专利名称：易于去除辅助图形的掩模板的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种掩模板，具体涉及该种掩模板易于剥离的间隔带的制作方法。
背景技术：
有机EL显示面板具有由通过附加电压而发光的低分子有机EL (OrganicElectro-Luminescence :0EL,有机发光电子板)材料形成的有机发光层,有机EL显示面板一般通过下述方式制造在透明基板上形成透明电极层；在该透明电极层上形成由低分子 有机EL材料形成的有机发光层；在该有机发光层上形成金属电极层。在该有机EL显示面板的制造工序中，在透明电极层上形成有机发光层通常采用具有规定图案的多个细微通孔的蒸镀金属掩模，并将低分子有机EL材料蒸镀于基板上。这种有机电致发光显示器包括有机电致发光装置，有机电致发光装置具有分别堆叠在基底上的阳极、有机材料层和阴极。有机材料层包括有机发射层，有机发射层由于复合空穴和电子得到的激光而发光。此外，为了将空穴和电子平稳的传输到发射层并提高发射效率，电子注入层和电子传输层可设置在阴极和有机发射层之间，空穴注入层和空穴传输层可设置在阳极和有机发射层之间。通常，可通过诸如真空沉积、离子电镀、溅射等物理气相沉积法和采用气象反应的化学气相沉积法来制造具有这种构造的有机电致发光装置。当通过这些方法来制造有机电致发光装置时，需要具有预定图案的掩模以在正确的位置堆叠有机材料层。由于传统工艺中，将掩模板固定在掩模框架上时掩模受外向拉力，因此要在掩模板的边料设计辅助图形用以施加拉力，最后要将固定后的掩模板的边料去除裁剪。目前一般是用剪刀进行裁减，但裁减的边存在不齐整、外观不美观的问题，对于一些通过掩模板外边框进行对位的情况，外边框的不平整必会导致对位时的位置偏差。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种易于去除辅助图形的掩模板及其制作方法，可以解决现有技术中掩模板外边框存在不齐整、外观不美观的问题，并且在去除辅助图形时，不需要其他辅助工具，就能成功的将辅助图形从主图形区域剥离，且剥离质量高；剥离后的掩模板外边框对位时不会导致位置偏差。针对以上技术问题，本实用新型提出以下技术方案一种用于蒸镀工艺的掩模板，包括主图形区域，主图形区域具有满足蒸镀要求的开口，主图形开口尺寸在30-180 μ m的范围内；辅助图形区域，用于提供拉力的施力点；其特征在于，掩模板还包括间隔带，间隔带一边连接主图形区域，一边连接辅助图形。连接主图形区域的间隔带边缘由至少一个向主图形区域缩进的非水平线段及至少一个水平线段组成。优选的，向主图形区域缩进的非水平线段为半月形或凹形。优选的，蒸镀用掩膜板的厚度为10-200 μπι。更优选的，所述蒸镀用掩膜板的厚度为大于等于ΙΟμπκ小于30μπι。优选的，该掩模板的材料是镍铁合金或纯镍。优选的，连接辅助图形区域的间隔带边缘为水平线段。所述间隔带由至少一个连接实桥及至少一个镂空图形组成，其中，连接实桥连接主图形区域与辅助图形区域，间隔带中除了连接实桥的地方镂空；所述连接实桥平面为梯 形，其上底的长度短于下底。优选的，所述梯形连接实桥，其上底与主图形区域相连，下底与辅助图形区域相连。优选的，连接实桥连接主图形区域的一端处于向主图形区域缩进的非水平线段内，尺寸为O. 05mm-0. Imm ;连接实桥连接辅助图形区域的一端尺寸为O. lmm-0. 3mm。所述连接实桥之间间隔为3mm-5mm。所述间隔带线径在O. 5mm-2mm的范围内。一种掩模板的制作方法，其特征在于，利用单面蚀刻、双面蚀刻、电铸或电铸加蚀刻工艺，在掩膜板上形成间隔带的镂空图形。本实用新型所涉及的掩模板及其制作方法，由于间隔带一边连接主图形区域，一边连接辅助图形，且间隔带由至少一个连接实桥及至少一个镂空图形组成，因此在去除辅助图形时，不需要其他辅助工具，就能成功的将辅助图形从主图形区域剥离，且剥离质量高；剥离后的掩模板外边框边缘整齐光滑无毛刺，外边框对位时不会导致位置偏差。
以下结合附图
对本实用新型的具体实施方式
作进一步详细的说明。图I为传统的掩模板。其中I为辅助图形区域的绷网孔；2为主图形区域的开口 ；3为辅助图形区域；4为主图形区域；5为剪刀裁剪边缘。图2为本实用新型实施例中的掩模板。其中11为主图形区域；22为间隔带；33为辅助图形区域；44为主图形区域开口 ；55为辅助图形区域绷网孔。图3为第一种实施例中间隔带的局部放大图。其中111为半月形线段，即间隔带与主图形区域交界处；222为水平线段；333为梯形连接实桥；444为镂空图形；555为间隔带与辅助图形交界处；666为梯形连接实桥上底；777为梯形连接实桥下底；888_主图形区域；999_辅助图形区域。图4为第二种实施例中间隔带的局部放大图。其中112为凹形线段，即间隔带与主图形区域交界处；222为水平线段；333为梯形连接实桥；444为镂空图形；555为间隔带与辅助图形区域的交界处。
具体实施方式
