专利名称：掩模对位装置及其对位方法
技术领域：
本发明涉及一种掩模对位装置及其对位方法，属于有机电致发光元件的制造领域。
背景技术：
有机电致发光元件(OLED)因其视角广、成本低、制造工艺简单、分辨率高及自备发光等特点，备受关注，并被视为使下一代的平面显示器新兴应用技术。在制造有机电致发光元件的真空蒸镀装置方面，在底部设置盛放有机材料的坩埚，在坩埚的外面设置使用有机材料加热、蒸发的加热器。在蒸镀装置中，设置与坩埚相对配置的夹头以及包夹玻璃基板的绝缘部件而使该基板安装保持在夹头的底面的基板夹具。掩模组件包括掩模板及掩模框架，夹头是用于维持玻璃基板为平面状的平板，在基板夹中设置升降机构，并在升降机构上设有夹具，通过夹具固定掩模框架，使其相对于基板的位置偏差控制在一定范围内，具有局限性。升降夹具，使掩模组件靠近基板。而且在制造有机发光元件时，在基板上，每IOum宽度的像素必须将红、绿、蓝的发光部并列，各像素的位置精度必须为±5um的程度；有由于蒸镀过程中，温度不断升高，受板材受热膨胀的影响，掩 模组件会相对于基板产生位置偏差，因此对真空蒸镀装置掩模的位置精度要求很高。掩模组件上蒸镀设备时是通过掩模板上的定位点与基板进行对位，由于掩模框架的位置调试范围存在局限性，掩模板又焊接在掩模框架上，使得仅仅通过掩模板定位点与基板进行对位无法满足位置进度要求，必须保证掩模板与掩模框架的位置偏差也要控制在一定范围内。而目前在蒸镀用掩模板的制造领域，掩模板的组装设备无法做到掩模板与掩模框架高效、高精度对位。
发明内容
本发明提供一种掩模对位装置及相关对位方法，能够使掩模板与掩模框架精确对位，并使其位置偏差控制在± 15 μ m内。针对以上问题，本发明提出以下方案:
一种掩模对位装置，用于对位掩模板和掩模框架，其特征在于:包括基台、销钉、拉动装置，所述掩模板、所述掩模框架、所述销钉和所述拉动装置均位于基台上，所述掩模板和所述掩模框架上分别具有对位孔，所述销钉可以通过所述拉动装置微调其位置。所述掩模板上的对位孔形状与所述掩模框架上的对位孔形状相同、数量相等、大小相等。优选的，所述对位孔可以是方孔、圆弧孔等形状，所述掩模板和所述掩模框架上的对位孔至少为两个。所述基台的内边缘位于所述掩模框架的内边缘里侧。所述销钉可以在所述掩模框架的外边框长度范围内的任意位置，所述销钉的个数至少为三个。当所述掩模框架一边中的销钉为一个时，销钉位于掩模框架该边的中间位置。当所述掩模框架一边中的销钉为两个时，两个销钉关于掩模框架该边的中点对称。优选的，所述掩模框架外边框上至少有两条边有销钉。一种掩模对位方法，其特征在于，使用上述掩模对位装置实现。所述掩模对位方法，其特征在于，步骤包括:将掩模框架放于对位基台上，使其侧面与销钉相接触；将掩模板水平放置在掩模框架上，保证二者紧密贴合；通过CCD准确捕捉掩模板及掩模框架上的对位孔；通过装置自带软件读出相对应的对位孔的最大偏差值；若差值超出± 15 μ m,调整销钉；再次用CO) (Charge-coupled Device,电荷f禹合元件)捕捉掩模板及掩模框架上的对位孔，读取两组对位孔之间相对偏差值；重复读取两组对位孔的偏差值，直至控制在± 15 μ m。本发明的对位装置及配套的对位方法能够使掩模板与掩模框架精确对位，并使其位置偏差控制在± 15 μ m。
下面结合附图对本发明的具体实施方式
作进一步详细的说明。图1掩模对位装置的结构示意图。其中:1、2为掩模框架对位孔；3为掩模框架；4为对位基台；5、6、7均为销钉。图2为掩模对位装置的俯视图。图3为掩模板与掩模框架对位不意图。其中:11为掩模板；12为掩模板开口 ；13、14为掩模板对位孔。图4为对位孔的偏差示意图。其中:13、14为掩模板对位孔；1、2为掩模框架对位孔；L为I与13的最大位置偏差，2与14的最大位置偏差与此相同。 图5为掩模对位方法的流程图。
