信息记录介质用玻璃基板的制造方法和信息记录介质的制作方法
【专利摘要】在将玻璃基板(1)的直径设为Dmm、并将从载具(500)的中心位置(C1)至第1贯穿保持孔(520C)的中心位置(C2)的距离设为rmm的情况下，载具(500)的第1贯穿保持孔(520C)的中心位置(C2)被设置在满足[(D/4)≤r≤(D/2)]的关系式的位置处。
【专利说明】信息记录介质用玻璃基板的制造方法和信息记录介质
【技术领域】
[0001]本发明涉及信息记录介质用玻璃基板的制造方法和信息记录介质，特别是涉及在信息记录介质的制造中使用的信息记录介质用玻璃基板的制造方法、和具备该信息记录介质用玻璃基板的信息记录介质。
【背景技术】
[0002]磁盘等信息记录介质作为硬盘被搭载于计算机等。信息记录介质是在基板的表面上形成包含记录层的磁薄膜层来制造的，所述记录层利用了磁、光、或者光磁等的性质。记录层通过磁头被磁化，由此将规定的信息记录于信息记录介质中。
[0003]信息记录介质逐年在不断提高记录密度。与此相伴，对于信息记录介质所使用的基板的质量，也要求高质量。作为信息记录介质用的基板，一直以来使用铝基板，但是，随着记录密度的提高，正在逐渐替换为基板表面的平滑性和强度比铝基板优异的玻璃基板。
[0004]在信息记录介质用的玻璃基板的制造方法中，具有用于确保较高的表面形状精度的磨削工序/研磨工序。为了实现玻璃基板的高精度的形状品质，采用了将加工处理能力不同的浆料以及磨削/研磨垫有效地组合起来的、2个阶段以上的磨削/研磨工序。例如在日本特开2007-015105号公报(专利文献I)中公开有以往的与玻璃基板的制造相关的技术。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1:日本特开2007-015105号公报
【发明内容】
[0008]发明要解决的课题
[0009]对于作为信息记录介质使用的玻璃基板，一般将多个玻璃基板保持于载具(carrier)上设置的贯穿保持孔，进行玻璃基板的磨削/研磨。近年来，为了削减成本，存在这样的趋势:增加在磨削/研磨中使用的每一个载具上的玻璃基板数。
[0010]另外，为了提高每一个玻璃基板的记录密度，甚至将玻璃基板的至外周侧的端面附近的区域都用作信息记录区域，因此，玻璃基板的外周侧端面的形状精加工精度也要求较高的精度。
[0011]如果针对载具以最密的方式设置贯穿保持孔，则在载具的中心位置附近也放置有玻璃基板。如果将玻璃基板配置于载具的中心，则在研磨工序中驱动双面研磨装置时，配置在中心的玻璃基板集中通过处于研磨垫的平台内周附近和平台外周附近中间的区域(以下，称作中间带区域。)的相同位置。
[0012]玻璃基板集中通过研磨垫的相同位置这一情况使得在研磨工序中，在研磨垫上的、玻璃基板通过的部分产生研磨垫的不均匀磨损，从而导致研磨垫的中间带区域处的研磨垫的硬度降低。
[0013]如果平台的中间带区域处的研磨垫的硬度降低，则在玻璃基板通过硬度降低后的区域时，玻璃基板倾斜并沉降，从而玻璃基板的端面形状变得不均匀。
[0014]本发明是鉴于上述课题而完成的，提供一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法和信息记录介质，在使用了双面研磨装置的研磨工序中，能够抑制在平台的研磨垫上产生硬度不均匀的区域。
[0015]用于解决问题的手段
[0016]在基于本发明的信息记录介质用玻璃基板的制造方法中，所述信息记录介质在圆盘形状的玻璃基板的主表面上形成有磁薄膜层，在所述信息记录介质用玻璃基板的制造方法中，具有表面研磨工序，在该表面研磨工序中，利用具备行星齿轮机构的双面研磨装置，一边供给研磨剂一边研磨上述玻璃基板的主表面。
[0017]上述双面研磨装置具备:上平台，其位于上述玻璃基板的上侧，且在该上平台的上述玻璃基板侧具有上侧研磨垫；下平台，其位于上述玻璃基板的下侧，且在该下平台的上述玻璃基板侧具有下侧研磨垫；以及圆盘状的载具，其设有多个保持上述玻璃基板的贯穿保持孔，上述载具被上述上侧研磨垫和上述下侧研磨垫夹着，并且通过上述行星齿轮机构进行规定的旋转运动。