[0031]实施例I图2所示的用于蒸镀工艺的掩模板，包括主图形区域11，主图形区域具有满足蒸镀要求的开口 44，主图形开口尺寸在30-180 μπι的范围内；辅助图形区域33，用于提供拉力的施力点；间隔带22，间隔带一边连接主图形区域11，一边连接辅助图形33。蒸镀用掩膜板的厚度为10-200 μ m。优选蒸镀用掩膜板的厚度为大于等于10 μ m、小于30 μ m。图3所示的连接主图形区域11的间隔带22边缘由至少一个向主图形区域缩进的半月形线段111及至少一个水平线段222组成；连接辅助图形区域33的间隔带边缘为水平线段。所述间隔带22由至少一个连接实桥333及至少一个镂空图形444组成，其中，连接实桥连接主图形区域11与辅助图形区域33，间隔带22中除了连接实桥333的地方镂空444 ;所述连接实桥平面为梯形，其上底666的长度短于下底777。
所述梯形连接实桥333的上底666与主图形区域11相连，下底777与辅助图形区域33相连。连接实桥333连接主图形区域11的一端处于向主图形区域缩进的半月形线段内，尺寸为O. 05mm ;连接实桥连接辅助图形区域的一端尺寸为O. Imm ;所述连接实桥之间间隔为3mm ;所述间隔带线径为O. 5mm。实施例2图4所示的连接主图形区域11的间隔带22边缘由至少一个向主图形区域缩进的凹形线段112及至少一个水平线段222组成；连接辅助图形区域33的间隔带边缘为水平线段。所述间隔带22由至少一个连接实桥333及至少一个镂空图形444组成，其中，连接实桥连接主图形区域11与辅助图形区域33，间隔带22中除了连接实桥333的地方镂空444 ；所述连接实桥平面为梯形，其上底666的长度短于下底777。所述梯形连接实桥的上底与主图形区域相连，下底与辅助图形区域相连。所述梯形连接实桥333的上底666与主图形区域11相连，下底777与辅助图形区域33相连。连接实桥333连接主图形区域的一端处于向主图形区域缩进的凹形线段内，尺寸为O. Imm ;连接实桥连接辅助图形区域的一端尺寸为O. 3mm ;连接实桥之间间隔为5mm ;间隔带线径为2mm。以上实施例目的在于说明本实用新型，而非限制本实用新型的保护范围，所有在不违背本实用新型精神原则的条件下做出的简单变换均落入本实用新型的保护范围内。
权利要求1.一种易于去除辅助图形的掩模板，包括主图形区域，主图形区域具有满足蒸镀要求的开口，主图形开口尺寸在30-180 μπι的范围内；辅助图形区域，用于提供拉力的施力点；其特征在于，掩模板还包括间隔带，间隔带一边连接主图形区域，一边连接辅助图形。
2.根据权利要求I所述的易于去除辅助图形的掩模板，其特征在于，连接主图形区域的间隔带边缘由至少一个向主图形区域缩进的非水平线段及至少一个水平线段组成。
3.根据权利要求2所述的易于去除辅助图形的掩模板，其特征在于，向主图形区域缩进的非水平线段为半月形或凹形。
4.根据权利要求I所述的易于去除辅助图形的掩模板，其特征在于，连接辅助图形区域的间隔带边缘为水平线段。
5.根据权利要求I所述的易于去除辅助图形的掩模板，其特征在于，该蒸镀用掩膜板的厚度为10-200 μ m。
6.根据权利要求5所述的易于去除辅助图形的掩模板，其特征在于，所述蒸镀用掩膜板的厚度为大于等于10 μ m且小于30 μ m。
7.根据权利要求I所述的易于去除辅助图形的掩模板，其特征在于，该掩模板的材料是镍铁合金或纯镍。
8.根据权利要求I所述的易于去除辅助图形的掩模板，其特征在于，所述间隔带由至少一个连接实桥及至少一个镂空图形组成，其中，连接实桥连接主图形区域与辅助图形区域，间隔带中除了连接实桥的地方镂空。
9.根据权利要求8所述的易于去除辅助图形的掩模板，其特征在于，所述连接实桥平面为梯形，其上底的长度短于下底。
10.根据权利要求9所述的易于去除辅助图形的掩模板，其特征在于，所述梯形连接实桥，其上底与主图形区域相连，下底与辅助图形区域相连。
11.根据权利要求8、9或10所述的易于去除辅助图形的掩模板，其特征在于，连接实桥连接主图形区域的一端处于向主图形区域缩进的非水平线段内，尺寸为O. 05mm-0. Imm ;连接实桥连接辅助图形区域的一端尺寸为O. lmm-0. 3_。
12.根据权利要求8、9或10所述的易于去除辅助图形的掩模板，其特征在于，所述连接实桥之间间隔为3mm-5mm。
13.根据权利要求I所述的易于去除辅助图形的掩模板，其特征在于，所述间隔带线径在O. 5mm-2mm的范围内。
专利摘要本实用新型涉及一种易于去除辅助图形的掩模板，在去除辅助图形时，不需要其他辅助工具，就能成功的将辅助图形从主图形区域剥离，且剥离质量高；剥离后的掩模板外边框边缘整齐光滑无毛刺，外边框对位时不会导致位置偏差。掩模板包括主图形区域、辅助图形区域和间隔带，间隔带一边连接主图形区域，一边连接辅助图形；连接主图形区域的间隔带边缘由至少一个向主图形区域缩进的非水平线段及至少一个水平线段组成；连接辅助图形区域的间隔带边缘为水平线段；间隔带由至少一个连接实桥及至少一个镂空图形组成，连接实桥连接主图形区域与辅助图形区域，间隔带中除了连接实桥的地方镂空。
文档编号C23C14/04GK202688416SQ201220017089
公开日2013年1月23日 申请日期2012年1月16日 优先权日2012年1月16日
发明者魏志凌, 高小平, 孙倩, 郑庆靓 申请人:昆山允升吉光电科技有限公司