专利名称：等离子体显示面板的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种等离子体面板。更具体地讲，本发明涉及一种具有能够提高亮度和亮室对比度的改善的结构的等离子体显示面板。
背景技术：
等离子体显示面板(PDP)是使用放电来形成图像的设备，并在亮度和视角上具有优良的显示性能。在这种PDP中，施加到电极上的DC或AC电压致使电极之间发生气体放电，在气体放电过程中产生的紫外线激发磷光体，从而从被激发的荧光体材料发出可见光。
根据气体放电的类型，PDP可以被分为DC型PDP或AC型PDP。DC型PDP具有所有电极暴露到放电空间中并且电荷直接在电极之间移动的结构。AC型PDP具有至少一个电极被介电层覆盖并且电荷不直接在相应电极之间移动而是通过壁电荷执行放电的结构。
作为选择，PDP可以根据电极的布置结构而被分为对向放电型PDP或表面放电型PDP。对向放电型PDP具有形成对的两个维持电极分别形成在下基底和上基底上并且放电发生在与基底垂直的方向上的结构。表面放电型PDP具有形成对的两个维持电极分别形成在同一基底上并且放电发生在与基底平行的方向上的结构。
对向放电型PDP具有高发光效率，但是也具有荧光体层容易老化的缺点。为此，目前主要使用表面放电型PDP。
图1和图2示出普通的表面放电型PDP的构造。详细地，在图2中，为了更容易理解表面放电型PDP的内部结构，只将PDP的上基底旋转了90度。
参照图1和图2，传统的PDP包彼此面对的下基底10和上基底20。
在下基底10的上表面上，多个寻址电极11以条纹结构布置。寻址电极11被第一介电层12覆盖。在第一介电层12上，多个障肋13彼此间隔预定距离地形成，从而防止放电室14之间的电串扰和光串扰。放电室14的内表面被障肋13分割并被涂覆有预定厚度的红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)荧光体层15。在放电室14内部，充满放电气体。放电气体是通常用于等离子体放电的氖(Ne)气和少量氙(Xe)气的混合气体。
上基底20是可见光可穿过的透明基底，主要由玻璃形成。上基底20与具有障肋13的下基底10结合。在上基底20的下表面上，形成对并与寻址电极11垂直交叉的维持电极21a和21b布置成条纹结构。维持电极21a和21b由如氧化铟锡(ITO)的透明导电材料形成，从而可见光可穿过维持电极21a和21b。为了减少维持电极21a和21b的线阻抗，由金属形成的汇流电极22a和22b以小于维持电极21a和21b的宽度形成在各个维持电极21a和21b的下面。这些维持电极21a和21b以及汇流电极22a和22b被第二介电层23覆盖。在第二介电层23下面，形成有保护层24。保护层24防止第二介电层23由于等离子体粒子的溅射而受到损坏，并且保护层24发射二次电子，从而降低放电电压。保护层24通常由氧化镁(MgO)形成。同时，多个黑条纹30平行于维持电极21a和21b并彼此间隔预定的距离地形成在上基底20的上表面上，以防止光从外部进入面板。
如上构造的传统的PDP的操作通常分为寻址放电操作和维持放电操作。寻址放电操作发生在寻址电极11和维持电极21a和21b中任一个之间，并且在寻址放电过程中，形成壁电荷。由于位于形成壁电荷的放电室14中的维持电极21a和21b之间的电势差而发生维持放电。在维持放电过程中，与放电室相应的荧光体层15被放电气体产生的紫外线激发，从而发射可见光。当可见光通过上基底20时，形成用户可得到的图像。
发明内容
技术问题然而，在如上构造的传统PDP中，当外部处于明亮条件下，即，在亮室条件下，外部光被引入放电室14，从而引入的光与放电室14产生的光叠加。结果，亮室对比度降低，因此PDP的显示性能降低。
技术方案本发明提供一种能够通过改善上基底的结构来增强亮度和亮室对比度的PDP。
