用于在磁记录介质中使用的粘合膜层用CrTi系合金,使用其获得的用于溅射的靶材和垂 ...的制作方法
【专利摘要】本发明提供了用于在磁记录介质中使用的粘合膜层用CrTi系合金和用于溅射的靶材，以及使用该合金的垂直磁记录介质。该合金是一种CrTi系合金，其具有按原子比计由(Cr，Mo，W)x(Ti，Ta，Zr)100-X，40≤X≤70表示的组成式；其中合金中的Cr元素被选自Mo和W中的一种或两种元素在以下Mo+W的范围内取代：10原子％至X/2原子％；并且合金中的Ti元素被选自Ta和Zr中的一种或两种元素在Ta+Zr≤20原子％(包括0原子％)的范围内取代。
【专利说明】用于在磁记录介质中使用的粘合膜层用CrTi系合金，使用 其获得的用于溅射的靶材和垂直磁记录介质
[0001] 相关申请的交叉引用
[0002] 本申请要求在2012年4月18日提交的日本专利申请号2012-94409的优先权，其 全部内容通过引用被结合在此。
【技术领域】
[0003] 本发明涉及用于在磁记录介质中使用的粘合膜层用CrTi系合金和使用该合金的 用于溅射的靶材以及垂直磁记录介质。
【背景技术】
[0004] 近年来，在磁记录技术上已有显著的进步，为了增加驱动器容量，已持续提高磁记 录介质中的记录密度，并且与常规使用的纵向磁记录介质相比达到更高记录密度的垂直磁 记录系统已进入实际应用。而且，也已经研究了其中应用垂直磁记录系统的通过热或微波 来辅助记录的方法。垂直磁记录系统是其中易磁化轴定向在垂直于垂直磁记录介质的磁性 膜的介质面的方向上的系统，并且是适用于高记录密度的方法。
[0005] 在垂直磁记录系统中，其中将软磁性衬里层和垂直磁记录层组合的双层式垂直磁 记录介质与磁单极型磁头的组合对于达到高记录密度是有效的。然而，因为软磁衬里层的 膜厚度有几十nm到数百nm那么多，该膜厚度可能导致劣化的表面平坦性，并可能对垂直磁 记录层的形成以及磁头的漂浮性造成不利影响。而且，它的高的膜应力可以导致劣化的向 玻璃基板的粘合。
[0006] 作为解决这种问题的手段，已经使用了一种磁记录介质，其中在玻璃基板和 软磁性衬里层之间形成用于增强粘合性的粘合层，例如，如在日本专利公开
【发明者】松原庆明, 长谷川浩之, 泽田俊之 申请人:山阳特殊制钢株式会社