一种紫外光刻曝光机基板清洁装置的制作方法

本实用新型涉及紫外曝光机领域，具体而言，涉及一种紫外光刻曝光机基板清洁装置。

背景技术：

紫外曝光机，也称光刻机、掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是印刷线路板(pcb)制作工艺中的重要设备。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

目前，现有的紫外光刻曝光机基板清洁装置，多为人工进行清洁，清洁效率低。

技术实现要素：

为了弥补以上不足，本实用新型提供了一种紫外光刻曝光机基板清洁装置，旨在改善紫外光刻曝光机基板清洁装置，清洁效率低的问题。

本实用新型是这样实现的：

本实用新型提供一种紫外光刻曝光机基板清洁装置，包括支架、调节机构、转动机构、升降机构和清洁机构。

调节机构固定在支架的顶面，转动机构包括伺服电机、第二固定板、第二螺纹杆和第三螺纹杆，伺服电机安装在调节机构的顶面，第二固定板固定在伺服电机的输出轴的端部，第二固定板的顶面对称开设有两个第二滑槽，第二螺纹杆和第三螺纹杆分别转动连接在第二滑槽的内部，第二螺纹杆和第三螺纹杆固定连接，第二螺纹杆和第三螺纹杆的外表面分别螺接有夹紧块，升降机构固定在支架的一侧，清洁机构包括横板、弹性件、第三固定板和毛刷，横板固定在升降机构的顶面，横板的内部对称开设有第一空腔，弹性件设置在第一空腔的内部，第三固定板固定在弹性件的底部，第三固定板的内部开设有第二空腔，第二空腔的底部开设有通孔，第三固定板的底部安装有毛刷，第二空腔的顶面连通有连接管。

在本实用新型的一种实施例中，所述支架包括底板和支撑柱，所述支撑柱固定在所述底板的顶面。

在本实用新型的一种实施例中，所述调节机构包括第一固定板、第一螺纹杆和滑块，所述第一固定板的顶面开设有第一滑槽，所述第一螺纹杆转动连接在所述第一滑槽的内部，所述滑块螺接在所述第一螺纹杆的外表面。

在本实用新型的一种实施例中，所述滑块为梯形，所述伺服电机固定在所述滑块的顶面，所述第一螺纹杆的端部贯穿所述第一滑槽，所述第一螺纹杆的端部键连接有第一转动件。

在本实用新型的一种实施例中，所述第二螺纹杆贯穿所述第二滑槽，所述第二螺纹杆的端部键连接有第二转动件。

在本实用新型的一种实施例中，所述升降机构包括连接板和电缸，所述连接板固定在所述支撑柱的外表面，所述电缸安装在所述连接板的一侧，所述横板固定在所述电缸的端部，所述连接板的顶面开设有限位槽。

在本实用新型的一种实施例中，所述连接板的一侧固定有固定板，所述电缸固定在所述固定板的顶面。

在本实用新型的一种实施例中，所述弹性件包括弹簧、活动板和固定柱，所述弹簧固定在所述第一空腔的内部，所述活动板固定在所述弹簧的另一端，所述活动板与所述第一空腔的内表面滑动连接，所述固定柱固定在所述活动板的端部，所述固定柱贯穿所述第一空腔延伸至外部，所述固定柱的端部固定在所述第三固定板的端部。

在本实用新型的一种实施例中，所述横板的一端固定有与所述限位槽相配的定位杆，所述定位杆与所述限位槽滑动连接。

在本实用新型的一种实施例中，所述第一转动件和所述第二转动件均为手轮。

本实用新型的有益效果是：本实用新型通过上述设计得到的一种紫外光刻曝光机基板清洁装置，使用时，通过第二转动件带动第二螺纹杆和第三螺纹杆进行转动，然后螺接在第二螺纹杆和第三螺纹杆外表面的夹紧块就会同时对紫外光刻曝光机基板进行夹紧固定，然后通过第一转动件带动伺服电机进行移动，使紫外光刻曝光机基板位于毛刷的下方，这时通过升降机构带动横板向下移动，使毛刷与紫外光刻曝光机基板表面紧贴，然后连接管与泵体连通，通过通孔对紫外光刻曝光机基板的表面进行喷液，这时伺服电机带动第二固定板进行旋转，通过毛刷对紫外光刻曝光机基板的表面进行清洁，这样通过转动的方式对紫外光刻曝光机基板的表面进行清洗，提高了清洗的效率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施方式的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1是本实用新型实施方式提供的紫外光刻曝光机基板清洁装置主视结构示意图；

图2为本实用新型实施方式提供的紫外光刻曝光机基板清洁装置主视剖面结构示意图；

图3为本实用新型图2中a处放大图；

图4为本实用新型实施方式提供的紫外光刻曝光机基板清洁装置滑块立体结构示意图。

图中：100-支架；110-底板；120-支撑柱；200-调节机构；210-第一固定板；220-第一滑槽；230-第一螺纹杆；240-滑块；250-第一转动件；300-转动机构；310-伺服电机；320-第二固定板；330-第二滑槽；340-第二螺纹杆；350-第三螺纹杆；360-夹紧块；370-第二转动件；400-升降机构；410-连接板；420-固定板；430-电缸；440-限位槽；500-清洁机构；510-横板；511-第一空腔；520-弹性件；521-弹簧；522-活动板；523-固定柱；530-第三固定板；540-第二空腔；550-通孔；560-毛刷；570-连接管；580-定位杆。