有益效果根据本发明实施例的PDP具有下述效果第一，光入射表面的面积大于光出射表面的面积的各个光导件形成在上表面上，从而可将由放电产生的可见光的损失减少，从而增强面板的亮度。
第二，由于外部光遮蔽构件形成在光导件之间，所以可防止外部光进入到放电室中，从而增强亮室对比度。
第三，由于光导件制作为宽度小于几十微米，所以可以在XGA或SXGA级别的分辨率中采用这样的光导件，从而，能够实现高清晰度图像
图1是传统的PDP的局部剖面透视图。
图2是示出图1的PDP的内部结构的截面图。
图3是根据本发明的实施例的PDP的局部剖面透视图。
图4是示出图3的PDP的内部结构的截面图。
图5是图3的PDP的变型的截面图。
图6是示出图3的PDP的另一变型的截面图。
图7是根据本发明的另一实施例的PDP的局部剖面透视图。
图8是示出图7的PDP的内部结构的截面图。
图9是示出图7的PDP的变型的截面图。
图10是根据本发明的又一实施例的PDP的局部剖面透视图。
图11和图12是图10的PDP的内部结构的截面图。
最佳实施方式根据本发明的一方面，提供了一种等离子体显示面板。该等离子体显示面板包括下基底和上基底，彼此隔开预定距离以在它们之间限定多个放电室；多个障肋，置于所述下基底和上基底之间；多个寻址电极，相互平行地形成在所述下基底的上表面上；多个放电电极，在与所述寻址电极交叉的方向上形成在所述上基底的下表面上；荧光体层，形成在所述放电室的内壁上，其中所述上基底包括多个光导件，所述光导件与所述多个寻址电极平行地形成，用于聚焦并输出由放电室通过放电产生的可见光，所述光导件的光入射表面的面积大于其光出射表面的面积。
每个光导件可以与每个放电室对应地形成。作为选择，可以是至少两个光导件与每个放电室对应地形成。每个光导件与两个或更多放电室对应地形成。在这种情况下，优选地，每个光导件与三个放电室对应地形成，所述三个放电室形成一个单位像素。
优选地，上基底包括形成在光导件之间的外部光遮蔽构件，用于防止外部光进入到放电室中。外部光遮蔽构件可包括用于屏蔽电磁干扰(EMI)的导电膜。
此外，优选地，可用防眩(non-glare)材料来处理光导件的出射表面。
障肋可与寻址电极平行地形成。
作为选择，多个汇流电极可形成在放电电极的下表面上。
第一介电层可形成在下基底的上表面上，以覆盖寻址电极。第二介电层可形成在上基底的下表面上，以覆盖放电电极。在这种情况下，优选地，在第二介电层的下表面上形成保护层。
根据本发明的另一方面，提供了一种等离子体显示面板。该等离子体显示面板包括下基底和上基底，彼此隔开预定的距离以在它们之间限定多个放电室；多个障肋，置于所述下基底和上基底之间；多个寻址电极，彼此平行地形成在所述下基底的上表面上；多个放电电极，在与寻址电极交叉的方向上形成在所述上基底的下表面上；荧光体层，形成在所述放电室的内壁上，其中，所述上基底包括多个导光件，所述导光件形成在与多个寻址电极垂直的方向上，用于会聚并输出由放电室通过放电形成的可见光，所述光导件的光入射表面的面积大于其光出射表面的面积。
每个光导件可与每个放电室对应地形成。作为选择，可以是至少两个光导件与每个放电室对应地形成。
根据本发明的另一方面，提供了一种等离子体显示面板。该等离子体显示面板包括下基底和上基底，彼此隔开预定的距离，以在它们之间限定多个放电室；多个障肋，置于所述下基底和上基底之间；多个寻址电极，相互平行地形成在所述下基底的上表面上；多个放电电极，在与寻址电极交叉的方向上形成在所述上基底的下表面上；荧光体层，形成在所述放电室的内壁上，其中，所述上基底包括多个光导件，所述光导件与每个放电室对应地形成，以会聚和输出由放电室通过放电产生的可见光，所述光导件的光入射表面的面积大于其光出射表面的面积。
光导件可为圆锥形或棱锥形。此外，优选地，上基底包括形成在光导件之间的外部光遮蔽构件，用于防止外部光进入放电室。
发明的实施例方式现在，将参照附图更全面地描述本发明，在附图中示出了本发明的示例性实施例。
