坦层材料自然流平，以在平坦层34上形成对应所述凸起312的凸起342。

步骤905：在所述平坦层34上形成隔垫物，所述隔垫物包括主隔垫物351和辅隔垫物352，其中，辅隔垫物352对应凸起242设置，辅隔垫物352顶部表面的预设中部区域3522在所述平坦层34上的正投影与所述凸起342重合，当然，同时，辅隔垫物352顶部表面的预设中部区域3522在所述黑矩阵图形31上的正投影与所述凸起312重合，从而使得辅隔垫物352在对应凸起342的位置被抬升，避免形成火山口状的顶部。

本发明实施例中，采用半透膜型掩膜版40对用于形成隔垫物的绝缘材料膜层进行构图，形成隔垫物，该半透膜型掩膜版40包括对应主隔垫物351的全透光图形区域41和对应辅隔垫物352的半透光图形42。

本发明实施例中，通过在显示基板的预设膜层图形上形成与辅隔垫物顶部预设中部区域匹配的凸起，以使得形成在该凸起上的辅隔垫物顶部预设中部区域被抬升，从而使得辅隔垫物顶部外环区域和中部区域高度基本持平，避免辅隔垫物的顶部出现火山口，提高辅隔垫物顶部表面的平坦度，避免液晶显示面板触压相关不良。

上述实施例中，是以隔垫物为两段式(主隔垫物(main)/辅隔垫物(sub))隔垫物为例进行说明，在本发明的其他一些实施例中，隔垫物也可以为三段式(main/sub1/sub2)，其中，为三段式隔垫物时，sub1和sub2的高度不同，本发明实施例中的掩膜版分别包括对应sub1和sub2的半透光图形。

本发明的实施例九还提供一种显示基板，采用实施例二至实施例四任一实施例所述的显示基板的制作方法制作而成，包括：预设膜层图形，所述预设膜层图形包括环形凹槽，所述环形凹槽的形状和尺寸与需要形成在所述显示基板上的辅隔垫物顶部表面的预设外环区域的形状和尺寸匹配。

本发明实施例中，通过在显示基板的预设膜层图形上形成与辅隔垫物顶部预设外环区域匹配的环形凹槽，以使得形成在该环形凹槽上的辅隔垫物顶部预设外环区域下陷，从而使得辅隔垫物顶部外环区域和中部区域高度基本持平，提高辅隔垫物顶部表面的平坦度，避免液晶显示面板触压相关不良。

本发明实施例中，所述环形凹槽的形状为圆环状，需要形成在显示基板上的辅隔垫物为柱状隔垫物，横截面为圆形。当然，在本发明的其他一些实施例中，柱状隔垫物的横截面也不限于圆形，例如还可以为正方形、椭圆形或长方形等，对应的，所述环形凹槽的形状也为对应的环状结构。

本发明实施例中，所述环形凹槽的尺寸与对应的具有火山口状顶部的辅隔垫物的火山口的外环的尺寸匹配。

本发明实施例中，所述环形凹槽的深度与对应的具有火山口状顶部的辅隔垫物的火山口凹陷的深度匹配。

本发明实施例中，所述环形凹槽的个数与需要形成在显示基板上的辅隔垫物的个数相同，且位置一一对应。当然，在本发明的其他一些实施例中，也不排除其他设置方式，例如所述环形凹槽的个数少于辅隔垫物的个数，只与部分辅隔垫物一一对应。

在本发明的一些实施例中，所述显示基板还包括：隔垫物，所述隔垫物包括主隔垫物和辅隔垫物，所述辅隔垫物设置于对应的环形凹槽的上方，所述辅隔垫物顶部表面的预设外环区域在所述膜层图形上的正投影与所述环形凹槽重合。

在本发明的一些实施例中，所述显示基板为彩膜基板，所述预设膜层图形为黑矩阵图形。当然，在本发明的其他一些实施例中，所述显示基板也可以是阵列基板，所述预设膜层图形为阵列基板上的膜层图形，例如钝化层等。