[0018]上述贯穿保持孔具有:被配置在上述载具的中心位置附近的一个第I贯穿保持孔；和围绕上述第I贯穿保持孔呈环状地配置的多个第2贯穿保持孔。
[0019]在将上述玻璃基板的直径设为Dmm、并将从上述载具的中心位置至上述第I贯穿保持孔的中心位置的距离设为rmm的情况下，上述第I贯穿保持孔的中心位置被设置在满足[(D/4) ^ (D/2)]的关系式的位置处。
[0020]在另一方式中，在上述载具的、比围绕上述第I贯穿保持孔呈环状地配置的上述第2贯穿保持孔靠上述载具的半径方向内侧的位置处，还具有直径比上述贯穿保持孔小的辅助贯穿孔。
[0021]在基于本发明的信息记录介质中具备:玻璃基板，其是通过上述任意一个方式所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法得到的；和磁薄膜层，其形成在上述玻璃基板的主表面上。
[0022]发明效果
[0023]根据本发明，能够提供一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法和信息记录介质，在使用了双面研磨装置的研磨工序中，能够抑制在平台的研磨垫上产生硬度不均匀的区域。
【专利附图】
【附图说明】
[0024]图1是示出通过实施方式中的玻璃基板的制造方法所得到的玻璃基板的立体图。
[0025]图2是示出具备通过实施方式中的玻璃基板的制造方法所得到的玻璃基板的磁盘的立体图。
[0026]图3是示出实施方式中的玻璃基板的制造方法的流程图。
[0027]图4是在研磨工序中使用的双面研磨装置的局部立体图。
[0028]图5是示出实施方式中的载具的俯视图。
[0029]图6是示出实施方式中的载具的尺寸关系的俯视图。
[0030]图7是玻璃基板的俯视图。
[0031]图8是示出参考技术中的载具的俯视图。
[0032]图9是参考技术中的下侧研磨垫的俯视图。
[0033]图10是示出另一实施方式中的载具的俯视图。
[0034]图11是示出实施例1-2、比较例1-2的评价结果的图。
【具体实施方式】
[0035]下面，参照附图，对基于本发明的实施方式和实施例进行说明。在实施方式和实施例的说明中，在提及个数、量等的情况下，除了有特别记载的情况外，本发明的范围并不一定限定于该个数、量等。在实施方式和实施例的说明中，存在这样的情况:对于同一部件和相应的部件，标注相同的参考标号，且不反复进行重复的说明。
[0036][玻璃基板/磁盘10]
[0037]参照图1和图2，首先，对通过基于本实施方式的信息记录介质用玻璃基板的制造方法所得到的玻璃基板1、和具备玻璃基板I的磁盘10进行说明。图1是示出在磁盘10(参照图2)中使用的玻璃基板I的立体图。图2是示出作为信息记录介质的、具备玻璃基板I的磁盘10的立体图。
[0038]如图1所示，在磁盘10中使用的玻璃基板I (信息记录介质用玻璃基板)呈在中心形成有孔IH的环状的圆板形状。圆盘形状的玻璃基板I具有正面主表面1A、背面主表面1B、内周端面IC和外周端面1D。
[0039]玻璃基板I的大小没有特别限制，例如，外径是0.8英寸、1.0英寸、1.8英寸、2.5英寸或者3.5英寸等。从防止破损的观点出发，玻璃基板I的厚度例如为0.30_?2.2_。本实施方式中的玻璃基板I的大小是:外径为大约65mm,内径为大约20mm,厚度为大约
0.8_。玻璃基板I的厚度是通过在玻璃基板I上的点对称的任意多个点处测量的值的平均而计算出的值。
[0040]如图2所示，在磁盘10中，在上述的玻璃基板I的正面主表面IA上形成有磁性膜，从而形成包含磁记录层的磁薄膜层2。在图2中，仅在正面主表面IA上形成有磁薄膜层2，但也可以在背面主表面IB上形成有磁薄膜层2。