图3是根据本发明的实施例的PDP的局部剖面透视图。图4是示出图3的PDP的内部结构的截面图。
参照图3和图4，PDP包括彼此隔开预定距离的下基底110和上基底130。其中发生等离子体放电的多个放电室形成在下基底110和上基底130之间。
下基底110优选地由玻璃基底形成。多个寻址电极彼此平行地以条纹结构形成在下基底110的上表面上。形成第一介电层112以覆盖寻址电极111和下基底110。第一介电层112可以通过将介电材料沉积预定厚度来形成，介电材料优选为白色介电材料。
多个障肋113形成在第一介电层112的上表面上，与寻址电极111平行，并与寻址电极111隔开预定距离。障肋113分隔下基底110和上基底130之间的放电空间，从而限定放电室114。此外，障肋113起到防止相邻放电室114之间的电串扰和光串扰的作用，从而增强色纯度。在第一介电层112的上表面上以及形成放电室114的内壁的障肋113的侧表面上形成预定厚度的红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)荧光体层115。优选地，通过由等离子体放电产生的紫外线来激发荧光体层115，从而发出具有预定颜色的可见光。放电气体充满放电室114的内部。优选地，放电气体为氖(Ne)气和少量的氙(Xe)气的混合物，该混合气体通常用于等离子体放电。
上基底130包括多个光导件131，所述光导件131与多个寻址电极111平行地形成，用于会聚并输出通过放电产生的可见光。每个光导件131与每个放电室114对应地形成。每个光导件131被设计为反射来自其表面的光，并使入射到光入射表面131a的光通过光出射表面131b射出。光导件131具有光入射表面131a，该光入射表面131a的面积最好大于光出射表面131b的面积，从而会聚并输出在放电室114中产生的可见光。通过在上基底130上设置具有上述构造的光导件131，可减少通过放电产生的可见光的损失，从而增强面板的亮度。此外，由于光导件131可以被制造为宽度小于几十微米，所以光导件131可以被用于XGA或SXGA级别的分辨率，从而能够实现高清晰度图像。
优选地，对光导件131的光出射表面131b进行防眩处理，以防止当外部光被光导件131的光出射表面131b反射时产生的耀眼现象。
上基底包括外部光遮蔽构件132，所述外部光遮蔽构件132与寻址电极111平行，并形成在光导件131之间，用于防止外部光进入放电室114。由于外部光遮蔽构件132形成在上基底130上除了可见光出射所通过的区域之外的区域上，所以与传统技术相比，可以更有效地防止外部光进入到放电室114中，从而能够增强亮室对比度。外部光遮蔽构件132可以包括导电膜，用于屏蔽电磁干扰(EMI)。
用于维持放电的第一放电电极121a和第二放电电极121b在与寻址电极111垂直的方向上形成在上基底130的下表面上。优选地，第一放电电极121a和第二放电电极121b由透明导电材料如氧化铟锡(ITO)制成，从而可透射放电室114中产生的可见光。优选地用金属材料在第一放电电极121a和第二放电电极121b的下表面上形成第一汇流电极122a和第二汇流电极122b。第一汇流电极122a和第二汇流电极122b用于减小第一放电电极121a和第二放电电极121b的线阻抗，并且优选地，第一汇流电极122a和第二汇流电极122b的宽度比第一放电电极121a和第二放电电极121b的宽度窄。
第二介电层123形成在上基底130的下表面上，从而覆盖第一放电电极121a和第二放电电极121b以及第一汇流电极122a和第二汇流电极122b。优选地，可以通过在上基底130的下表面上将透明介电材料沉积预定厚度来形成第二介电层123。
