本发明涉及复合型光瞳函数，具体涉及一种基于傅里叶-贝塞尔级数的复合型光瞳函数的非迭代设计方法。、在衍射成像理论的相关研究中，born和wolf指出，光学系统的光瞳函数可由有限区间内一组正交且完备的函数来表征，其正交完备性能够保证光瞳函数展开的唯一性，从而实现对光瞳函数的灵活调制，达到精确描...

本公开涉及在片材上形成调色剂图像的图像形成装置。、在使用电子照相系统的图像形成装置中，不仅要求产生有边距（margins）的印刷品（其中图像形成在片材的边缘上有边距的片材上），还要求产生无边距的印刷品（其中图像形成在整张片材上，而没有边距）。在无边距的印刷品中，在边缘部分的至少一部分上不提...

本发明涉及感光性树脂组合物、由其形成的图案和显示装置。、在显示领域中，感光性树脂组合物用于形成光致抗蚀剂、绝缘膜、保护膜、黑矩阵、柱状间隔物等各种各样的固化图案。具体地，感光性树脂组合物通过光刻工艺进行选择性曝光和显影而形成期望的图案，在此过程中，为了提高工序良率并改善应用对象的物性，需要...

本发明涉及光学成像设备，具体而言，涉及一种光学镜头及具有其的电子设备。、自动驾驶技术的进步推动了对汽车大灯光学镜头需求的提升，这些镜头正朝着高解像力和小型化发展。为了实现辅助驾驶功能，车辆必须具备更精确的环境感知能力，这要求大灯光学镜头具有更高的解像力和更广阔的视角。然而，现有的光学镜头解...

本申请涉及光学元件的领域，尤其涉及光学元件曝光装置及曝光方法。、体全息光栅(volume holographic grating，简称为vhg)是一种常见的光学元件，能够用于应用于彩色全息光波导显示系统。在体全息光栅的制备过程中，通常需要利用光源对全息材料进行照射，从而实现全息材料的曝光。...

本发明属于电子摄像领域，尤其涉及一种透镜驱动机构、摄像模组及电子设备。、在现有技术中，应用在手机上的微型摄像头，普遍采用大尺寸图像传感器，因其能够捕捉更多的光线、提供更丰富的细节和色彩，被广泛应用于提升手机成像质量。、为此，摄像头的对焦马达尺寸也变的更大，尤其是带有光学防抖的对焦驱动机构的...

本发明属于曝光，具体涉及一种曝光机。、曝光机是指通过开启灯光发出uva波长的紫外线，将胶片或者其他头体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备，其广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域。、现有技术中，曝光机通常通过丝杠来进行传动。当丝杠的长度较大时时，同步传动组件成本高，而且...

本发明涉及结构体、结构体模块及结构体的制造方法。、已知有在车载的后方监视器或车外的感测用途中使用的车载用相机模块、或者监视相机用的相机模块等在室外使用的传感器设备。这样的传感器设备中使用的传感器的外装透镜为了实现聚光功能而通常具有三维形状。为了避免由于来自外部的光的反射而导致可视性或画质变...

本发明有关一种用于调整投射曝光设备的至少一个传感器的方法，其包含以下步骤：a)提供用于投射曝光设备的至少一个主传感器以及至少一个光学模块，至少一个测量参考配置在该光学模块上，该主传感器被配置成检测该光学模块和/或该测量参考的定位和/或定向的变化，和/或该主传感器配置成检测该光学模块和/或该测量参考...

本发明涉及通过光刻技术来制造器件的方法。、光刻设备是将期望的图案施加至衬底上（通常施加至衬底的目标部分上）的机器。光刻设备可以用于例如集成电路（ic）的制造中。在该情况下，图案形成装置（其替代地称为掩模或掩模版）可以用以产生待形成在ic的单层上的电路图案。这种图案可以转印至衬底（例如，硅晶...

本发明涉及光刻设备的euv源的激光器的控制。实施例可以确定如何控制激光器，使得减少euv源中的光学元件的温度变化。也可以降低euv源的总功耗。、光刻设备是被构造成将期望的图案施加至衬底上的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路（ic）的制造中。光刻设备可以例如将在图案形成装置（例如，掩模）处...

本发明大体上涉及显示设备，并且在特定实施例中，涉及具有光学层的显示设备，用于通过准直光束以通过图像光学器件收集更多的光来缓解纱窗效应并提高光学效率，以及用于调整所述显示设备的方法。、在光学领域中，光学扩展量是一种光学系统中的光属性，它表征光在面积和角度上是如何“扩散”的。光学扩展量可以定义...

本公开主要涉及集成电路，并且更具体地，涉及用于建立光学邻近效应修正（opc）模型的方法、电子设备、计算机可读存储介质及计算机程序产品。、光刻是集成电路制造过程中的关键工艺。光刻工艺利用光化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将事先制备在掩模上的图案转印到衬底上。光刻工艺过程可以用光学和化学模型...

本发明涉及成像镜头的，特别是涉及一种光学镜头。、激光雷达是自动驾驶、无人机、自主机器人及航天测绘等领域的核心智能感知设备，主要通过发射激光光束照射目标物体，接收反射回波后解算目标距离、方位、姿态及轮廓等参数，实现高精度三维测距与环境感知。接收镜头（rx镜头）作为激光雷达接收端核心光学部件，...

本发明涉及液晶显示，尤其涉及一种显示模组的组装方法及显示模组。、如图所示，现有技术中的显示模组通常包括盖板玻璃、液晶面板、金属边框及背光模组。金属边框的端部设置有折边，液晶面板与背光模组均收容于金属边框内部，且液晶面板夹设于金属边框的折边与背光模组之间；折边通过固定胶与盖板玻璃粘接固定，液...

本发明涉及半导体，具体涉及一种晶圆的涂布方法、存储介质和半导体的涂胶设备。、在半导体制造行业中，光刻胶光刻工艺作为一种特殊的光刻技术，特指光刻胶涂布厚度大于μm的光刻制程，该工艺凭借其独特的厚度优势，已被广泛应用于先进封装、微机电系统（mems）以及功率器件三大核心领域。、然而，由于光刻胶...

本发明涉及增强现实和混合现实，具体为一种增强现实火灾风险评估mr眼镜。、在火灾防控与救援领域，及时获取准确的火灾风险信息对于保障人员安全、提高救援效率至关重要，传统的火灾风险评估方式存在诸多弊端，如人工勘查效率低、信息获取不全面且实时性差，随着ar和mr技术的发展，为解决这些问题提供了新的...

本发明涉及岩土工程监测，具体涉及一种基于直推安装工艺的感测光缆布设方法及系统。、分布式光纤感测技术（distributed fiber optic sensing, dofs）是一种基于光纤的连续空间感测技术，利用光纤本身作为感测介质，通过分析光在光纤中传输时的散射效应（如拉曼散射、布里渊...

本发明属于硅基光子集成与片上光互连，尤其涉及一种基于拓扑优化的双模式复用器设计方法。、随着片上光互连系统对通信容量和传输速率要求的不断提高，传统单一维度复用方式已难以满足高密度集成光通信系统的发展需求。模式复用技术能够在同一根波导中承载多个相互正交的本征模式，从而显著提升信道容量，因此受到...

本申请属于半导体制造，尤其涉及一种掩模版图优化方法、设备、介质及程序产品。、在半导体制造领域中，因光学衍射、刻蚀工艺等物理化学效应，导致光刻过程中掩模图形硅片成像的实际轮廓与设计轮廓存在偏差，若偏差超出工艺容限会影响芯片的电路功能与良率。掩模版图优化是通过各类技术对掩模版图进行针对性修正与...