区域203进而影响显示效果。进一步需要说明的是，本发明实施例对于彩膜基板的平坦层设置的凹槽的位置不作具体限定，只要满足取向膜的至少一个边缘位于上述凹槽内即可。本发明实施例以及附图仅以凹槽设置在隔离区域、取向膜的两个边缘均位于上述凹槽内为例进行说明。
[0064]现提供一具体例子以说明上述彩膜基板的平坦层设置凹槽后的效果。现有技术中，取向膜的厚度范围为0.08ym-0.lum，彩膜基板的平坦层的常用厚度为
2.2 μ m-2.5 μ m，两者厚度当量相差20倍以上，若设计宽度为0.1mm的凹槽，在取向液固化形成取向膜之前，该凹槽至少可以拦截宽度为2mm的取向液。而目前小尺寸液晶显示器件的边框宽度范围仅为0.7mm-l.2mm,因此本发明可以有效阻止取向液的扩散，进而可以准确控制取向膜的边缘位置。
[0065]可选的，参考图12所示，阵列基板I包括依次设置在平坦层81和取向膜5之间的公共电极层12、绝缘层13和像素电极层14。
[0066]可选的，阵列基板的平坦层的凹槽的高度小于平坦层的厚度，即上述凹槽为部分挖空。其中，凹槽的高度的含义可以参考实施例一中的相关说明，这里不再赘述。参考图12所示，由于平坦层81和衬底100之间还可能形成栅线、数据线、薄膜晶体管等，为了保护平坦层81下方的膜层，选择上述凹槽为部分挖空，即凹槽的最大高度小于平坦层的厚度。示例的，若平坦层的厚度范围为1.6 μ m-2.8 μ m，则凹槽的最大高度的范围可以为0.5 μ m-2.5 μ m。例如，若平坦层的厚度为2.0 μ m，则凹槽的最大高度可以是1.6 μ m、
1.8 μ m 或 L 9 μ m0
[0067]这里需要说明的是，上述阵列基板的显示区域103是指用于显示的区域，封框胶区域101是指设置有封框胶4的区域，隔离区域102位于封框胶区域101和显示区域103之间，将封框胶区域101和显示区域103隔离开，避免后续设置封框胶4时，由于工艺误差使得一部分封框胶4进入到显示区域203进而影响显示效果。进一步需要说明的是，本发明实施例对于阵列基板的平坦层设置的凹槽的位置不作具体限定，只要满足取向膜的至少一个边缘位于上述凹槽内即可。本发明实施例以及附图仅以凹槽设置在隔离区域、取向膜的两个边缘均位于上述凹槽内为例进行说明。
[0068]上述阵列基板可用于形成ADS (Advanced Super Dimens1n Switch，高级超维场转换技术)型显示装置，该显示装置具有高分辨率、高透过率、低功耗、宽视角、高开口率、低色差等优点。当然，若上述阵列基板中不包括公共电极层，则该阵列基板还可用于形成TN(Twisted Nematic，扭曲向列型)型显示装置，这里不作具体限定，仅以上述阵列基板可用于形成ADS型显示装置为例进行说明。
[0069]现提供一具体例子以说明上述阵列基板的平坦层设置凹槽后的效果。现有技术中，取向膜的厚度范围为0.08 μ m-0.lum,阵列基板的平坦层的常用厚度为
1.6 μ m-2.8 μ m，两者厚度当量相差约16-35倍，若设计宽度为0.1mm的凹槽，在取向液固化形成取向膜之前，该凹槽可以拦截宽度为1.6mm-3.5mm以上的取向液。而目前小尺寸液晶显示器件的边框宽度范围仅为0.7mm-l.2mm,因此本发明可以有效阻止取向液的扩散，进而可以准确控制取向膜的边缘位置。
[0070]实施例三
[0071]本发明实施例提供了一种实施例一提供的显示基板的制作方法，该方法包括:
[0072]步骤S01、在衬底上形成平坦层，平坦层在封框胶区域和/或隔离区域形成凹槽。
[0073]需要说明的是，若平坦层在封框胶区域形成凹槽，则形成的显示基板的结构可以参考图2a所示；若平坦层在隔离区域形成凹槽，则形成的显示基板的结构可以参考图3所示；若平坦层在封框胶区域和隔离区域形成凹槽，则形成的显示基板的结构可以参考图4所示。本发明实施例对此不作限定。
[0074]进一步需要说明的是，本发明实施例对于平坦层和凹槽的制作方法不作限定。示例的，平坦层和凹槽可以通过一次构图工艺形成，一次构图工艺是将薄膜形成包含至少一个图案的层的工艺，一般包括掩膜、曝光、显影、刻蚀和剥离等工艺；当然，平坦层和凹槽还可以通过二次构图工艺形成，即先形成平坦层，再形成凹槽；这里不作具体限定，可以选择前者，以减少构图工艺次数从而降低生产成本。
[0075]步骤S02、在衬底上形成取向膜，该取向膜的至少一个边缘位于上述凹槽内。
[0076]本发明的实施例提供了一种显示基板的制作方法，通过该方法形成的显示基板包括衬底以及依次形成在衬底之上的平坦层、取向膜，显示基板还包括封框胶区域和显示区域、以及位于封框胶区域和显示区域之间的隔离区域，平坦层在封框胶区域和/或隔离区域设置有凹槽，取向膜的至少一个边缘位于该凹槽内。那么在形成取向膜时，凹槽可以容纳向外扩散的取向液，以避免取向液扩散到封框胶区域以外，进而使得取向液形成的取向膜的至少一个边缘位于该凹槽内，从而当该显示基板用于形成显示装置时，该显示装置可以改善因取向液扩散到封框胶以外导致的封框胶粘附力降低的问题。