[0041]磁薄膜层2是通过将分散有磁性粒子的热硬化性树脂旋涂于玻璃基板I的正面主表面IA上而形成的(旋涂法)。磁薄膜层2也可以通过溅射法、或化学镀法等形成于玻璃基板I的正面主表面IA。
[0042]关于在玻璃基板I的正面主表面IA上形成的磁薄膜层2的膜厚，在旋涂法的情况下为大约0.3 μ m?大约1.2 μ m,在派射法的情况下为大约0.04 μ m?大约0.08 μ m,在化学镀法的情况下为大约0.05 μ m?大约0.1 μ m。从薄膜化和高密度化的观点出发，优选通过溅射法或化学镀法来形成磁薄膜层2。
[0043]作为用于磁薄膜层2的磁性材料，没有特别限定，可以使用以往公知的磁性材料，但是，为了得到高保持力，以晶态各向异性性较高的Co为基础、并以调整残留磁通密度为目的而加入了 Ni或Cr的Co类合金等比较合适。另外，作为适用于热辅助记录的磁性层材料，可以采用FePt类的材料。
[0044]此外，为了提高磁记录头的光滑度，可以在磁薄膜层2的表面薄薄地涂覆润滑剂。作为润滑剂，例如可举出用氟利昂类等的溶剂稀释作为液体润滑剂的全氟聚醚(PFPE)而得到的润滑剂。
[0045]而且，也可以根据需要设置基底层或保护层。磁盘10中的基底层根据磁性膜来选择。作为基底层的材料，例如可举出从Cr、Mo、Ta、T1、W、V、B、Al或Ni等非磁性金属中选出的至少一种以上的材料。
[0046]另外，基底层不限于单层，也可以设为层叠相同种类或不同种类的层而成的多层结构。例如，可以设为 Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、NiAl/Cr、NiAl/CrMo 或 NiAl/CrV 等多层基底层。
[0047]作为防止磁薄膜层2的磨损和腐蚀的保护层，例如可举出Cr层、Cr合金层、碳层、氢化碳层、氧化锆层或二氧化硅层等。这些保护层能够与基底层、磁性膜等一起，利用直列式溅射装置来连续地形成。另外，这些保护层可以设为单层，或者设为由相同种类或不同种类的层构成的多层结构。
[0048]可以在上述保护层上形成其它保护层，或者替代上述保护层而形成其它保护层。例如，可以替代上述保护层，而在Cr层上，用酒精类的溶剂稀释四烷氧基硅烷的过程中，分散地涂覆胶体二氧化硅微粒并进行烧结，形成氧化硅(S12)层。
[0049][玻璃基板的制造方法]
[0050]接下来，利用图3所示的流程图，对本实施方式中的信息记录介质用玻璃基板(以下，简单称作玻璃基板。)的制造方法进行说明。图3是示出实施方式中的玻璃基板I的制造方法的流程图。
[0051]本实施方式中的玻璃基板的制造方法具备玻璃坯料准备工序(步骤S10)、玻璃基板形成工序(步骤S20)、磨削/研磨工序(步骤S30)、化学强化工序(步骤S40)、和清洗工序(步骤S50)。可以对经过化学强化处理工序(步骤S40)得到的玻璃基板(相当于图1中的玻璃基板I)实施磁薄膜形成工序(步骤S60)。通过磁薄膜形成工序(步骤S60)，可以得到作为信息记录介质的磁盘10。
[0052]以下，在对这各个步骤SlO?S60的详细情况依次进行说明的下述内容中，未记载在各步骤SlO?S60之间适当地进行的简易清洗。
[0053](玻璃坯料准备工序)
[0054]在玻璃坯料准备工序(步骤S10)中，使得待构成玻璃基板的玻璃材料熔融(步骤Sll)。玻璃材料例如采用通常的铝硅酸盐玻璃。铝硅酸盐玻璃含有58%质量百分比?75%质量百分比的Si02、5 %质量百分比?23 %质量百分比的A1203、3 %质量百分比?10 %质量百分比的Li20、4%质量百分比?13%质量百分比的Na2O作为主要成分。熔融的玻璃材料在流入下模上后，通过上模和下模进行冲压成型(步骤S12)。通过冲压成型形成了圆盘状的玻璃坯料(玻璃母材)。
[0055]玻璃坯料可以利用磨削磨具切出通过下拉(down draw)法或浮法形成的片状玻璃(板状玻璃)而形成。另外，玻璃材料不限于铝硅酸盐玻璃，可以是任意的材料。
[0056](玻璃基板形成工序)
