专利名称：多工位斜面磨抛机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种水钻(人造钻石)的斜面进行磨抛加工的一种多工位斜面磨 抛机。
背景技术：
水钻即人造钻石，它是饰品、鞋类、工艺品等的重要配套材料，拥有巨大的市场。水 钻磨抛加工流程是先对水钻球坯进行(前)半球斜面磨抛，将水钻球坯的一半球加工成棱 锥形状，再对其进行(后)半球斜面磨抛，将水钻球坯的另一半球也加工成棱锥形状，这样 完成斜面加工后再对其进行端面磨抛加工成钻石外形。现有的多工位水钻斜面磨抛机大都采用四工位机形式，即采用磨削工位、一次抛 光工位、二次抛光工位和上下料空位。但是在实际生产中，各工位加工或者操作所需的时间 不同，磨削工位、一次抛光工位和二次抛光工位所用时间基本相同(一般为20s左右)，而 上、下料操作时间较长(一般为40s左右)，因此，四工位机形式将上、下料操作设置在同一 个工位上完成就导致了其他工位具有较长的等待时间，无法保证设备的充分利用，加工效 率低。
发明内容为了解决上述的技术问题，本实用新型的目的是提供一种多工位斜面磨抛机，将 上、下料操作设置在两个独立工位上完成，避免其他磨抛工位在加工完成后产生等待，提高 设备利用率和加工效率。为了达到上述的目的，本实用新型采用了以下的技术方案一种多工位斜面磨抛机，包括机架，所述机架上设有旋转架，旋转架上设有多个机 头，机头上设置水钻夹具，所述机架上设有与所述的多个机头相对应的上料工位、磨削工 位、抛光工位和下料工位，所述磨削工位上设有磨削机构，所述抛光工位上设有抛光机构。上述抛光工位包括一次抛光工位和二次抛光工位。上述磨削工位和抛光工位上可以是采用磨抛平盘机构，也可以是采用磨抛辊机 构。对于磨抛盘机构，可以采用CN2825203Y的专利文献公开的结构，并且在进行平盘 磨抛时为了均勻磨抛需要使水钻坯料相对于磨抛盘左右平动，一般是采用整个旋转架带动 机头及水钻夹具一并摆动，这就导致在机台进行磨抛加工的同时无法进行上、下料操作，大 大降低了加工效率，因此，发明人提出了另一种技术方案上述旋转架上设有机头座，所述 机头与机头座水平滑动连接并通过驱动装置往复运动，上述驱动装置为推动气缸，这样，每 个独立的机头可以进行前后或者左右平动，而上、下料操作不再受到其他工位磨抛加工的 影响，提高了加工效率。此外，作为优选，上述机头上铰接有夹具固定板，夹具固定板上固定 水钻夹具，所述机头上设置有驱动夹具固定板转动的驱动装置，所述驱动装置为转动气缸; 这样，节省了夹具固定板的升降机构，节省成本。[0010]对于磨抛辊机构，可以采用公开号为CN101269472A的专利文献公开的结构，并 且，因为抛辊可以通过驱动机构自身平动，所以旋转架上就可以不设置在磨抛时使机头产 生平动的机构。上述方案中，上料工位和下料工位并不一定要采样人工上、下料操作，优选采用自 动上、下料操作，即所述上料工位上设有自动上料机构，所述下料工位上设有自动下料机 构。本实用新型由于采用了以上的技术方案，将上、下料操作分别设置在两个独立工 位上完成，避免其他磨抛工位在加工完成后进行上、下料操作时产生等待，提高设备利用率 和加工效率。
图1是本实用新型的结构示意图。图2是本实用新型的机头结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式