保护层124形成在第二介电层123的下表面上。保护层124起到防止第二介电层123以及第一放电电极121a和第二放电电极121b由于等离子体粒子的溅射而受到破坏，并发射二次电子，从而降低放电电压。优选地，保护层124可以通过在第二介电层123的下表面上将介电材料如氧化镁(MgO)沉积预定厚度来形成。
在如上构造的PDP中，当寻址放电发生在寻址电极111和第一放电电极121a和第二放电电极121b中的任一个之间时，壁电荷形成。然后，当AC电压施加到第一放电电极121a和第二放电电极121b上时，维持放电发生在其中形成壁电荷的放电室114中。维持放电从放电气体产生紫外线，产生的紫外线激发荧光体层115，从而产生可见光。
每个放电室114中产生的可见光被光导件131会聚到上基底130的上表面，然后漫射并发射到外面。因此，可以减少放电室114中产生的可见光的损失，从而增强PDP的亮度。
此外，由于外部光遮蔽构件132设置在光导件131之间，所以可以有效地防止外部光进入到放电室114中，从而增强亮室对比度。
图5是示出图3和图4的PDP的变型的截面图。参照图5，用于会聚并输出放电室114中产生的可见光的两个光导件231′和231″与一个放电室114对应地形成，并与寻址电极111平行。各光导件231′和231”具有光入射表面231′a和231″a，所述光入射表面231′a和231″a的面积大于光出射表面231′b和231″b的面积。尽管图5所表示和描述的是对应于一个放电室114形成两个光导件231′和231″，但是，对应于一个放电室114可形成三个或更多光导件。优选地，光导件231′和231″的光出射表面231′b和231″b被防眩处理。因此，如果对应于一个放电室形成两个或更多光导件，则可减少放电室中产生的可见光的损失，并且可增强光的完整性(integrity)，从而进一步增强面板的亮度。
用于防止外部光进入放电室114的外部光遮蔽构件232形成在光导件231′和231″之间。因此，与前一实施例相比，外部光遮蔽构件232可在上基底230上形成在更宽的区域内，从而面板的亮室对比度被进一步增强。外部光遮蔽构件232可以包括用于屏蔽电磁干扰(EMI)的导电膜。
图6是示出图3和图4的PDP的另一实施例的截面图。参照图6，每个光导件331对应于两个或更多个放电室114形成在上基底330上。每个光导件331具有光入射表面331a，所述光入射表面331a的面积大于光出射表面331b的面积。优选地，每个光导件331与一个像素对应地形成。换句话说，优选地，每个光导件331与红色(R)荧光层115R、绿色(G)荧光层115G和蓝色(B)荧光层115B形成在其中的三个放电室对应地形成。每个光导件331会聚并输出从红色(R)荧光层115R、绿色(G)荧光层115G和蓝色(B)荧光层115B形成在其中的三个放电室114产生的可见光。光导件331的光出射表面331b最好经过防眩处理。因此，如果每个光导件331与一个像素对应地形成，可增强面板的亮度，还可增强光导件331的处理，从而可制造低价格的面板。
此外，用于防止外部光进入放电室114的外部光遮蔽构件332形成在光导件331之间。此外，外部光遮蔽构件332可包括用于屏蔽电磁干扰(EMI)的导电膜。
图7是根据本发明另一实施例的PDP的局部剖面透视图，图8是示出图7的PDP的内部结构的截面图。
参照图7和图8，下基底210和上基底430彼此隔开预定距离，多个放电室214形成在下基底210和上基底430之间。优选地，多个寻址电极211和第一介电层212顺次形成在下基底210的上表面上。多个障肋213形成在第一介电层212的上表面上，与寻址电极211平行并隔开预定距离。荧光体层215沉积在第一介电层212的上表面以及形成放电室214的内壁的障肋213的侧表面上。放电室214充满放电气体。