[0057]接下来，在玻璃基板形成工序(步骤S20)中，以提高尺寸精度和形状精度为目的，对冲压成型而成的玻璃坯料的两方的主表面实施第I摩擦工序(步骤S21)。玻璃坯料的两方的主表面是指经过后述的各处理而成为图1中的正面主表面IA的主表面、和成为背面主表面IB的主表面(以下，称作两个主表面)。例如，通过使用粒度#400的氧化铝磨粒(粒径大约40?60 μ m)，精加工成表面粗糙度Rmax为6 μ m左右。
[0058]在第I摩擦工序后，使用圆筒状的金刚石钻头等，对玻璃坯料的中心部实施取芯(内周切除)处理(步骤S22)。通过取芯处理，可以得到在中心部开设有孔的圆环状的玻璃基板。也可以对中心部的孔实施规定的倒角加工。
[0059]另外，利用刷子将玻璃基板的外周端面和内周端面研磨成镜面状(步骤S22)。作为研磨磨粒，可以采用含有氧化铈磨粒的浆料。
[0060](磨削/研磨工序)
[0061]接下来，在磨削/研磨工序(步骤S30)中，对玻璃基板的两个主表面实施第2摩擦工序(步骤S31)。第2摩擦工序使用双面研磨装置来进行，该双面研磨装置利用了行星齿轮机构。具体来说，从上下将平台按压至玻璃坯料的两个主表面，将水、磨削液或润滑液供给至两个主表面上，使玻璃坯料和摩擦平台相对移动，来进行第2摩擦工序。
[0062]通过第2摩擦工序(步骤S31)，对玻璃基板的大致的平行度、平坦度、以及厚度等进行预调整，从而得到具有大致平坦的主表面的玻璃母材。在第2摩擦工序中，为了减少产生的磨痕，使用比所述第I摩擦工序微细的磨粒。例如，通过在平台上安装金刚石研磨垫等固定磨粒，将玻璃基板的两个面上精加工至表面粗糙度Rmax为2μπι左右。
[0063]接下来，作为第I抛光工序(粗研磨)，去除在第2摩擦工序(步骤S31)中残留在玻璃基板的两个主表面上的划痕，同时对玻璃基板的翘曲进行矫正(步骤S33)。在第I抛光工序中，使用利用了行星齿轮机构的双面研磨装置。例如，使用硬质丝绒、聚氨酯发泡件、或浙青浸溃绒面革等研磨垫进行研磨。作为研磨剂，采用了以通常的氧化铈磨粒为主要成分的浆料。
[0064]在第2抛光工序(精密研磨)中，对玻璃基板再次实施研磨加工，以消除残留在玻璃基板的两个主表面上的微小缺陷等(步骤S34)。玻璃基板的两个主表面通过被精加工成镜面状，形成为所希望的平坦度，玻璃基板的翘曲也被消除。在第2抛光工序中，使用利用了行星齿轮机构的双面研磨装置。例如，使用以绒面革或丝绒为材料的作为软质抛光器的研磨垫，进行研磨。作为研磨剂，使用了以比在第I抛光工序中使用的氧化铈微细的通常的胶体二氧化硅为主要成分的浆料。
[0065]在此，参照图4，对双面研磨装置2000的概要结构进行说明。图4是在研磨工序中使用的双面研磨装置2000的局部立体图。
[0066]双面研磨装置2000具备:上平台(上侧磨具保持平台)300 ;下平台(下侧磨具保持平台)400 ;上侧研磨垫310，其被安装于上平台300的与下平台400相对的一侧(玻璃基板侧)的下表面上；以及下侧研磨垫410，其被安装于下平台400的与上平台300相对的一侧(玻璃基板侧)的上表面上。
[0067]上侧研磨垫310和下侧研磨垫410是用于对玻璃基板I的两个主表面进行研磨加工的加工工具。上平台300和下平台400相对于载具500的公转方向相互朝相反方向旋转。在形成于上平台300和下平台400之间的间隙中配置有载具500。多个盘状的玻璃基板I被保持在该载具500上。另外，之后会对载具500的详细结构进行描述。
[0068]可以在第2抛光工序(步骤S34)中进行上侧研磨垫310和下侧研磨垫410的表面清洗。上侧研磨垫310和下侧研磨垫的表面清洗可以在研磨工序(步骤S30)中的任意工序中进行，也可以在研磨工序(步骤S30)中的任意工序之间进行，或者，还可以在研磨工序(步骤S30)结束后进行。
[0069]在对玻璃基板I的两个主表面进行一次或多次研磨加工后，在双面研磨装置2000中进行上侧研磨垫310和下侧研磨垫410的表面清洗。上侧研磨垫310和下侧研磨垫410的表面可以在每进行一次或多次研磨时定期被清洗，或者，也可以不定期地被清洗。
