技术总结
一种电弧离子源清洗基片装置，涉及一种清洗基片装置，包括真空室（7）、工件架（8）、电弧离子源组件A（2）和电弧离子源组件B（4），在真空室（7）内设有工件架（8），在真空室（7）内的一侧壁上设有耐高温挡板（1），在真空室（7）的外部设有并排间隔设置的电弧离子源组件A（2）与电弧离子源组件B（4），在电弧离子源组件A（2）与电弧离子源组件B（4）上均设有进气口（3）；本实用新型通过在真空室内设置耐高温挡板，在耐高温挡板的下部设置偏压电源，实现了清洗能量高、工作稳定、使用成本低的有益效果。
技术研发人员：邹杨;孙蕾;杨宜珍;邹松东;孙凌
受保护的技术使用者：洛阳奥尔材料科技有限公司
文档号码：201620592387
技术研发日：2016.06.17
技术公布日：2016.12.14