专利名称：一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种等离子化学气相沉积装置，尤其是一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置。
本实用新型的目的是这样实现的它包括上封头、沉积室中段、下封头，以及设置在主机柜内的升降机、罗茨泵、机械泵，其中在所述的主机柜的上部设置有沉积室中段，沉积室中段带有上封头和下封头，在上封头和下封头内部分别设有上层上极板和下层下极板，在沉积室中段内部分别与上层上极板和下层下极板对应设有上层下极板和下层上极板，在沉积室中段上设有观察窗，所述的下封头的底部通过蝶阀和管道连接有罗茨泵和机械泵。
所述的上封头与安装在主机柜壳体上的升降机连接，所述的沉积室中段与安装在主机柜壳体上的升降杆连接。
所述的主机柜的上部设置有至少一层沉积室中段。
所述的沉积室中段内部至少设有一对上下极板。
所述的沉积室中段上至少设有一个观察窗。
所述的沉积室中段通过法兰与上封头和下封头连接。
所述的沉积室中段，其直径为1000毫米-5000毫米之间，其高度为1000毫米-5000毫米之间。
所述的法兰的直径为1000毫米-5000毫米之间。
所述的主机柜设有柜门。
由于本实用新型采用了上述结构，与现有技术相比具有以下优点首先，立式多层沉积室的设计，能较好的解决立式钟罩沉积装置加工面积小的问题；其次，采用同直径法兰密封的立式多层设备，其加工量可达到原立式钟罩设备加工面积的1倍至数倍(每增加一层即可增加一倍)，便于大规模产业化生产；另外，多层沉积室的设计，较好的解决了直径越大、产量越大、无效空间比例越大的问题，可充分利用沉积室空间，每增加一层，就可提高一倍的产量，却不增加无效空间，使有效空间随层数的增加而增加；由于充分利用了沉积室的空间，成倍的提高了产量，可最大限度的减少能源和原料的浪费，因而使加工成本大幅度的降低，立式双层沉积设备加工产品的成本，比同直径单层钟罩式设备加工产品成本低30％；由于采用立式多层沉积室的设计，使设备制造成本成倍下降，1台立式双层沉积室的设备，是2台同直径单层钟罩式设备的产量，而设备制造成本，仅相当于1.5台同直径钟罩式设备；所以本实用新型的装置与现有技术比具有产量大、占地面积小、设备空间利用率高、单件加工成本低，结构简单、操作方便、自动化程度高，便于大规模产业化生产。
图1是本实用新型的结构示意图。
图中1.上封头；2.上层上极板；3.法兰；4.上层下极板；5.下层上极板；6.观察窗；7.下层下极板；8.升降机；9.蝶阀；10.罗茨泵；11.机械泵；12.升降杆；13.主机柜；14.沉积室中段；15.下封头；16.柜门。
上封头1与安装在主机柜13壳体上的升降机8连接，沉积室中段14与安装在主机柜13壳体上的升降杆12连接，这样可以通过升降机8和升降杆12把上封头盖和沉积室中段14开启和关闭。
沉积室通过其上端的通管接头及流量计与气瓶连接，气瓶内装有用于沉积的陶瓷气体。沉积室的上极板的极端通过导线和隔直流电容与高频电源连接。下极板的极端通过导线与高频电源的地线共接对地。此为现有技术，不在赘述。
此主机结构可与相应的电脑控制系统连接，其真空、温度、工作气体的流量、射频电源的功率等价格9参数均由电脑自动控制。沉积室中段14的直径在1000毫米-5000毫米之间，其高度在1000毫米-5000毫米之间，工作空间大，能较好的解决立式钟罩式沉积装置加工面积小的问题。法兰3的直径也在1000毫米-5000毫米之间，这样采用同直径法兰密封的立式多层设备，其加工量可达到原立式钟罩式设备加工面积的1倍至数倍(每增加一层沉积室中段14即可增加1倍)，便于大规模产业化生产，同时降低设备加工成本和产品加工成本。
权利要求1.一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，包括上封头(1)、沉积室中段(14)、下封头(15)，以及设置在主机柜(13)内的升降机(8)、罗茨泵(10)、机械泵(11)，其特征是在所述的主机柜(13)的上部设置有沉积室中段(14)，沉积室中段(14)带有上封头(1)和下封头(15)，在上封头(1)和下封头(15)内部分别设有上层上极板(2)和下层下极板(7)，在沉积室中段(14)内部分别与上层上极板(2)和下层下极板(7)对应设有上层下极板(4)和下层上极板(5)，在沉积室中段(14)上设有观察窗(6)，所述的下封头(15)的底部通过蝶阀(9)和管道连接有罗茨泵(10)和机械泵(11)。
2.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是所述的上封头(1)与安装在主机柜(13)壳体上的升降机(8)连接，所述的沉积室中段(14)与安装在主机柜(13)壳体上的升降杆(12)连接。
3.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是所述的主机柜(13)的上部设置有至少一层沉积室中段(14)。
4.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是所述的沉积室中段(14)内部至少设有一对上下极板。
5.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是所述的沉积室中段(14)上至少设有一个观察窗(6)。
6.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是所述的沉积室中段(14)通过法兰(3)与上封头(1)和下封头(15)连接。
7.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是所述的沉积室中段(14)，其直径为1000毫米-5000毫米之间，其高度为1000毫米-5000毫米之间。
8.根据权利要求6所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是所述的法兰(3)的直径为1000毫米-5000毫米之间。
9.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是所述的主机柜(13)设有柜门(16)。
专利摘要本实用新型公开了大型数控立式多层陶瓷薄膜沉积装置，主要由上封头、沉积室中段、下封头，以及设置在主机柜内的升降机、罗茨泵、机械泵，其中在主机柜的上部设置有沉积室中段，沉积室中段带有上封头和下封头，在上封头和下封头内部分别设有上层上极板和下层下极板，在沉积室中段内部分别与上层上极板和下层下极板对应设有上层下极板和下层上极板，在沉积室中段上设有观察窗。下封头的底部通过蝶阀和管道连接有罗茨泵和机械泵。立式多层沉积室的设计，能较好的解决立式钟罩沉积装置加工面积小的问题，采用同直径法兰密封的立式多层设备，其加工量可达到原立式钟罩设备加工面积的1倍至数倍，便于大规模产业化生产。
文档编号C23C16/30GK2536599SQ0224021
公开日2003年2月19日 申请日期2002年6月11日 优先权日2002年6月11日
发明者吕建治, 朱纪伍 申请人:吕建治, 朱纪伍