[0070](化学强化工序)
[0071]在清洗玻璃基板后，使玻璃基板浸溃于化学强化处理液中，由此在玻璃基板的两个主表面形成化学强化层(步骤S40)。在清洗玻璃基板I后，将玻璃基板I浸溃于被加热至300°C的硝酸钾(70% )和硝酸钠(30% )的混合用液等化学强化处理液中30分钟左右，由此进行化学强化。
[0072]玻璃基板I中含有的锂离子、钠离子等碱金属离子被离子半径比这些离子大的钾离子等碱金属离子置换(离子交换法)。
[0073]由于因离子半径不同而产生的变形，在进行了离子交换后的区域中产生压缩应力，从而将玻璃基板I的两个主表面强化。例如，在玻璃基板I的两个主表面上，可以在从玻璃基板I的表面起大约5 μ m的范围内形成化学强化层，从而提高玻璃基板I的刚性。如上所述那样，可以得到相当于图1所示的玻璃基板I的玻璃基板。
[0074]也可以对玻璃基板I进一步实施两个主表面上的去除量为0.1 μ m以上且0.5 μ m以下的抛光处理。通过将经过了化学强化工序后残留在玻璃基板I的主表面上的附着物去除，可以减少在使用玻璃基板I制造出的磁盘上产生磁头碰撞的情况。另外，通过将抛光处理的两个主表面上的去除量设定为0.1 μ m以上且0.5 μ m以下，不会在表面上出现因化学强化处理而产生的应力不均匀性。本实施方式中的玻璃基板的制造方法如以上那样构成。
[0075]另外，也可以在第I抛光工序(粗研磨)与第2抛光工序(精密研磨)之间实施化学强化工序。
[0076](清洗工序)
[0077]接下来，对玻璃基板进行清洗(步骤S50)。利用洗涤剂、纯水、臭氧、IPA(异丙醇)、或UV (ultrav1let:紫外线)臭氧等对玻璃基板的两个主表面进行清洗，由此，附着在玻璃基板的两个主表面上的附着物被去除。
[0078]然后，利用光学式缺陷检查装置等检查玻璃基板I的表面上的附着物数量。
[0079](磁薄膜形成工序)
[0080]在完成化学强化处理后的玻璃基板(相当于图1所示的玻璃基板I)的两个主表面(或任意一个主表面)上形成磁性膜，由此形成磁薄膜层2。磁薄膜层是通过使以下各层依次成膜而形成的:由Cr合金构成的紧密贴合层、由CoFeZr合金构成的软磁性层、由Ru构成的取向控制基底层、由CoCrPt合金构成的垂直磁记录层、由C类构成的保护层和由F类构成的润滑层。通过形成磁薄膜层，能够得到相当于图2所示的磁盘10的垂直磁记录盘。
[0081]本实施方式中的磁盘是由磁薄膜层构成的垂直磁盘的一个例子。磁盘也可以由磁性层等构成为所谓的面内磁盘。
[0082](载具500)
[0083]接下来，参照图5至图7，对在上述磨削/研磨工序中的第2抛光工序中使用的双面研磨装置2000所采用的载具500的详细结构进行说明。图5是示出本实施方式中的载具500的俯视图，图6是示出本实施方式中的载具的尺寸关系的俯视图，图7是玻璃基板I的俯视图。
[0084]参照图5，本实施方式中的载具500具有圆盘形状的主体510，其厚度为大约
0.30mm?2.2mm，选择比要保持的玻璃基板I的厚度薄的厚度。载具500的直径为大约430mm。主体510可以采用芳纶纤维、FRP (玻璃环氧树脂)、PC (聚碳酸酯)等。
[0085]在载具500上设置有23处保持玻璃基板I的贯穿保持孔520。在本实施方式中，贯穿保持孔520具有:一个第I贯穿保持孔520C，其被配置在载具500的中心位置Cl的附近；和22个第2贯穿保持孔520P,它们围绕该第I贯穿保持孔520C呈环状地配置。在本实施方式中，第2贯穿保持孔520P被排列成为双重环状，在内环状线rl上，以等间隔排列有8个贯穿保持孔520P，在外环状线r2上，以等间隔排列有14个贯穿保持孔520P。贯穿保持孔520的直径为大约66.5mm。
