一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置，与现有技术相比解决了吸盘定位销钉更换困难、定位衬底尺寸兼容性差的缺陷。本实用新型的滑槽A上安装有定位块组件A，滑槽B上均安装有定位块组件B，定位块组件A与定位块组件B两者结构相同；所述的定位块组件A包括定位滑块和紧定螺钉，定位滑块活动安装在滑槽A上且与滑槽A构成滑动配合，紧定螺钉安装在定位滑块上，定位滑块的上表面高于吸盘组件的上表面。本实用新型能够适用于所有标准尺寸衬底及非标衬底的吸盘定位，且定位调节更加简便。
【专利说明】
一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及激光直写曝光机技术领域，具体来说是一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置。
【背景技术】
[0002]在半导体光刻机领域中，衬底定位是光刻设备曝光前的重要工序，在设备曝光工序前，需要将衬底放置于吸盘上并定位衬底在吸盘上的位置。如果吸盘上不加定位装置，衬底在吸盘上随意放置，由于曝光设备的技术限制会极大增加机台寻找MARK的时间甚至出现无法找到MARK进行曝光的情况，因此吸盘上需设计有定位装置。传统的吸盘定位装置是按照不同的衬底尺寸在吸盘上加工销钉孔(销钉孔用于插销钉进行定位)，每种规格至少要有三个定位孔定位，因此加工衬底前，按照所要加工衬底尺寸在相应的销钉孔内插上销钉做定位。由于设备曝光焦距很小，销钉一般最多只能高于吸盘面1mm，且由于衬底规格较多，导致吸盘面上密布销钉孔以适用于不同的衬底(晶元、掩膜版)尺寸，这又带来问题就是销钉的选择中无法选用直径较大的销钉，造成了更换定位销钉时很困难，仅高出吸盘面Imm且直径很小的销钉很难取出。若如果遇到特殊规格的衬底时，则更加无法加工。如何设计出一种使用方便、规则可调的吸盘定位装置已经成为急需解决的技术问题。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是为了解决现有技术中吸盘定位销钉更换困难、定位衬底尺寸兼容性差的缺陷，提供一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置来解决上述问题。
[0004]为了实现上述目的，本实用新型的技术方案如下:
[0005]—种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置，包括吸盘组件，所述的吸盘组件上设有滑槽A和滑槽B，滑槽A和滑槽B均位于吸盘组件的半径上，滑槽A至吸盘组件圆心的延长线与滑槽B至吸盘组件圆心的延长线所形成的夹角为90度，滑槽A上安装有定位块组件A，滑槽B上均安装有定位块组件B，定位块组件A与定位块组件B两者结构相同；所述的定位块组件A包括定位滑块和紧定螺钉，定位滑块活动安装在滑槽A上且与滑槽A构成滑动配合，紧定螺钉安装在定位滑块上，定位滑块的上表面高于吸盘组件的上表面。
[0006]所述的滑槽A内设有凹槽，定位滑块的侧部设有凸起，定位滑块通过凸起安装在滑槽A的凹槽上。
[0007]还包括刻度尺，所述的刻度尺粘接在滑槽A上。
[0008]所述的定位滑块的上表面比吸盘组件的上表面高0.
