技术总结
本发明涉及一种内外喷气式低压化学气相沉淀腔，包括腔体，所述腔体中内置有导气结构及用于支撑晶圆的支撑结构，所述导气结构为一环形腔套，所述环形腔套的内壁安装有多根径向设置的外导气管，所述支撑结构包括一支撑管，所述支撑管轴向设置于所述环形腔套中，所述支撑管的周壁上借助卡夹夹持晶圆，支撑管中轴承设有内导气管，所述内导气管与所述支撑管之间设有多根导管，所述导管的出气端置于相邻的卡夹之间。本发明采用环状形的导气结构及置于该导气结构中的支撑管，支撑管采用放射方式固定晶圆，大大降低晶圆的支撑体积，减小整个沉淀腔的体积，并采用内外导气结构，提高反应气体与晶圆的接触均匀度。
技术研发人员：吕耀安
受保护的技术使用者：无锡宏纳科技有限公司
文档号码：201610885383
技术研发日：2016.10.10
技术公布日：2016.12.21