[0077]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种显示基板，包括衬底以及依次设置在所述衬底之上的平坦层、取向膜，所述显示基板还包括显示区域和位于所述显示区域周围的封框胶区域、以及位于所述封框胶区域和所述显示区域之间的隔离区域，其特征在于，所述平坦层在所述封框胶区域和/或所述隔离区域设置有凹槽，所述取向膜的至少一个边缘位于所述凹槽内。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述封框胶区域包括两个相对的第一边缘区域，所述隔离区域包括两个相对的第二边缘区域，所述凹槽至少位于两个所述第一边缘区域或两个所述第二边缘区域。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，在所述凹槽设置在所述第一边缘区域的情况下，所述第一边缘区域包括与所述隔离区域接触的第一区域和远离所述隔离区域的第二区域，所述凹槽位于所述第一区域。4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第一区域和所述第二区域的形状均为矩形，且所述第一区域和所述第二区域的宽度相同。5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽的形状为梯台、半圆柱体或者长方体。6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽远离所述衬底的开口的宽度的范围为0.0Smm-Q.3mm。7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽的高度小于等于所述平坦层的厚度。8.—种显示装置，包括对盒的阵列基板和彩膜基板、以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶和封框胶，其特征在于，所述彩膜基板为权利要求1-7任一项所述的显示基板，和/或，所述阵列基板为权利要求1-7任一项所述的显示基板，所述封框胶位于所述彩膜基板的封框胶区域与所述阵列基板的封框胶区域之间的位置。9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述彩膜基板包括依次设置在衬底和平坦层之间的黑矩阵和彩膜层。10.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述彩膜基板的平坦层的凹槽的高度小于等于所述平坦层的厚度。11.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板包括依次设置在平坦层和取向膜之间的公共电极层、绝缘层和像素电极层。12.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板的平坦层的凹槽的高度小于所述平坦层的厚度。13.—种如权利要求1-7任一项所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括: 在衬底上形成平坦层，所述平坦层在封框胶区域和/或隔离区域形成凹槽； 在所述衬底上形成取向膜，所述取向膜的至少一个边缘位于所述凹槽内。
【专利摘要】本发明提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，包括该显示基板的显示装置可以准确控制取向膜的边缘位置，进而改善取向膜扩散到封框胶以外导致封框胶粘附力降低的问题。一种显示基板，包括衬底以及依次设置在所述衬底之上的平坦层、取向膜，所述显示基板还包括显示区域和位于所述显示区域周围的封框胶区域、以及位于所述封框胶区域和所述显示区域之间的隔离区域，所述平坦层在所述封框胶区域和/或所述隔离区域设置有凹槽，所述取向膜的至少一个边缘位于所述凹槽内。本发明适用于显示基板、以及包括该显示基板的显示装置的制作。
【IPC分类】G02F1/1337, G02F1/1339
【公开号】CN105093692
【申请号】CN201510484726
【发明人】庞鲁, 王华锋, 王磊, 韩海滨, 魏永辉
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2015年8月7日