与上述描述的实施例不同，上基底430包括形成在与寻址电极垂直的方向上的用于会聚并输出通过放电产生的可见光的多个光导件431。每个光导件431对应于每个放电室214而形成。每个光导件431被设计为反射来自其表面的光，以使入射到光入射表面431a的光通过光出射表面431b射出。光导件431具有光入射表面431a，该光入射表面431a的面积大于光出射表面431b的面积，从而会聚并输出放电室214中产生的可见光。通过在上基底430上设置具有上述构造的光导件431，可减少通过放电产生的可见光的损失，从而增强面板的亮度。
光导件431的光出射表面431b最好经过防眩处理，以防止当外部光被光导件431的光出射表面431b反射时产生的耀眼现象。
上基底430包括在与寻址电极211垂直的方向上形成在光导件431之间的外部光遮蔽构件432，用于防止外部光进入放电室214。由于外部光遮蔽构件432，可以更有效地防止外部光进入放电室214，从而能够增强亮室对比度。外部光遮蔽构件432可包括用于屏蔽电磁干扰(EMI)的导电膜。
用于维持放电的第一放电电极221a和第二放电电极221b形成在与寻址电极211垂直的方向上。此外，在第一放电电极221a和第二放电电极221b上用金属材料形成第一汇流电极222a和第二汇流电极222b。
第二介电层223形成在上基底430的下表面上，以覆盖第一放电电极221a和第二放电电极221b以及第一汇流电极222a和第二汇流电极222b。保护层224形成在第二介电层223的下表面上。
图9是示出图7和图8的PDP的变型的截面图。参照图9，在与寻址电极211垂直的方向上，对应于一个放电室214形成用于会聚并输出放电室214中产生的可见光的两个光导件531′和531″。各光导件531′和531″具有光入射表面531′a和531″a，所述光入射表面531′a和531″a的面积大于光出射表面531′b和532″b。尽管图9中示出的是对应于一个放电室214形成两个光导件531′和531″，但是，也可以与图9不同，对应于一个放电室214可形成三个或更多光导件。优选地，光导件531′和531″的光出射表面531′b和532″b经过防眩处理。因此，如果对应于一个放电室形成两个或更多光导件，则可减少放电室中产生的可见光的损失，并且也可增强光的完整性，从而进一步增强面板的亮度。
此外，用于防止外部光进入放电室214的外部光遮蔽构件532形成在光导件531′和531″之间。因此，可进一步增强面板的亮室对比度。外部光遮蔽构件532可包括用于屏蔽电磁干扰(EMI)的导电膜。
图10是根据本发明的另一实施例的PDP的局部剖面透视图，图11和12是示出图10的PDP的内部结构的截面图。
参照图10至图12，下基底310和上基底630彼此隔开预定距离，多个放电室314形成在下基底310和上基底630之间。多个寻址电极311和第一介电层312顺次形成在下基底310的上表面上。多个障肋313平行于寻址电极311形成在第一介电层312的上表面上。荧光体层315沉积在第一介电层312的上表面以及形成放电室314的内壁的障肋313的侧表面上。放电气体充满放电室314的内部。
上基底630包括与各个放电室314对应形成的多个光导件631，用于会聚并输出通过放电产生的可见光。每个光导件631被设计为反射来自其表面的光，以使入射到入射表面631a的光通过光出射表面631b射出。此外，每个光导件631的光入射表面631a的面积大于光出射表面631b的面积。在这种情况下，每个光导件631可形成为圆锥形、棱锥形或其他各种形状。光导件631会聚放电室314中产生的可见光，并将会聚的可见光输出到外部，从而可减少可见光的损失，进而增强面板的亮度。优选地，光导件631的光出射表面631b被防眩处理。
上基底630还包括形成在光导件631之间的外部光遮蔽构件632，用于防止外部光进入到放电室314。与前一实施例相比，在本实施例中，由于外部光遮蔽构件632可以形成在上基底630上的更宽的区域中，所以面板的亮室对比度被进一步增强。外部光遮蔽构件632可包括用于屏蔽电磁干扰(EMI)的导电膜。