[0086]在此，参照图6，在将玻璃基板I的直径设为Dmm、并将从载具500的中心位置Cl至第I贯穿保持孔520C的中心位置C2的距离设为的情况下，第I贯穿保持孔520C的中心位置C2被设置在满足[(D/4) ? (D/2)]的关系式的位置(图中以S表示的区域)处。
[0087]在本实施方式中，玻璃基板I的直径D是65mm，因此第I贯穿保持孔520C的中心位置C2被设置在16.25mm ^ r ^ 32.5mm的位置处。
[0088]本实施方式中的双面研磨装置2000将5个载具500呈环状地配置在上平台300与下平台400之间。在载具500的外周面设置有齿轮，但是省略了齿轮的图示。另外，载具500的半径是指在齿轮的齿顶圆处测量的情况下的尺寸。
[0089]在此，参照图8和图9，对下述情况下的双面研磨装置2000进行说明:载具500的中心位置Cl和第I贯穿保持孔520C的中心位置C2重合，即，将第I贯穿保持孔520C设置于载具500的中心。图8示出了将第I贯穿保持孔520C设置于载具500的中心的情况下的载具500。
[0090]在使用该图8所示的载具500并利用双面研磨装置2000进行了玻璃基板I的双面研磨的情况下，如图9所示，在驱动双面研磨装置2000时，配置在中心的玻璃基板I集中通过下研磨垫410的相同位置、即中间带区域BL1。
[0091]玻璃基板I集中通过下侧研磨垫410的相同位置即中间带区域BLl这一情况使得在研磨工序中，在下侧研磨垫410上的、玻璃基板I通过的部分，产生下侧研磨垫410的不均匀磨损，从而导致下平台400的中间带区域处的、下侧研磨垫410的硬度降低。
[0092]如果下平台400的中间带区域BLl处的、下侧研磨垫410的硬度降低，则在玻璃基板I通过硬度降低后的区域时，玻璃基板I倾斜并沉降，从而玻璃基板的端面形状变得不均匀。这并不限于下侧研磨垫410，在上侧研磨垫310上也会产生相同的现象。
[0093]另一方面，图5所示的本实施方式中的载具500被设置成，第I贯穿保持孔520C的中心位置C2处于从载具500的中心位置Cl偏离的位置处。
[0094]由此，即使在通过双面研磨装置2000进行玻璃基板I的双面研磨的情况下，也可以抑制由第I贯穿保持孔520C保持的玻璃基板I通过上侧研磨垫310和侧研磨垫410的相同位置的情况。
[0095]其结果是，能够抑制上侧研磨垫310和下侧研磨垫410产生不均匀磨损，从而防止上侧研磨垫310和下侧研磨垫410的硬度降低。由此，即使在进行了双面研磨的情况下，玻璃基板I也不会倾斜并沉降，能够将玻璃基板的端面形状保持得均匀。
[0096](实施例)
[0097]下面，对上述信息记录介质用玻璃基板的制造方法的各实施例和各比较例进行说明。在以下所示的各实施例和各比较例中，到图3所示的S33的“第I抛光工序(粗研磨)”为止，如上述的说明那样来实施。玻璃基板的个数对每一个条件来说都是总计115个。
[0098]在实施例1和实施例2中，使用了从载具500的中心位置Cl至第I贯穿保持孔520C的中心位置C2的距离rmm为20mm的载具。另一方面，在比较例I中，使用了将第I贯穿保持孔520C的中心位置C2设置于载具500的中心位置Cl的载具，在比较例2中，使用了 r为16.25mm以下即15mm的载具。
[0099]另外，在实施例2中，如图10所示，使用了这样的玻璃基板1:在比围绕第I贯穿保持孔520C呈环状地配置的第2贯穿保持孔520p更靠载具500的半径方向内侧的位置处，具有直径比贯穿保持孔520小的辅助贯穿孔520M。在该玻璃基板上设有4个辅助贯穿孔520M。辅助贯穿孔520M的直径为26mm，从载具500的中心位置Cl至辅助贯穿孔520M的中心位置的距离为50mm。
[0100]关于该辅助贯穿孔520M，在仅将I个第I贯穿保持孔520C设置于从载具500的中心位置Cl偏离的位置的情况下，载具500的重心位置偏离，从而在研磨过程中载具500可能产生变形，可能对上侧研磨垫310和下侧研磨垫410造成损伤。因此，可以将辅助贯穿孔520M设置在使得载具500的重心位置成为载具500的中心位置的位置处。由此，能够抑制因载具500变形而造成的上侧研磨垫310和下侧研磨垫410中的损伤产生。