具体实施方式

为使本实用新型实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施方式中的附图，对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本实用新型一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。

因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

实施例

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种紫外光刻曝光机基板清洁装置，包括支架100、调节机构200、转动机构300、升降机构400和清洁机构500。

调节机构200固定在支架100的顶面，用于进行移动调节，转动机构300安装在调节机构200的顶面，用于进行转动，升降机构400固定在支架100的一侧用于进行升降调节，清洁机构500固定在升降机构400的顶面，用于对紫外光刻曝光机基板进行清洗。

请参阅图1，支架100包括底板110和支撑柱120，支撑柱120固定在底板110的顶面，底板110的为梯形设置，且底板110的内部镶嵌有配重块，便于进行支撑。

请参阅图1-图3，调节机构200固定在支架100的顶面，调节机构200包括第一固定板210、第一螺纹杆230和滑块240，第一固定板210的顶面开设有第一滑槽220，第一螺纹杆230转动连接在第一滑槽220的内部，滑块240螺接在第一螺纹杆230的外表面；滑块240为梯形，伺服电机310固定在滑块240的顶面，第一螺纹杆230的端部贯穿第一滑槽220，第一螺纹杆230的端部键连接有第一转动件250，通过第一转动件250带动第一螺纹杆230进行转动，这时螺接在第一螺纹杆230表面的滑块240就会进行来回的移动，便于对滑块240顶面顶面的伺服电机310进行来回调节。

请参阅图1-图3，转动机构300包括伺服电机310、第二固定板320、第二螺纹杆340和第三螺纹杆350，伺服电机310安装在调节机构200的顶面，第二固定板320固定在伺服电机310的输出轴的端部，第二固定板320的顶面对称开设有两个第二滑槽330，第二螺纹杆340和第三螺纹杆350分别转动连接在第二滑槽330的内部，第二螺纹杆340和第三螺纹杆350固定连接，第二螺纹杆340和第三螺纹杆350的螺纹结构为相反设置，通过相反设置的螺纹结构，可以在转动第二螺纹杆340和第三螺纹杆350时，夹紧块360会同时相对或相反移动，方便对紫外光刻曝光机基板进行夹紧或松开，第二螺纹杆340和第三螺纹杆350的外表面分别螺接有夹紧块360。

第二螺纹杆340贯穿第二滑槽330，第二螺纹杆340的端部键连接有第二转动件370，第二转动件370的设置，可以方便对第二螺纹杆340进行旋转。

请参阅图1和图2，升降机构400固定在支架100的一侧，升降机构400包括连接板410和电缸430，连接板410的一侧固定有固定板420，电缸430固定在所述固定板420的顶面，电缸430和固定板420采用螺栓安装固定，连接板410固定在支撑柱120的外表面，电缸430安装在连接板410的一侧，横板510固定在电缸430的端部，连接板410的顶面开设有限位槽440；横板510的一端固定有与限位槽440相配的定位杆580，定位杆580与限位槽440滑动连接，定位杆580的设置，可以在横板510在上升或下降的过程中更加的稳定。

请参阅图1-图3，清洁机构500包括横板510、弹性件520、第三固定板530和毛刷560，横板510固定在升降机构400的顶面，横板510的内部对称开设有第一空腔511，弹性件520设置在第一空腔511的内部，第三固定板530固定在弹性件520的底部，第三固定板530的内部开设有第二空腔540，第二空腔540的底部开设有通孔550，第三固定板530的底部安装有毛刷560，第二空腔540的顶面连通有连接管570。

弹性件520包括弹簧521、活动板522和固定柱523，弹簧521固定在第一空腔511的内部，活动板522固定在弹簧521的另一端，活动板522与第一空腔511的内表面滑动连接，固定柱523固定在活动板522的端部，固定柱523贯穿第一空腔511延伸至外部，固定柱523的端部固定在第三固定板530的端部，通过弹簧521的设置，可以在毛刷560与紫外光刻曝光机基板接触时具有一定缓冲效果，避免压力过大导致紫外光刻曝光机基板破损。

具体的，该紫外光刻曝光机基板清洁装置的工作原理：使用时，将紫外光刻曝光机基板放置到第二固定板320的表面，然后通过第二转动件370带动第二螺纹杆340和第三螺纹杆350进行转动，这时，螺接在第二螺纹杆340和第三螺纹杆350外表面的夹紧块360就会同时对紫外光刻曝光机基板进行夹紧固定，然后第一转动件250带动第一螺纹杆230进行旋转，这时螺接在第一螺纹杆230外表面的滑块240就会带动伺服电机310进行移动，使紫外光刻曝光机基板位于毛刷560的下方，这时通过电缸430工作带动横板510向上移动，使毛刷560与紫外光刻曝光机基板表面紧贴，然后连接管570与泵体连通，通过通孔550对紫外光刻曝光机基板的表面进行喷液，这时伺服电机310带动第二固定板320进行旋转，通过毛刷560对紫外光刻曝光机基板的表面进行清洁。

需要说明的是，伺服电机310和电缸430具体的型号规格需根据该装置的实际规格等进行选型确定，具体选型计算方法采用本领域现有技术，故不再详细赘述。

伺服电机310和电缸430的供电及其原理对本领域技术人员来说是清楚的，在此不予详细说明。

以上所述仅为本实用新型的优选实施方式而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改-等同替换-改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。