做一个详细的说明。实施例1 如图1所示一种多工位斜面磨抛机，包括机架1，所述机架1上设有旋转架2，旋转 架2上设有多个机头3，机头3上设置水钻夹具10，所述机架1上设有与所述的5个机头3 相对应的上料工位4、磨削工位5、抛光工位和下料工位8，所述磨削工位5上设有磨削机构， 所述抛光工位上设有抛光机构。本实施例中，上述抛光工位包括一次抛光工位6和二次抛光工位7 ；所述磨削机构 和抛盘机构采用磨抛盘机构；如图2所示，所述旋转架2上设有机头座13，所述机头3与机 头座13水平滑动连接并通过驱动装置往复运动，所述驱动装置为推动气缸12 ；所述机头3 上铰接有夹具固定板9，夹具固定板9上固定水钻夹具10，所述机头3上设置有驱动夹具固 定板9转动的驱动装置，所述驱动装置为转动气缸11，其中，气缸11的气缸座与铰接在机头 3上，气缸11的活塞杆与夹具固定板9上端铰接；所述上料工位4上设有自动上料机构，所 述下料工位8上设有自动下料机构。此外，各机构的具体设置可以参见CN201179615Y的专 利文献。实施例2:一种多工位斜面磨抛机，包括机架1，所述机架1上设有旋转架2，旋转架2上设有 多个机头3，机头3上设置水钻夹具10，所述机架1上设有与所述的5个机头3相对应的上 料工位4、磨削工位5、一次抛光工位6、二次抛光工位7和下料工位8，所述磨削工位5上设 有磨削机构，所述抛光工位上设有抛光机构，其中，所述磨削机构和抛盘机构采用磨抛辊机 构。各机构的具体设置可以参见公开号为CN101269472A和CN201179615Y的专利文献。上述实施例虽然给出的是五工位机形式，但是，本实用新型的技术方案并不限于 上述优选特例，只要是采用了至少一个磨削工位、至少一个抛光工位、至少一个上料工位和 至少一个下料工位，就是落入本实用新型的保护范围。
权利要求一种多工位斜面磨抛机，包括机架(1)，所述机架(1)上设有旋转架(2)，旋转架(2)上设有多个机头(3)，机头(3)上设置水钻夹具(10)，其特征在于，所述机架(1)上设有与所述的多个机头(3)相对应的上料工位(4)、磨削工位(5)、抛光工位和下料工位(8)，所述磨削工位(5)上设有磨削机构，所述抛光工位上设有抛光机构。
2.根据权利要求1所述的一种多工位斜面磨抛机，其特征在于，所述抛光工位包括一 次抛光工位(6)和二次抛光工位(7)。
3.根据权利要求2所述的一种多工位斜面磨抛机，其特征在于，所述磨削机构和抛光 机构采用磨抛盘机构。
4.根据权利要求3所述的一种多工位斜面磨抛机，其特征在于，所述旋转架(2)上设有 机头座(13)，所述机头(3)与机头座(13)水平滑动连接并通过驱动装置往复运动。
5.根据权利要求4所述的一种多工位斜面磨抛机，其特征在于，所述驱动装置为推动 气缸(12)。
6.根据权利要求3所述的一种多工位斜面磨抛机，其特征在于，所述机头(3)上铰接有 夹具固定板(9)，夹具固定板(9)上固定水钻夹具(10)，所述机头(3)上设置有驱动夹具固 定板(9)转动的驱动装置。
7.根据权利要求6所述的一种多工位斜面磨抛机，其特征在于，所述驱动装置为转动 气缸(11)。
8.根据权利要求2所述的一种多工位斜面磨抛机，其特征在于，所述磨削机构和抛盘 机构采用磨抛辊机构。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的一种多工位斜面磨抛机，其特征在于，所述上料 工位(4)上设有自动上料机构，所述下料工位(8)上设有自动下料机构。
专利摘要本实用新型涉及一种多工位斜面磨抛机，包括机架，所述机架上设有旋转架，旋转架上设有多个机头，机头上设置水钻夹具，所述机架上设有与所述的多个机头相对应的上料工位、磨削工位、抛光工位和下料工位，所述磨削工位上设有磨削机构，所述抛光工位上设有抛光机构。本技术方案将上、下料操作分别设置在两个独立工位上完成，避免其他磨抛工位在加工完成后进行上、下料操作时产生等待，提高设备利用率和加工效率。
文档编号B24B9/16GK201596950SQ201020049948
公开日2010年10月6日 申请日期2010年1月18日 优先权日2010年1月18日
发明者虞卫东 申请人:浙江名媛工艺饰品有限公司