优选地，用于维持放电的第一放电电极321a和第二放电电极321b在与寻址电极311垂直的方向上形成在上基底630的下表面上。此外，在第一放电电极321a和第二放电电极321b的下表面上用金属材料形成第一汇流电极322a和第二汇流电极322b。
第二介电层323形成在上基底630的下表面上，以覆盖第一放电电极321a和第二放电电极321b以及第一汇流电极322a和第二汇流电极322b。保护层324形成在第二介电层323的下表面上。
虽然已经参照本发明的示例性的实施例详细表示和描述了本发明，但是，本领域的普通技术人员应该理解，在不脱离由权利要求限定的本发明的精神和范围的情况下，可在其中作出形式和细节上的各种改变。
产业上的可利用性本发明适用于等离子体显示面板。
权利要求
1.一种等离子体显示面板，包括下基底和上基底，彼此隔开预定的距离，以在它们之间限定多个放电室；多个障肋，置于所述下基底和上基底之间；多个寻址电极，相互平行地形成在所述下基底的上表面上；多个放电电极，在与所述寻址电极交叉的方向上形成在所述上基底的下表面上；荧光体层，形成在所述放电室的内壁上，其中，所述上基底包括多个光导件，所述光导件与所述多个寻址电极或所述多个放电室对应地形成，用于会聚并输出由放电室通过放电形成的可见光，所述光导件的光入射表面的面积大于其光出射表面的面积。
2.如权利要求1所述的等离子体显示面板，其中，每个所述光导件与每个所述放电室对应地形成。
3.如权利要求1所述的等离子体显示面板，其中，至少两个光导件与每个所述放电室对应地形成。
4.如权利要求1所述的等离子体显示面板，其中，每个所述光导件与两个或更多所述放电室对应地形成。
5.如权利要求4所述的等离子体显示面板，其中，每个所述光导件与三个所述放电室对应地形成，其中，所述三个放电室形成一个单位像素。
6.如权利要求1所述的等离子体显示面板，其中，所述上基底包括形成在所述光导件之间的外部光遮蔽构件，用于防止外部光进入所述放电室。
7.如权利要求6所述的等离子体显示面板，其中，所述外部光遮蔽构件包括用于屏蔽电磁干扰的导电膜。
8.如权利要求1所述的等离子体显示面板，其中，所述光导件的所述光出射表面经过防眩处理。
9.如权利要求1所述的等离子体显示面板，其中，所述障肋与所述寻址电极平行地形成。
10.如权利要求1所述的等离子体显示面板，其中，多个汇流电极形成在所述放电电极的下表面上。
11.如权利要求1所述的等离子体显示面板，其中，第一介电层形成在所述下基底的上表面上，以覆盖所述寻址电极。
12.如权利要求11所述的等离子体显示面板，其中，第二介电层形成在所述上基底的下表面上，以覆盖所述放电电极。
13.如权利要求12所述的等离子体显示面板，其中，保护层形成在所述第二介电层的下表面上。
14.如权利要求1所述的等离子体显示面板，其中，所述多个光导件与所述多个寻址电极平行地形成。
15.如权利要求1所述的等离子体显示面板，其中，所述多个光导件形成在与所述多个寻址电极垂直的方向上。
16.如权利要求1所述的等离子体显示面板，其中，所述光导件为圆锥形或棱锥形。
全文摘要
本发明公开了一种等离子体显示面板。该等离子体显示面板包括下基底和上基底，彼此隔开预定的距离，以在它们之间限定多个放电室；多个障肋，置于所述下基底和上基底之间；多个寻址电极，相互平行地形成在所述下基底的上表面上；多个放电电极，在与所述寻址电极交叉的方向上形成在所述上基底的下表面上；荧光体层，形成在所述放电室的内壁上，其中，所述上基底包括多个光导件，所述光导件与所述多个寻址电极平行地形成，用于会聚并输出由放电室通过放电形成的可见光，所述光导件具有光入射表面。
文档编号H01J11/22GK1820344SQ200580000643
公开日2006年8月16日 申请日期2005年4月21日 优先权日2004年4月27日
发明者洪昌完, 朴永浚, 金荣善, 韩英洙, 闵钟述 申请人:三星电子株式会社