[0009]有益效果
[0010]本实用新型的一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置，与现有技术相比能够适用于所有标准尺寸衬底及非标衬底的吸盘定位，且定位调节更加简便。具有结构简单、成本低廉、兼容性强的特点。
【附图说明】
[ΟΟ??]图1为本实用新型的结构不意图；
[0012]图2为本实用新型中定位块组件A的横向剖面图；
[0013]图3为本实用新型定位掩膜版时的结构示意图；
[0014]图4为本实用新型定位晶兀时的结构不意图；
[0015]其中，1-吸盘组件、2-定位滑块、3-紧定螺钉、4-刻度尺、5-滑槽A、6_滑槽B、7-凹槽、8-凸起、9-掩膜版、I O-晶元。
【具体实施方式】
[0016]为使对本实用新型的结构特征及所达成的功效有更进一步的了解与认识，用以较佳的实施例及附图配合详细的说明，说明如下:
[0017]如图1所示，本实用新型所述的一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置，包括吸盘组件I，吸盘组件I上设有气道，用于吸附衬底，在现有技术中，当需要进行定位时，吸盘组件I上两条呈90度布置的半径方向上设有两个定位螺钉，通过这两个定位螺钉进行定位，但定位螺钉的取出非常不便，更无法进行定位螺钉位置的微调，因此，本实用新型中吸盘组件I上设有滑槽Α5和滑槽Β6。滑槽Α5和滑槽Β6同样均位于吸盘组件I的半径上，滑槽Α5至吸盘组件I圆心的延长线与滑槽Β6至吸盘组件I圆心的延长线所形成的夹角为90度，即滑槽Α5和滑槽Β6两者以吸盘组件I圆心为基准呈90度布置。滑槽Α5上安装有定位块组件A，滑槽Β6上均安装有定位块组件B，定位块组件A与定位块组件B两者结构相同。定位块组件A能够在滑槽Α5上滑动定位，定位块组件B同样也能够在滑槽Β6上滑动定位，以吸盘组件I的面为平台，定位块组件A用于进行左右(横向)方向的定位，定位块组件B用于进行上下(纵向)方向的定位。
[0018]定位块组件A包括定位滑块2和紧定螺钉3，定位滑块2活动安装在滑槽Α5上且与滑槽Α5构成滑动配合，定位滑块2能够在滑槽Α5上滑动，其可以使用现有技术中的多种方式，如图2所示，可以在滑槽Α5内设有凹槽7，定位滑块2的侧部设有凸起8，定位滑块2通过凸起8安装在滑槽Α5的凹槽7上，即将凸起8安装在凹槽7内，形成定位滑块2在滑槽Α5上的限位滑动。定位块组件B则同样也是定位滑块与滑槽的配合设计。紧定螺钉3安装在定位滑块2上，对定位滑块2的滑动进行定位。定位滑块2的上表面高于吸盘组件I的上表面，从而实现能够进行定位作用，最好可以将定位滑块2的上表面设计比吸盘组件I的上表面高0.SP定位滑块2安装在滑槽A5上时，定位滑块2的上表面比吸盘组件I的上表面高0.为了方便定位数据的参数，在滑槽A5上还可以粘贴刻度尺4，这样定位滑块2移动的数值就有相应的数据参考。
[0019]在实际使用时，如图3和图4所示，当需要进行掩膜版9或晶元10(衬底)定位时，进行定位块组件A与定位块组件B的调整，将紧定螺钉3旋出，移动定位滑块2至掩膜版9或晶元10所需要的恰当位置时，再将紧定螺钉3旋入，按同样步骤调整定位块组件B的位置。定位块组件A与定位块组件B均调整完毕后，则可以进行掩膜版9或晶元10的定位工作。
[0020]以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型的范围内。本实用新型要求的保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。
【主权项】
1.一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置，包括吸盘组件(I)，其特征在于:所述的吸盘组件(I)上设有滑槽A( 5)和滑槽B(6 )，滑槽A( 5 )和滑槽B( 6)均位于吸盘组件(I)的半径上，滑槽A( 5 )至吸盘组件(I)圆心的延长线与滑槽B( 6 )至吸盘组件(I)圆心的延长线所形成的夹角为90度，滑槽A(5)上安装有定位块组件A，滑槽B(6)上均安装有定位块组件B，定位块组件A与定位块组件B两者结构相同；所述的定位块组件A包括定位滑块(2)和紧定螺钉(3)，定位滑块(2)活动安装在滑槽A(5)上且与滑槽A(5)构成滑动配合，紧定螺钉(3)安装在定位滑块(2)上，定位滑块(2)的上表面高于吸盘组件(I)的上表面。2.根据权利要求1所述的一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置，其特征在于:所述的滑槽A(5)内设有凹槽(7)，定位滑块(2)的侧部设有凸起(8)，定位滑块(2)通过凸起(8)安装在滑槽A(5)的凹槽(7)上。3.根据权利要求1所述的一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置，其特征在于:还包括刻度尺(4)，所述的刻度尺(4)粘接在滑槽A(5)上。4.根据权利要求1所述的一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置，其特征在于:所述的定位滑块(2)的上表面比吸盘组件(I)的上表面高0.
【文档编号】G03F7/20GK205539930SQ201620109029
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年2月3日
【发明人】沈显勇
【申请人】合肥亚歌半导体科技合伙企业（有限合伙）