技术领域本发明涉及一种镀膜系统，特别是涉及易排气镀膜装置。
背景技术：
镀膜是一种被广泛应用于工业生产中的技术以改变工件的表面特性，为了能够使工件的表面获得多种不同的性能，往往需要对工件进行多重镀膜，因此，需要将镀膜工件在不同的镀膜机之间转换从而获得不同的镀膜层。
技术实现要素：
本发明主要解决的技术问题是如何提供一种避免了镀膜气体的污染，且提高了镀膜的质量，且镀膜的方式较为方便，使用工厂的大规模的使用的易排气镀膜装置。为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种易排气镀膜装置，包括：中央处理器、镀膜室、驱动装置、真空镀膜装置、冷却室和若干排气装置，所述驱动装置、真空镀膜装置均位于所述镀膜室内，所述冷却室与镀膜室之间相互排列，所述排气装置位于冷却室内。在一个较佳实施例中，所述中央处理器与所述镀膜室外部。在一个较佳实施例中，所述中央处理器与所述驱动装置之间控制连接。本发明的有益效果是：避免了镀膜气体的污染，且提高了镀膜的质量，且镀膜的方式较为方便，使用工厂的大规模的使用。附图说明为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：图1是本发明易排气镀膜装置一具体实施例的结构示意图。具体实施方式下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。请参阅图1，在本发明的一个具体实施例中提供一种易排气镀膜装置，所述的易排气镀膜装置包括：中央处理器、镀膜室、驱动装置、真空镀膜装置、冷却室和若干排气装置，所述驱动装置、真空镀膜装置均位于所述镀膜室内，所述冷却室与镀膜室之间相互排列，所述排气装置位于冷却室内。所述中央处理器与所述镀膜室外部。所述中央处理器与所述驱动装置之间控制连接。因此，本发明具有以下优点：避免了镀膜气体的污染，且提高了镀膜的质量，且镀膜的方式较为方便，使用工厂的大规模的使用。以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。