在本发明的一些优选实施例中，所述显示基板为彩膜基板，所述预设膜层图形为黑矩阵图形。

在本发明的一些优选实施例中，所述显示基板可以如图13所示的显示基板，包括衬底基板30，黑矩阵图形31，色阻层图形33，平坦层34和隔垫物，其中，黑矩阵图形31包括环形凹槽311，平坦层34包括与环形凹槽311对应的环形凹槽341，隔垫物包括主隔垫物351和辅隔垫物352，辅隔垫物352对应环形凹槽341设置，所述辅隔垫物352顶部表面的预设外环区域3521在所述平坦层34上的正投影与所述环形凹槽341重合，同样的，所述辅隔垫物352顶部表面的预设外环区域3521在所述黑矩阵图形31上的正投影与所述环形凹槽311重合。

上述实施例中，所述环形凹槽的深度约在0.2μm左右，例如为0.15-0.25μm，优选地为0.2μm。

本发明的实施例十还提供一种显示基板，采用实施例六至实施例八任一实施例所述的显示基板的制作方法制作而成，包括：预设膜层图形，所述预设膜层图形包括凸起，所述凸起的形状和尺寸与需要形成在所述显示基板上的辅隔垫物顶部表面的预设中部区域的形状和尺寸匹配。

本发明实施例中，通过在显示基板的预设膜层图形上形成与辅隔垫物顶部预设中部区域匹配的凸起，以使得形成在该凸起上的辅隔垫物顶部预设中部区域被抬升，从而使得辅隔垫物顶部外环区域和中部区域高度基本持平，提高辅隔垫物顶部表面的平坦度，避免液晶显示面板触压相关不良。

本发明实施例中，所述凸起的形状为圆形，需要形成在显示基板上的辅隔垫物为柱状隔垫物，横截面为圆形。当然，在本发明的其他一些实施例中，柱状隔垫物的横截面也不限于圆形，例如还可以为正方形、椭圆形或长方形等，对应的。

本发明实施例中，所述凸起的尺寸与对应的具有火山口状顶部的辅隔垫物的火山口的内陷区域的尺寸匹配。

本发明实施例中，所述凸起的高度与对应的具有火山口状顶部的辅隔垫物的火山口凹陷的深度匹配。

本发明实施例中，所述凸起的个数与需要形成在显示基板上的辅隔垫物的个数相同，且位置一一对应。当然，在本发明的其他一些实施例中，也不排除其他设置方式，例如所述凸起的个数少于辅隔垫物的个数，只与部分辅隔垫物一一对应。

在本发明的一些实施例中，所述显示基板还包括：隔垫物，所述隔垫物包括主隔垫物和辅隔垫物，所述辅隔垫物设置于对应的凸起的上方，所述辅隔垫物顶部表面的预设中部区域在所述膜层图形上的正投影与所述凸起重合。

在本发明的一些实施例中，所述显示基板为彩膜基板，所述预设膜层图形为黑矩阵图形。当然，在本发明的其他一些实施例中，所述显示基板也可以是阵列基板，所述预设膜层图形为阵列基板上的膜层图形，例如钝化层等。

在本发明的一些优选实施例中，所述显示基板为彩膜基板，所述预设膜层图形为黑矩阵图形。

在本发明的一些优选实施例中，所述显示基板可以如图20所示的显示基板，包括衬底基板30，黑矩阵图形31，色阻层图形33，平坦层34和隔垫物，其中，黑矩阵图形31包括凸起312，平坦层34包括与凸起312对应的凸起342，隔垫物包括主隔垫物351和辅隔垫物352，辅隔垫物352对应凸起342设置，所述辅隔垫物352顶部表面的预设中部区域3522在所述平坦层34上的正投影与所述凸起342重合，同样的，所述辅隔垫物352顶部表面的预设中部区域3522在所述黑矩阵图形31上的正投影与所述凸起312重合。

上述实施例中，所述凸起的高度约在0.2μm左右，例如为0.15-0.25μm，优选地为0.2μm。

本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述任一实施例中的显示基板。

除非另作定义，本发明中使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。