[0101]另外，在各实施例和各比较例中，利用在第2抛光工序中使用的双面研磨装置预先进行了事先加工，将上下研磨垫表现出固有趋势的条件统一后实施了第2抛光工序，其中，在该事先加工中使用了在本试验中使用的玻璃基板之外的玻璃基板。具体来说，在进行本试验之前，使用在各实施例和各比较例中采用的载具，并利用在本试验中使用的双面研磨装置，以累计加工时间分别为大致共计40小时的方式，进行了事先的玻璃基板加工。在事先加工中，使用了与按照到上述S33工序为止的过程制成的玻璃基板相同的玻璃基板。通过事先加工，可以观察该实施例/比较例的载具所固有的、对研磨垫的磨损。
[0102](玻璃基板的端面测量)
[0103]图11示出实施例1、2和比较例1、2的评价结果。针对通过实施例1、2和比较例1、2所得到的玻璃基板，使用触针式表面测量仪，从玻璃基板的中心朝向半径方向测量Rl (22.25mm)这一点、R2 (27.25mm)这一点、以及R3 (31.25mm)这一点处的玻璃基板的高度，作为玻璃基板的端面部分的形状，将连接Rl和R2处的高度的线作为基准线，分析出了 R3位置处的高度的相对位移量。将该分析结果为±0.18μπι以内的产品判定为合格品。
[0104]另外，在实施例1、2和比较例1、2中，分别对50个玻璃基板进行端面测量，调查合格品的比例，将86%以上的玻璃基板在±0.18 μ m以内的情况设定为评价“Α”，并认为合格，在不足86%的情况下，设定为评价“C”，并认为不合格。
[0105]如图11所示，对于端面测量的结果，在实施例1和实施例2中得到了评价“A”。在比较例I和比较例2中为评价“C”。
[0106]这样，关于端面测量的结果，在比较例I和比较例2中，端面形状较差，而在实施例I和实施例2中，端面形状良好。在比较例I和比较例2中，由于保持在载具中心的玻璃基板反复通过上侧研磨垫310和下侧研磨垫410的中间带区域BL1，因而中间带区域BLl的不均匀磨损不断发展。其结果是，上侧研磨垫310和下侧研磨垫410的中间带区域BLl处的、上侧研磨垫310和下侧研磨垫410的硬度降低。
[0107]可以认为，由于上侧研磨垫310和下侧研磨垫410的中间带区域BLl的硬度降低，因而在玻璃基板I通过硬度降低后的区域时，玻璃基板I倾斜并沉降，从而导致玻璃基板的端面形状变得不均匀。
[0108]另一方面，在实施例1和实施例2中，玻璃基板通过中间带区域BLl的频率减小，中间带区域BLl处的、上侧研磨垫310和下侧研磨垫410的不均匀磨损得到抑制。其结果是，玻璃基板I的倾斜和沉降得到减轻，可以认为实现了玻璃基板的端面形状的改善。
[0109]对于在实施例1和实施例2中使用的研磨平台，在正式加工后测量了上下的研磨垫的平均厚度。关于对上侧研磨垫和下侧研磨垫的厚度测量，对内周附近、中间带区域、夕卜周附近分别各测量2处共计6处，进而求出了上侧研磨垫和下侧研磨垫的平均值。
[0110]如图11所示，与实施例1相比较，在实施例2中，上侧研磨垫310和下侧研磨垫410的磨损的平均值较小，为大约15 μ m。这是因为，在实施例2的情况下，通过设置辅助贯穿孔520M，将载具500的重心位置校正为载具500的中心位置Cl，由此，与实施例1的载具500相比，载具500所产生的铅直方向的变形减小，从而抑制了上侧研磨垫310和下侧研磨垫410中的损伤产生。
[0111]进而，对通过上述实施例1-2和比较例1-2得到的玻璃基板实施了图3所示的化学强化工序(S40)、清洗工序(S50)和磁薄膜形成工序(S60)，得到了信息记录介质。
[0112]将该信息记录介质装入硬盘驱动器，进行了读写试验。使用了通过比较例1-2得到的玻璃基板的信息记录介质在信息记录介质的外周附近产生了无法记录的区。另一方面，使用了通过实施例1-2得到的玻璃基板的信息记录介质即使在信息记录介质的外周附近也能够实现良好的记录。
