1.一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
具有对磁记录介质用玻璃基板的主表面进行研磨的主表面研磨工序，
所述主表面研磨工序依次包括：
第一主表面研磨步骤，在该第一主表面研磨步骤中，将研磨片压紧于磁记录介质用玻璃基板的主表面，一边供给研磨液，一边使所述磁记录介质用玻璃基板及所述研磨片旋转，以对所述主表面进行研磨；
第一动态水清洗步骤，在该第一动态水清洗步骤中，供给水以代替研磨液，并使所述磁记录介质用玻璃基板及所述研磨片旋转以进行清洗；以及
第二主表面研磨步骤，在该第二主表面研磨步骤中，供给研磨液以代替水，并使所述磁记录介质用玻璃基板及所述研磨片旋转，以对所述主表面进行研磨。
2.如权利要求1所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述主表面研磨工序还具有第二动态水清洗步骤，该第二动态水清洗步骤在所述第二主表面研磨步骤结束后，供给水以代替研磨液，并使所述磁记录介质用玻璃基板及所述研磨片旋转以进行清洗。
3.如权利要求1或2所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
具有多个对所述磁记录介质用玻璃基板的主表面进行研磨的工序，
在对所述磁记录介质用玻璃基板的主表面进行研磨的工序中的最后的工序中，实施所述主表面研磨工序。
4.如权利要求1至3中任一项所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述研磨液是胶体二氧化硅。
5.如权利要求1至4中任一项所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方 法，其特征在于，
所述第二主表面研磨步骤的时间为30秒以上8分钟以下。