具体实施方式
实施例图1、图3和图4所示将掩模框架3放于对位基台4上，使其侧面与销钉5、6、7相接触；再将掩模板11水平放置在掩模框架3上，保证二者紧密贴合；通过CCD准确捕捉掩模板及掩模框架3上的对位孔13、14和对位孔1、2 ;通过装置自带软件读出相应的两对两孔对位孔I和13、以及2和14的最大偏差值L，即过圆心做直线，两孔同侧边缘在该直线上的距离；若差值超出±15 μ m，调整销钉然后再用CXD捕捉掩模板及掩模框架上的相应的对位孔I和13、以及2和14，再次读取两组对位孔之间相对偏差值L ;像这样重复微调读取，直至L控制在±15μπι。以上实施例目的在于说明本发明，而非限制本发明的保护范围，所有在不违背本发明精神原则的条件下做 出的简单变换均落入本发明的保护范围内。
权利要求
1.一种掩模对位装置，用于对位掩模板和掩模框架，其特征在于:包括基台、销钉、拉动装置，所述掩模板、所述掩模框架、所述销钉和所述拉动装置均位于基台上，所述掩模板和所述掩模框架上分别具有对位孔，所述销钉可以通过所述拉动装置微调其位置。
2.根据权利要求1所述的掩模对位装置，其特征在于，所述掩模板上的对位孔形状与所述掩模框架上的对位孔形状相同、数量相等、大小相等。
3.根据权利要求2所述的掩模对位装置，其特征在于，所述对位孔可以是方孔、圆弧孔等形状。
4.根据权利要求1或2所述的掩模对位装置，其特征在于，所述掩模板和所述掩模框架上的对位孔至少为两个。
5.根据权利要求1所述的掩模对位装置，其特征在于，所述基台的内边缘位于所述掩模框架的内边缘里侧。
6.根据权利要求1所述的掩模对位装置，其特征在于，所述销钉可以在所述掩模框架的外边框长度范围内的任意位置，所述销钉的个数至少为三个。
7.根据权利要求6所述的掩模对位装置，其特征在于，当所述掩模框架一边中的销钉为一个时，销钉位于掩模框架该边的中间位置。
8.根据权利要求6所述的掩模对位装置，其特征在于，当所述掩模框架一边中的销钉为两个时，两个销钉关于掩模框架该边的中点对称。
9.根据权利要求1所述的掩模对位装置，其特征在于，所述掩模框架外边框上至少有两条边有销钉。
10.一种掩模对位方法，其特征在于，使用上述掩模对位装置实现。
11.根据权利要求9所述的掩模对位方法，其特征在于，步骤包括:将掩模框架放于对位基台上，使其侧面与销钉相接触；将掩模板水平放置在掩模框架上，保证二者紧密贴合；通过CCD准确捕捉掩模板及掩模框架上的对位孔；通过装置自带软件读出相对应的对位孔的最大偏差值；若差值超出± 15 ym，调整销钉；再次用CCD捕捉掩模板及掩模框架上的对位孔，读取两组对位孔之间相对偏差值；重复读取两组对位孔的偏差值，直至控制在± 15 u m0
全文摘要
本发明涉及一种掩模对位装置及其对位方法，掩模框架3放于对位基台4上，使其侧面与销钉5、6、7相接触；再将掩模板11水平放置在掩模框架3上，保证二者紧密贴合；通过CCD准确捕捉掩模板11及掩模框架3上的对位孔13、14和对位孔1、2；通过装置自带软件读出两孔对位孔1与13、2与14的最大偏差值L；若差值超出±15μm，调整销钉然后再用CCD捕捉掩模板及掩模框架上的对位孔1和13、以及2和14，再次读取两组对位孔之间相对偏差值L；像这样重复微调读取，直至L控制在±15μm。本发明能够使掩模板与掩模框架精确对位，并使其位置偏差控制在±15μm内。
文档编号C23C14/24GK103205694SQ201210010748
公开日2013年7月17日 申请日期2012年1月16日 优先权日2012年1月16日
发明者魏志凌, 高小平, 郑庆靓 申请人:昆山允升吉光电科技有限公司