[0113]另外，上述实施例对将本发明应用到第2抛光工序(精密研磨)S34的情况进行了说明，但是，无论是在将本发明应用到第I抛光工序(粗研磨)S33的情况下、还是在将本发明应用到第I抛光工序(粗研磨)S33和第2抛光工序(精密研磨)S34这两个工序的情况下，都能够获得同样的作用效果。
[0114]如以上那样对本发明的实施方式和实施例进行了说明，应该认为此次公开的实施方式和实施例在所有方面都是例示而不受限制。本发明的范围由权利要求书、而不由上述说明来表示，旨在包含与权利要求同等的意思和范围内的所有变更。
[0115]标号说明
[0116]IA:正面主表面；1B:背面主表面；1C:内周端面；1D:外周端面；1H:孔；2:磁薄膜层；10:磁盘；300:上平台；310:上侧研磨垫;310g、410g:槽；400:下平台；410:下侧研磨垫；500:载具；510:主体；520:贯穿保持孔；520C:第I贯穿保持孔；520P:第2贯穿保持孔；520M:辅助贯穿孔；2000:双面研磨装置。
【权利要求】
1.一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，所述信息记录介质在圆盘形状的玻璃基板的主表面上形成有磁薄膜层，在所述信息记录介质用玻璃基板的制造方法中， 具有表面研磨工序，在该表面研磨工序中，利用具备行星齿轮机构的双面研磨装置，一边供给研磨剂一边研磨所述玻璃基板的主表面， 所述双面研磨装置具备: 上平台，其位于所述玻璃基板的上侧，且在该上平台的所述玻璃基板侧具有上侧研磨垫； 下平台，其位于所述玻璃基板的下侧，且在该下平台的所述玻璃基板侧具有下侧研磨垫；以及 圆盘状的载具，其设有多个保持所述玻璃基板的贯穿保持孔，所述载具被所述上侧研磨垫和所述下侧研磨垫夹着，并且通过所述行星齿轮机构进行规定的旋转运动， 所述贯穿保持孔具有:被配置在所述载具的中心位置附近的一个第I贯穿保持孔；和围绕所述第I贯穿保持孔呈环状地配置的多个第2贯穿保持孔， 在将所述玻璃基板的直径设为Dmm、并将从所述载具的中心位置至所述第I贯穿保持孔的中心位置的距离设为r_的情况下，所述第I贯穿保持孔的中心位置被设置在满足[(D/4) ^ (D/2)]的关系式的位置处。
2.根据权利要求1所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中， 在所述载具的、比围绕所述第I贯穿保持孔呈环状地配置的所述第2贯穿保持孔靠所述载具的半径方向内侧的位置处，还具有直径比所述贯穿保持孔小的辅助贯穿孔。
3.一种信息记录介质，其中，所述信息记录介质具备: 玻璃基板，其是通过信息记录介质用玻璃基板的制造方法得到的；和 磁薄膜层，其形成在所述玻璃基板的主表面上， 所述信息记录介质用玻璃基板的制造方法具有表面研磨工序，在该表面研磨工序中，利用具备行星齿轮机构的双面研磨装置，一边供给研磨剂一边研磨所述玻璃基板的主表面， 所述双面研磨装置具备: 上平台，其位于所述玻璃基板的上侧，且在该上平台的所述玻璃基板侧具有上侧研磨垫； 下平台，其位于所述玻璃基板的下侧，且在该下平台的所述玻璃基板侧具有下侧研磨垫；以及 圆盘状的载具，其设有多个保持所述玻璃基板的贯穿保持孔，所述载具被所述上侧研磨垫和所述下侧研磨垫夹着，并且通过所述行星齿轮机构进行规定的旋转运动， 所述贯穿保持孔具有:被配置在所述载具的中心位置附近的一个第I贯穿保持孔；和围绕所述第I贯穿保持孔呈环状地配置的多个第2贯穿保持孔， 在将所述玻璃基板的直径设为Dmm、并将从所述载具的中心位置至所述第I贯穿保持孔的中心位置的距离设为r_的情况下，所述第I贯穿保持孔的中心位置被设置在满足[(D/4)(D/2)]的关系式的位置处。
【文档编号】B24B37/08GK104170012SQ201380011741
【公开日】2014年11月26日 申请日期:2013年3月6日 优先权日:2012年3月30日
【发明者】小松隆史 申请人:Hoya株式会社